Gate dielectric 용 화학증착법(CVD)에 의해 증착된 $HfO_2$ 박막의 특성분석
(Characterization of $HfO_2$ thin films for gate dielectric deposited by Chemical Vapor Deposition)
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- 한국세라믹학회:학술대회논문집
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- 한국세라믹학회 2000년도 추계총회,초청강연,특별강연,연구발표회
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- pp.160.1-160
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- 2000