• 디지털융복합연구
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• 제14권4호
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• pp.363-370
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• 2016

소음은 원하지 않는 소리로서 소음의 노출은 스트레스와 난청의 원인이 된다. 본 연구에서는 치기공과 학생의 치과기공 소음 노출에 의하여 스트레스와 순음청력에 미치는 영향을 파악하기 위하여 심박변이도와, 공기전도검사와 골전도검사를 실시하였다. 치기공과 학생의 나이, 키와 체중은 대조군과 유사한 결과를 나타냈다. 스트레스의 저항도를 나타내는 심박 표준편차와 부교감신경의 활성과 관련 있는 norm HF는 유의적으로 감소하였으며, 심박수, 교감신경의 지표인 norm LF, 교감신경과 부교감신경의 비율은 유의적으로 증가하였다. 공기전도검사 결과 치기공과 학생의 오른쪽 귀의 125, 250, 500, 1000, 2000, 3000, 4000, 6000 Hz와 왼쪽 귀의 125, 250, 500, 1000, 2000 Hz에서 역치와 골전도검사 결과 오른쪽과 왼쪽 모두 250, 500, 1000, 2000, 4000 Hz에서 역치가 유의적으로 증가하였다. 또한, 순음청력검사 결과를 4분법을 이용하여 어음영역의 평균을 비교한 결과 치기공학과 학생에서의 역치가 모두 유의적인 증가를 보였다. 이와 같은 결과를 종합해 보면, 치기공학과 학생들에게 노출된 치과기공 소음에 의해서도 스트레스의 증가와 청력소실이 유발될 수 있으므로 적절한 예방책을 찾아야 할 것이다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2001년도 하계학술대회 논문집
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• pp.578-581
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• 2001

Silicon wafers using DRAM devices required for high cleaning technology and this cleaning technology was evaluated by defect level or electron life time. This paper examined the correlation of SPV(Surface Photo Voltaic Analyzer) which analyzes diffusion length of minority carriers and DLTS(Deep level Transient Spectroscope) which analyzes defect level.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1991년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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• pp.237-240
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• 1991

In this paper, silicon oxynitride(SiON) films were chemically deposited by 193 nm Excimer laser irradiated parallel to the substrate. the laser pulse energy was 80 mJ, repetetion rate was 80 Hz and the laser average power was 6.4 watt, the gas ratio of $N_2O/NH_3$ was 0.75, the substrate temperature was $300^{\circ}C$, and the chamber pressure was 2 torr. And then, the interface state density($N_{ss}$) was characterized by DLTS(Deep Level Transient Spectroscopy). In addition, the capture cross section($\sigma$) and activation energy(${\Delta}E$) was also obtained. The resulting Nss values were $5.5{\times}10^{10}-3.2{\times}10^{11}(eV^{-1}cm^{-2})$, $\sigma$ was $6.64{\times}10^{-20}-2.114{\times}10^{-17}(cm^2)$, the ${\Delta}E$ of two peaks were $8.93{\times}10^{-2}$(eV), 0.375(eV).

• 대한전자공학회논문지
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• 제23권6호
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• pp.807-813
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• 1986

Measurements of interface states in a MOS capacitor by DLTS system using wideband monophase lock-in amplifier are discussed. A new signal analysis method that takes into account the bias pulse width and the gate off width is presented to remove the errors in the measured parameters of interface states resulting from the traditional method which neglects the effect of those widths. Theoretical calculations are made for the parameters related to the rate window, signal to noise ratio, and the energy resolution. On the grounds of this discussion, interface states of the MOS capacitor on p-type substrate of (110) orentation are measured with the optimal gate-off width with respect to the S/N ratio and the energy resolution. The results are interface state density of the order of 10**10 (cm-\ulcornereV**-1) to 10**11 (cm-\ulcornereV**-1) in the energy range of Ev+0.15(dV) to Ev+0.5(eV), and constant capture cross section of the order of 10**-16 (cm\ulcorner.

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 1999년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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• pp.94-94
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• 1999

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 1996년도 제10회 학술발표회 논문개요집
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• pp.30-31
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• 1996

• Transactions on Electrical and Electronic Materials
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• 제5권5호
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• pp.194-198
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• 2004

The influences of the deep-level concentration of p-type Si substrates on the optical properties of nano-porous silicon (PS) are investigated by deep level transient spectroscopy (DLTS) and photoluminescence (PL). Utilizing a Si substrate with Fe contaminations significantly enhanced the PL intensity of PS. All the PS samples formed on Fe-contaminated silicon substrates had stronger PL yield than that of reference PS without any intentional Fe contamination but the emission peak is not significantly changed. For the PS 1000 sample with Fe contamination of 1,000 ppb, the maximum PL intensity showed about ten times stronger PL than that of the reference PS sample. From PL and DLTS results, the PL efficiency strongly depends on the Fe-related trap concentration in Si substrates.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2010년도 하계학술대회 논문집
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• pp.338-338
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• 2010

지난 20여년 동안 반도체 레이저 다이오드는 주로 CD (DVD) 픽업용 (파장: 640 nm 이하) 및 통신용 (파장 1550 nm) 광원 분야에서 집중적으로 개발되어 왔다. 그러나 기술의 개발과 더불어 파장조절이 비교적 자유로워지고 광출력이 증대 되면서 기존의 레이저 고유의 영역까지 그 응용분야기 확대되고 있고, 이에 따라 고출력 반도체 레이저 다이오드의 시장 규모도 꾸준히 증가되고 있는 상황이다. 고출력 반도체 레이저 다이오드는 발진 파장 및 광출력에 따라 다양한 분야에 응용되고 있으며, 특히 발진파장이 808 nm 인 고출력 레이저 다이오드의 경우 재료가공, 펌핑용 광원 (DPSSL, 광섬유 레이저), 의료, 피부미용 (점 제거), 레이저 다이오드 디스플레이 등 가장 다양한 응용분야를 가진 광원 중의 하나라고 할 수 있다. MBE(Molecular Beam Epitaxy)로 성장된 InAlAs 에피층 (epi-layer)을 사용하여 고출력을 갚는 레이저 다이오드를 제작함에 있어서, 에피층은 결함 (defect)이 없는 우수한 단결정이 요구되지만, 실제 결정 성장 과정에서는 성장온도와 Al 조성비 등의 성장 조건의 변화에 따라 전기적 광학적 특성 및 신뢰성에 큰 영향을 받는 것으로 보고되고 있다. 이에 본 연구에서는 DLTS (Deep Level Transient Spectroscopy) 방법을 이용하여 InAlAs 양자점 에피층의 깊은 준위 거동을 조사하였다. DLTS 측정 결과, 0.3eV 부근의 point defect과 0.57 ~ 0.70 eV 영역의 trap이 조사되었으며, 이는 갈륨 (Ga) vacancy와 산소 원자의 복합체에 기인한 결함으로 분석된다.

• 전기전자학회논문지
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• 제27권4호
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• pp.556-560
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• 2023

본 연구에서는 4H-SiC Epi Surface에 Nitrogen implantation 공정이 깊은준위결함과 lifetime에 미치는 영향을 비교분석하였다. Deep Level Transient Spectroscopy (DLTS)와 Time Resolved Photoluminescence (TR-PL)을 사용하여 깊은준위결함과 carrier lifetime을 측정하였다. As-grown SBD에서는 0.16 eV, 0.67 eV, 1.54 eV 에너지 준위와 implantation SBD의 경우 0.15 eV 준위에서의 결함을 측정되었으며, 이는 nitrogen implantation으로 불순물이 titanium 및 carbon vacancy를 대체됨으로 lifetime killer로 알려진 Z_1/2, EH_6/7 준위 결함은 감소하였다.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제38권10호
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• pp.678-686
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• 2001

CaAs metal semiconductor field effect transistor (MESFET) 소자의 전달컨덕턴스 분산 (transconductance dispersion) 현상과 게이트 누설 전류의 원인을 capacitance deep level transient spectroscopy (DLTS) 측정을 이용하여 해석하였다. DLTS 스펙트럼에서는 활성화 에너지가 각각 0.65×0.07 eV와 0.88 × 0.04 eV인 두개의 표면 결함과 0.84 × 0.01 eV의 활성화 에너지를 갖는 EL2를 관찰하였다. 전달컨덕턴스 분산 측정 결과, 전달컨덕턴스는 5.5 Hz ∼ 300 Hz의 주파수 영역에서 감소하였다. 전달컨덕턴스 분산을 온도의 함수로 측정한 결과, 온도가 증가할수록 전이 주파수는 증가하였고 전이 주파수의 온도 의존성으로부터 0.66 ∼ 0.02 eV의 활성화 에너지를 구할 수 있었다. 게이트 누설 전류 측정에서는 0.15 V 이하의 게이트 전압에서 순 방향과 역 방향 게이트 전압이 일치하는 오믹 전류-전압 특성을 나타내었고 게이트 누설 전류의 온도 의존성으로부터 구한 활성화 에너지는 0.63 ∼ 0.01 eV로 계산되었다. 서로 다른 방법으로 구한 활성화 에너지의 비교로부터 표면 결함 H1이 주파수에 따라서 감소하는 전달컨덕턴스 분산 및 게이트 누설 전류의 원인임을 알 수 있었다.