• 제목/요약/키워드: EWMA control parameter

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동적 모수를 사용한 EWMA 제어의 시뮬레이션 연구 (A Simulation study of EWMA control using dynamic control parameter)

  • 강석찬;황지빈;김성식;김지현
    • 한국시뮬레이션학회논문지
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    • 제16권2호
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    • pp.37-44
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    • 2007
  • EWMA(지수가중평균)을 사용한 제어 방법은 반도체 제조 공정의 런투런 제어 환경에서 사용되는 대표적인 제어 방법이다. EWMA 제어에서는 제어 모수 값의 선택이 제어 결과에 주된 영향을 미치기 때문에, 공정 상황에 적합한 제어 모수 값을 사용하는 것이 중요하다. 불안정적인 공정 상황에서는 변화하는 공정 상황에 적합한 값으로 EWMA 제어 모수를 동적으로 변경하면서 제어해 주는 것이 고정된 모수 값을 사용하는 EWMA 제어에 비해 효율적이다. 본 연구에서는 동적인 EWMA 제어 모수를 사용한 기존 연구들을 살펴보고 이들의 단점을 보완한 새로운 알고리즘을 제시하며, 시뮬레이션을 통해 우수한 수행 결과를 확인하였다.

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가변모수를 갖는 EWMA 관리도 (EWMA Control Charts with Variable Parameter)

  • 이재헌;한정희
    • 품질경영학회지
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    • 제33권4호
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    • pp.117-122
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    • 2005
  • Variable sampling rate(VSR) scheme varies the sampling rate for the current sample depending on the previous value of the control statistic. In this paper, we propose EWMA control charts with variable parameter(VP) scheme, which allows both the sample rate(the sample size or the sampling interval) and the weight to vary. We investigate the effectiveness of the VP scheme relative to the fixed parameter(FP) scheme and the VSR scheme in EWMA control charts. It is shown that using the VP scheme gives some improvements to the ability in detecting small and moderate shifts in the process normal mean.

Optimal Design of a EWMA Chart to Monitor the Normal Process Mean

  • Lee, Jae-Heon
    • 응용통계연구
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    • 제25권3호
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    • pp.465-470
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    • 2012
  • EWMA(exponentially weighted moving average) charts and CUSUM(cumulative sum) charts are very effective to detect small shifts in the process mean. These charts have some control-chart parameters that allow the charts and be tuned and be more sensitive to certain shifts. The EWMA chart requires users to specify the value of a smoothing parameter, which can also be designed for the size of the mean shift. However, the size of the mean shift that occurs in applications is usually unknown and EWMA charts can perform poorly when the actual size of the mean shift is significantly different from the assumed size. In this paper, we propose the design procedure to find the optimal smoothing parameter of the EWMA chart when the size of the mean shift is unknown.

3개의 모수영역을 모니터링하는 EWMA 관리도 (EWMA control charts for monitoring three parameter regions)

  • 김유경;이재헌
    • 응용통계연구
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    • 제35권6호
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    • pp.725-737
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    • 2022
  • 통계적 공정 모니터링에서 관리 상태일 때 품질 특성치의 모수값은 하나의 값으로 지정하는 경우가 대부분이다. 그러나 관리 상태로부터 공정 모수의 작은 변화는 실제적으로 크게 중요하지 않은 경우, 품질 특성치의 모수 영역은 관리 상태, 무관심, 그리고 이상 상태의 세 영역으로 구성될 수 있다. 이 논문에서는 3개의 모수 영역이 있는 공정에 적용할 수 있는 두 가지 지수가중 이동평균(exponentially weighted moving average; EWMA) 관리도 절차를 제안하고, 제안된 절차의 성능을 Shewhart 관리도 및 누적합(cumulative sum; CUSUM) 관리도와 비교하여 그 효율을 평가하였다.

EWMA 기법을 적용한 CV 관리도의 개발 (Development of CV Control Chart Using EWMA Technique)

  • 홍의표;강창욱;백재원;강해운
    • 산업경영시스템학회지
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    • 제31권4호
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    • pp.114-120
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    • 2008
  • The control chart is widely used statistical process control(SPC) tool that searches for assignable cause of variation and detects any change of process. Generally, ${\bar{X}}-R$ control chart and ${\bar{X}}-S$ are most frequently used. When the production run is short and process parameter changes frequently, it is difficult to monitor the process using traditional control charts. In such a case, the coefficient of variation (CV) is very useful for monitoring the process variability. The CV control chart is an effective tool to control the mean and variability of process simultaneously. The CV control chart, however, is not sensitive at small shift in the magnitude of CV. In this paper, we propose an CV-EWMA (exponentially weighted moving average) control chart which is effective in detecting a small shift of CV. Since the CV-EWMA control chart scheme can be viewed as a weighted average of all past and current CV values, it is very sensitive to small change of mean and variability of the process. We suggest the values of design parameters and show the results of the performance study of CV-EWMA control chart by the use of average run length (ARL). When we compared the performance of CV-EWMA control chart with that of the CV control chart, we found that the CV-EWMA control chart gives longer in-control ARL and much shorter out-of-control ARL.

Comparisons of Multivariate Quality Control Charts by the Use of Various Correlation Structures

  • Choi, Sung-Woon;Lee, Sang-Hoon
    • 한국경영과학회지
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    • 제20권3호
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    • pp.123-146
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    • 1995
  • Several quality control schemes have been extensively compared using multivariate normal data sets simulated with various correlation structures. They include multiple univariate CUSUM charts, multivariate EWMA charts, multivariate CUSUM charts and Shewhart T$^{3}$ chart. This paper considers a new approach of the multivariate EWMA chart, in which the smoothing matrix has full elements instead of only diagonal elements. Performance of the schemes is measured by avaerage run length (ARL), coefficient of variation of run length (CVRL) and rank in order of signaling of off-target shifts in the process mean vector. The schemes are also compared by noncentrality parameter. The multiple univariate CUSUM charts are generally affected by the correlation structure. The multivariate EWMA charts provide better ARL performance. Especially, the new EWMA chart shows remarkable results in small shifts.

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백색잡음과 Shift가 존재하는 공정에서 제어식이 부정확한 경우의 최적 보정 (Optimal Adjustment of Misestimated Control Model for a Process with Shift and White Noise)

  • 황지빈;김지현;이재현;김성식
    • 한국시뮬레이션학회논문지
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    • 제16권4호
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    • pp.43-55
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    • 2007
  • 생산 공정 제어방법들 중에서 이동평균 제어와 지수가중치 이동평균 제어는 가장 널리 사용되는 제어이다. 두 제어는 모두 정확한 제어식을 알고 있다는 전제 하에 최적화된 제어들이다. 이 논문에서는 제어식의 잘못된 예측으로부터 발생하는 문제점에 대해 다루었다. 추정한 모수의 정확도와 가중치 $\lambda$의 범위에 의해 결정되는 각각의 제어방식의 제어한계에 대해서 확인하고 제어 간의 성능을 평가하였다. 또한 잘못 추정된 모델이 존재하는 공정에서 Shift가 발생하였을 때 최적의 제어와 그것을 실제 공정에서 어떻게 적용할지에 대해서 연구하였다. 시뮬레이션을 통해 제안하는 방법의 효용성을 검증하였다.

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Adaptive DeadBand를 애용한 반도체공정 제어 (Research for Adaptive DeadBand Control in Semiconductor Manufacturing)

  • 김준석;고효헌;김성식
    • 대한안전경영과학회지
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    • 제7권5호
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    • pp.255-273
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    • 2005
  • Overlay parameter control of the semiconductor photolithography process is researched in this paper. Overlay parameters denote the error in superposing the current pattern to the pattern previously created. The reduction of the overlay deviation is one of the key factors in improving the quality of the semiconductor products. The semiconductor process is affected by numerous environment and equipment factors. Through process condition prediction and control, the overlay inaccuracy can be reduced. Generally, three types of process condition change exist; uncontrollable white noise, slowly changing drift, and abrupt condition shift. To effectively control the aforementioned process changes, control scheme using adaptive deadband is proposed. The suggested approach and existing control method are cross evaluated through simulation.

초기공정에서 공정변화에 대한 신경망을 이용한 관리도 형태 연구 (A study on the control chart pattern for detecting shifts using neural network in start-up process)

  • 이희춘
    • 한국산업정보학회논문지
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    • 제6권3호
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    • pp.65-70
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    • 2001
  • 이 논문에서는 초기공정에서 개별관측치를 이용하여 공정변화를 지적하는 효율적인 관리도 패턴을 제시한다. 신경망 모델을 적용한 공정관리 기법이 부분적으로 통계적이거나 다른 분석기법보다 우월하지 않을 수도 있지만 학습된 자료관계는 분석적 가정이나 잘못된 모수 때문에 발생되는 오류를 평가할 수 있는 능력이 있으므로 완벽한 공정관리 모델을 추구할 수 있다. 이 논문에서는 BP 알고리즘을 사용하며, 신경망을 이용한 관리도는 작은 공정변화에 특히 예민하다. 공정관리에 영향을 주는 최적의 모수를 구하는 유용한 방법이 신경망을 이용하는 방법임을 제시하며 신경망을 이용한 관리도와 X, EWMA 관리도 비교를 위해 평균 런의 길이를 이용한다.

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