Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.5
no.1
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pp.34-37
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2004
Amorphous chalcogenide thin films, especially a-(Se, S) based films, exhibit a number of photo-induced phenomena. In this study, we make the As$\_$40/Ge$\_$10/Se$\_$15/S$\_$35//Ag thin film and then we measure the holographic diffraction efficiency according to thickness of Ag. And we form the two-dimensional holographic grating. At first, we formed one-dimensional grating and then we form two-dimensional grating by rotate the sample. We found out the most suitable thickness of Ag and in case of As$\_$40/Ge$\_$10/Se$\_$15/S$\_$35//Ag(600${\AA}$), the diffraction efficiency was more higher than other samples. The holographic grating was formed by He-Ne laser(λ=632.8nm). The intensity of incident beam was 2.5mW and incident angle was 20$^{\circ}$. We confirm. the two-dimensional holographic grating by the pattern of diffracted beam and AFM(Atomic Force Microscope) image. We perform the etching process using by 0.26N NaOH in order to confirm clearly two-dimensional grating.
A diffraction grating is a highly symmetric optical element with a physical structure that is invariant under translational spatial movements. The translational symmetry is reflected in the fields that are diffracted from the grating. Here, we introduce a plane-parallel mirror pair onto the grating, which translates the fields through double reflections, and we describe a method of exploiting the symmetry to enhance the spectral resolution of a diffraction grating beyond the limit that is set by the number of grooves. The mirror pair creates another virtual grating beside the original one, effectively doubling the number of grooves. Addition of more mirror pairs can further increase the effective number of grooves despite the increased complexity and difficulty of experimental implementation. We experimentally demonstrate the spectral linewidth reduction by a factor of four in a neon fluorescence spectrum. Even though the geometrical restriction on the mirror deployment limits our method to a certain range of the whole spectrum, as a practical application example, a bulky spectrometer that is nearly empty inside can be made compact without sacrificing the resolution.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.55
no.9
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pp.423-428
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2006
We have been carried out the two-beam interference method to form the diffraction grating on chalcogenide $AS_{40}Se_{15}S_{35}Ge_{10}$ thin films for Holography Data Storage (HDS). In the present work, we have been formed holographic diffraction gratings using He-Ne laser (632.8nm) under different Polarization state combinations (intensity polarization holography, phase polarization holography). It was obtained the diffraction grating efficiency by 11st order intensity and investigated the formed grating structure using Atomic Force Microscopy (AFM). As the results, it is shown that the diffraction efficiency of (P: P) polarized recording was maximum 2.4% and we found that its value was rather higher than that of other-polarized recordings. From the results, it is confirmed that the efficient holographic grating formation on amorphous chalcogenide $AS_{40}Se_{15}S_{35}Ge_{10}$ films depend on both the spatial variation of intensity and the polarization state of the incident field pattern.
In this paper, we investigated the diffraction grating efficiency on AsSeS and Ag-doped amorphous chalcogenide Ag/AsSeS thin film for used to volume hologram. The Chalcogenide film thickness was 0.5um and Ag thin film was varied from 10nm and 20nm. Diffraction efficiency was obtained from (P:P) polarized Diode Pumped Solid State laser(DPSS, 532.0nm: 200mW) beam on AsSeS and Ag/AsSeS thin films. As a results, diffraction grating was not formed at AsSeS thin film but at Ag-doped AsSeS thin film, diffraction grating was formed well compare with the former.
Kim, Jong-Ahn;Bae, Eui-Won;Kim, Kyung-Chan;Kim, Soo-Hyun;Kwak, Yoon-Keun
Proceedings of the KSME Conference
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2000.04a
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pp.415-419
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2000
Multi-degree-of-freedom (MDOF) displacement measurement Is needed In many application fields: precision machine control, precision assembly, vibration analysis, and so on. This paper presents a new MDOF displacement measurement method using a laser diode (LD), two position-sensitive detectors (PSDs), and a conventional diffraction grating. It utilizes typical features of a diffraction grating to obtain the information of MDOF displacement. MDOF displacement is calculated from the independent coordinate values of the diffracted ray spots on the PSDs. Forward and inverse kinematic problems were solved to compute the MDOF displacement of a rigid body. Experimental results show maximum absolute errors of less than ${\pm}10$ micrometers in translation and ${\pm}30$ arcsecs in rotation.
Kim Jong-Ahn;Kim Jae-Wan;Park Byong-Chon;Kang Chu-Shik;Eom Tae-Bong
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.23
no.8
s.185
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pp.72-79
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2006
We measured grating pitch standards using optical diffractometry and analyzed measurement uncertainty. Grating pitch standards have been used widely as a magnification standard for a scanning electron microscope (SEM) and a scanning probe microscope (SPM). Thus, to establish the meter-traceability in nano-metrology using SPM and SEM, it is important to certify grating pitch standards accurately. The optical diffractometer consists of two laser sources, argon ion laser (488 nm) and He-Cd laser (325 nm), optics to make an incident beam, a precision rotary table and a quadrant photo-diode to detect the position of diffraction beam. The precision rotary table incorporates a calibrated angle encoder, enabling the precise and accurate measurement of diffraction angle. Applying the measured diffraction angle to the grating equation, the mean pitch of grating specimen can be obtained very accurately. The pitch and orthogonality of two-dimensional grating pitch standards were measured, and the measurement uncertainty was analyzed according to the Guide to the Expression of Uncertainty in Measurement. The expanded uncertainties (k = 2) in pitch measurement were less than 0.015 nm and 0.03 nm for the specimen with the nominal pitch of 300 nm and 1000 nm. In the case of orthogonality measurement, the expanded uncertainties were less than $0.006^{\circ}$. In the pitch measurement, the main uncertainty source was the variation of measured pitch values according to the diffraction order. The measurement results show that the optical diffractometry can be used as an effective calibration tool for grating pitch standards.
We investigated the diffraction grating efficiency by the DPSS laser beam wavelength to improve the diffraction efficiency on AsGeSeS & Ag/ AsGeSeS thin film. Diffraction efficiency was obtained from DPSS(532nm)(P:P)polarized laser beam on AsGeSeS, Ag/ AsGeSeS and AsGeSeS/Ag/AsGeSeS thin films. As a result, for the laser beam intensity, 0.24 mW, single AsGeSeS thin film shows the highest value of 0.161% diffraction efficiency at 300 s and for 2.4 mW, it was recorded with the fastest speed of 50 s, which the diffraction grating forming speed is faster than that of 0.24 mW beam. Ag/ AsGeSeS and AsGeSeS/ Ag/ AsGeSeS multi-layered thin film also show the faster grating forming speed at 2.4 mW and higher value of diffraction efficiency at 0.24 mW.
Methylene blue-sensitized photopolymerizable material based on acrylamide is investigated with two-wave energy coupling experiments. Differently from other studies, self-diffraction oscillations are observed and the grating phase is determined without applying external electric fields, moving nonlinear materials, and phase shifting one of two writing beams. The phase grating showed a phase shift of $\pm$50$^{\circ}$ with respect to the intensity grating. Modified Kogelnik's coupled wave equation considering the mixed gratings of phase and absorption gratings and nonzero spatial phase shifts of the gratings with respect to the intensity interference patterns formed during the two-wave energy coupling is discussed in detail to understand these phenomenon.
Transactions of the Society of Information Storage Systems
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v.9
no.2
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pp.48-50
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2013
In this work, we investigated the diffraction of inverse-hemisphere shaped polymer grating. The grating was fabricated by using soft lithography of hexagonally close-packed PS nanospheres. The periodicity of the grating was tuned by swelling in acetone and the diffraction wavelength shift induced from lattice change was measured. This device can be used as a strain gauge or a chemical sensor.
Lee, Mu Hyeon;Ryu, Taesu;Kim, Young-Hoon;Yang, Jin-Kyu
Current Optics and Photonics
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v.5
no.5
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pp.500-505
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2021
We demonstrated a wide-fan-angle flat-top irradiance pattern with a very narrow linewidth by using an aspheric lens and a long-pitch reflective diffraction grating. First, we numerically designed a diffraction-based linear beam homogenizer. The structure of the Al diffraction grating with an isosceles triangular shape was optimized with 0.1-mm pitch, 35.5° slope angle, and 0.02-mm radius of the rounding top. According to the numerical results, the linear uniformity of the irradiance was more sensitive to the working distance than to the shape of the Al grating. The designed Al grating reflector was fabricated by using a conventional mold injection and an Al coating process. A uniform linear irradiance of 405-nm laser diode with a 100-mm flat-top length and 0.176-mm linewidth was experimentally demonstrated at 140-mm working distance. We believe that our proposed linear beam homogenizer can be used in various potential applications at a precise inspection system such as three-dimensional morphology scanner with line lasers.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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