Electron beam trajectory simulation results on the high voltage FED with cone-type field emitters predict that the cross-talk phenomena would be seen due to the divergence of the electron beam. In this study, computer simulations with design of experiment technique and the SNU-FEAT program were carried out for five input parameters of the aperture focusing structure. The results tell that the focusing voltage is a dominant factor. And, the beam divergence index could be reduced to 10.7$\mu\textrm{m}$ with the aperture focusing structure, however, the operating voltage of the field emitter is predicted to increase by 40% maximum.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.17
no.5
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pp.306-309
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2016
The Cs3Sb photocathode was formed by non-vacuum process technology. An in-situ vacuum device was fabricated successively with flat cesium antimonide photocathode emitters fabricated in a process chamber. The electrical properties of the device were characterized. Electron emission from the devices was induced by photoemitted electrons, which were accelerated by an anode electric field that was shielded from the photoemitter surface. The electrical characteristics of the devices were investigated by measuring the anode current as a function of device operation times with respect to applied anode voltages. Planar blue LED light with a 450 nm wavelength was used as an excitation source. The results showed that the cesium antimonide photocathode emitter has the potential of long lifetime with stable electron emission characteristics in panel devices. These features demonstrate that the cesium antimony photocathodes produced by non-vacuum processing technology is suitable for flat cathodes in panel device applications.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.08a
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pp.383-383
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2011
Generally, field emitters can be categorized into two types according to the emitter shape, one is a planar field emitter and the other is a point emitter. The planar field emitter is used for displays, flat lamps and signage boards. On the other hands, the point field emitter is expected to play a significant role in x-ray sources and electron beam sources. Such applications of the point field emitters, especially, need large emission current and high emission stability with a small electron beam size. A few reports announced point emitters made by carbon nanotubes (CNTs). However, they still have suffered from poor reproducibility and low emission current. Here, we demonstrated high performance CNT point emitters by attaching CNTs onto graphite rod. Graphite rod exhibited good electrical conductivity and chemical stability. In this method, the shape of the point emitter could be easily controlled by changing the length and diameter of the graphite rod. The CNT point emitter showed emission current over 1 mA at an applied electric field of 1.4 V/${\mu}m$. We consider that the stable emission performance is attributed to the stable contact between CNTs and graphite rod.
Aligning a cathode tip at the center of a gate hole is important in gated filed emission devices. We have fabricated a silicon field emitter using a following process so that a cathode and a gate hole are automatically aligned . After forming silicon tips on a silicon wafer, the wafer was covered with the $SiO_2$, gate metal, and photoresistive(PR) films. Because of the viscosity of the PR films, a spot where cathode tips were located protruded above the surface. By ashing the surface of the PR film, the gate metal above the tip apex was exposed when other area was still covered with the PR film. The exposed gate metal and subsequenlty the $SiO_2$ layer were selectively etched. The result produced a field emitter in which the gate film was in volcano shape and the cathode tip was located at the center of the gate hole. Computer simulation showed that the volcano shape and the cathode tip was located at the center of the gat hole. Computer simulation showed that the volcano shape emitter higher current and the electron beam which was focused better than the emitter for which the gate film was flat.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.16
no.4
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pp.330-335
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2003
This paper reports the optimum structure of the vacuum packaged Porous poly-silicon Nano-Structured (PNS) emitter. The PNS layer was obtained by electrochemical etching process into polycrystalline silicon layer in a process controlled to anodizing condition. Current-voltage studies were carried out to optimize process condition of electron emission properties as a function of anodizing condition and top electrode thickness. Also, we measured in advance the electron emission properties as a function of substrate temperature because the vacuum packaged process was performed under the condition of high temperature ambient (430$^{\circ}C$). Auger Electron Spectrometer (AES) studies shows that Au as a top-electrode was diffused to PNS layer during temperature experiments. Thus, we optimized the thickness of top-electrode in order to make the vacuum package PNS emitter. As a result, the vacuum Packaged PNS emitter was successfully emitted by optimizing process.
Kim, Jong-Pil;Noh, Young-Rok;Chang, Han-Beet;Park, Jin-Seok
Journal of the Semiconductor & Display Technology
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v.10
no.2
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pp.115-119
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2011
A tip-type carbon nanotube(CNT)-based field emitter was studied to consider it as electron source for micro-focused x-ray tube. The CNT was grown directly on a metal (tungsten) substrate by using an inductively coupled plasma-chemical vapor deposition (ICP-CVD) method. Prior to CNT growth, the metal substrate was etched to have various tip angles from $10^{\circ}$ to $180^{\circ}C$ (flat-type). The morphologies and microstructures of all the grown CNTs were analyzed via field-emission SEM. Furthermore, the effects of substrate tip-angles on the emission properties of CNT-based field emitters were characterized to estimate the maximum current density, the turn-on voltage, and the spatial distribution of electron beams. Prolonged long-term stability testing of the CNT emitters was also performed. All the experiment results obtained from this study indicated why a tip-type CNT emitter, compared with a flat-type CNT emitter, would be more desirable for a micro-focused x-ray system, in terms of the emission current level, the focused beam area, and the emission stability.
We report on a new type of a flat and thin display with a secondary emission electron source. In this display device electrons are multiplied between two secondary emission plates under a high frequency electric field. This principle has a few important advantages over a field emission display: the emission comes from flat plates, which reduces the life-time problems of ion bombardment of field emitter tips. Furthermore, the electron emission is space charge limited which gives a uniform electron distribution. The electrons are extracted from the source and accelerated to a phosphor screen to generate light. Gray levels are made by pulse width modulation.
Jung, S.J.;Woo, K.J.;Lee, N.Y.;Ahn, S.;Moon, G.J.;Kim, K.S.;Kim, M.S.
Journal of Korean Vacuum Science & Technology
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v.3
no.1
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pp.95-97
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1999
A 3.12" FED panel was packaged successfully using the anode plate on which phosphors and black matrix were coated and cathode plate containing emitter arrays. The vacuum level of the panel was investigated during panel evacuation, tip-off and getter activation process. The packaged panel exhibited vacuum level below 2${\times}$10-6 Torr. Similar experiments were carried out for 10" panel made of bare plates. In addition, the vacuum level of two panels was compared continuously after tip off process; one with the getter and the other without it.
In this study, ink-jet technology is applied to the emitter fabrication for surface-conduction electron-emitter display (SED). The general emiiter material of SED, palladium oxide (PdO), is prepared by calcination the mixture of solvent and precursors of platinum chlorine and platinum nitrate. With controlling the precursors and solvents, the PdO is formed below $400^{\circ}C$ which is required for SED process.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.16
no.8
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pp.723-730
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2003
The CN(carbon nitrogen) nanofibers were formed by HIP(high isostatic pressure) process. From the field emission measurement, CN nanofibers shows an excellent characteristics of emitter, better than CNTs and carbon nanofibers. The structures obtained can be divided into three groups : bamboo-like fibers, corrugated structures and bead necklace-like fib res. Emission properties of CN nanofibers were investigated for spacing, between anode and cathode, variation. Turn-on fields was 1.4 v/$\mu\textrm{m}$. The time reliability and light emission test were carried out for about 100 hours. We suggest that CN nanofibers can be possibly applied to the high brightness flat lamp because of low turn-on field and time reliability
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[게시일 2004년 10월 1일]
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