Proceedings of the Korean Ceranic Society Conference (한국세라믹학회:학술대회논문집)
- 2000.10a
- /
- Pages.160.1-160
- /
- 2000
Characterization of $HfO_2$ thin films for gate dielectric deposited by Chemical Vapor Deposition
Gate dielectric 용 화학증착법(CVD)에 의해 증착된 $HfO_2$ 박막의 특성분석
- Park, Jae-Hu ;
- Park, Byeong-Geon ;
- Kim, Hye-Ryeong ;
-
Hwang, Cheol-Seong
;
-
Han, Yeong-Gi
;
- Kim, Dong-Hyeon ;
- O, Gi-Yeong ;
- Yang, Du-Yeong ;
- Hwang, Cheol-Ju
- 박재후 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
- 박병건 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
- 김혜령 (서울대학교 재료공학부 유전박막실험실) ;
-
황철성
(서울대학교 재료공학부 유전박막실험실)
;
-
한영기
(주성 엔지니어링)
;
- 김동현 (주성 엔지니어링) ;
- 오기영 (주성 엔지니어링) ;
- 양두영 (주성 엔지니어링) ;
- 황철주 (주성 엔지니어링)
- Published : 2000.10.20
Abstract
Keywords