Long incubation period of W nucleation on the TiN glue layer is a serious problem in blanket W process. In this study we investigated the dependence of W nucleation and growth rate on the preparation method of the TiN film, deposition temperature, chemistry, $SiH_4/WF_6$ ratio and sputter etching, ion implantation, and $SiH_4$ flushing pre-treatments. Incubation periods of W nucleation and deposition rates of W growth on three different TiNs are in the order of TiN>RTP-TiN> annealed TiN and TiN${\leq}$RTP-TiN${\leq}$ annealed TiN, respectively. $\beta$-W is not found on TiN substrate even for high $SiH_4/WF_6$ ratio. Sputter etching pre-treatment increases incubation period of W nucleation, while it decreases deposition rate. $SiH_4$ flushing pre-treatment decreases incubation period, but it slightly decreases deposition rate.
Graphene, a two dimensional plane structure of $sp^2$ bonding, has been promised for a new material in many scientific fields such as physics, chemistry, and so on due to the unique properties. Chemical vapor deposition (CVD) method using transitional metals as a catalyst can synthesize large scale graphene with high quality and transfer on other substrates. However, it is difficult to control the number of graphene layers. Therefore, it is important to manipulate the number of graphene layers. In this work, homogeneous solid solution of Cu and Ni was used to control the number of graphene layers. Each films with different thickness ratio of Cu and Ni were deposited on $SiO_2/Si$ substrate. After annealing, it was confirmed that the thickness ratio accords with the composition ratio by X-ray diffraction (XRD). The synthesized graphene from CVD was analyzed via raman spectroscopy, UV-vis spectroscopy, and 4-point probe to evaluate the properties. Therefore, the number of graphene layers at the same growth condition was controlled, and the correlation between mole fraction of Ni and the number of graphene layers was investigated.
The hexagonal boron nitride (h-BN) sheet, a 2D material like graphene sheet, is comprised of boron and nitrogen atoms. Similar to graphene, h-BN sheet has attractive mechanical properties while it has a wide band gap unlike graphene. Recently, many experimental groups studied the growth of single BN layer by chemical vapor deposition (CVD) method on the copper substrate. To study the initial stage of h-BN growth on the copper surface, we have performed density functional theory calculations. We investigate several adsorption sites of a boron or nitride atom on the Cu surfaces. Then, by increasing the number of adsorbed B and N atoms, we study formation behaviors of the BN flakes on the surface. Several types of BN flakes atoms such as triangular, linear, and hexagonal shapes are considered on the copper surface. We find that the formation of the BN flake in triangular shape is most favorable on the surface. On the basis of the theoretical results, we discuss the growth mechanism of h-BN layer on the copper surfaces in terms of its shapes in the initial stage of growth.
Thermal CVD method is in general used for the fabrication of TiC/$Al_2O_3$-coated carbide tools. The growth of TiC layer and the coating morphology depended on the chemical composition of the hard metal substrate on which the tool properties were strongly influenced. TiC-coated layer was grown by the diffusion of carbon from the substrate, whereas the growth of $Al_2O_3$ layer was unrelated to the composition of substrate. In the nitride hard coatings of Zr, Nb and Mo metals deposited on high speed steel substrate by magnetron sputtering, the reactivity of the metal elements was decreased with increasing group number in one period of the periodic system. The hard material films exhibited the highest adhesion with the chemical composition of stoichiometry or substoichiometry. The critical load as a measure of adhesion was evaluated using scratch tester. The CVD tools indicated the values of 80 and 40N in the coated layers with proper bonding to the substrate and with $\eta$ phase of 1$\mu\textrm{m}$ in the interface respectively, but the nitride films prepared by sputtering of PVD showed only the values between 10 and 20N.
Jung, Da Hee;Kang, Cheong;Nam, Ji Eun;Kim, Jin-Seok;Lee, Jin Seok
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제34권11호
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pp.3312-3316
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2013
Single crystals of hexagonal graphenes were successfully grown on Cu foils using the atmospheric pressure chemical vapor deposition (CVD) method. We investigated the effects of reaction parameters, such as the growth temperature and annealing time, on the size, coverage, and density of graphene domains grown over Cu foil. The mean size of the graphene domains increased significantly with increases in both the growth temperature and annealing time, and similar phenomena were observed in graphene domains grown by low pressure CVD over Cu foil. From the comparison of micro Raman spectroscopy in the graphene films grown with different annealing times, we found that the nucleation and growth of the domains were strongly dependent on the annealing time and growth temperature. Therefore, we confirmed that when reaction time was same, the number of layers and the degree of defects in the synthesized graphene films both decreased as the annealing time increased.
As a semiconductor material for electronic devices operated under extreme environmental conditions, silicon carbides(SiCs) have been intensively studied because of their excellent electrical, thermal and other physical properties. The growth characteristics of single-crystalline 4H-SiC homoepitaxial layers grown by a thermal chemical vapor deposition (CVD) were investigated. Especially, the successful growth condition of 4H-SiC homoepitaxial layers using a SiC-uncoated atmospheric pressure chamber and carried out using off-oriented substrates prepared by a modified Lely method. In order to investigate the crystallinity of grown epilayers, Nomarski optical microscopy, Raman spectroscopy, photoluninescence(PL), scanning electron microscopy(SEM) and other techniques were utilized. The best quality of 4H-SiC homoepitaxial layers was observed in conditions of growth temperature $1500^{\circ}C$ and C/Si flow ratio 2.0 of $C_{3}H_{8}\;0.2\;sccm\;&\;SiH_{4}\;0.3\;sccm$. The growth rate of epilayers was about $1.0\mu\textrm{m}/h$ in the above growth condition.
Metabolically obese but normal weight(MONW) syndrome is characterized, with potentially increased risks for development of the insulin resistance or metabolic syndrome despite their normal body mass index(BMI) < 25 kg/m2. Such characteristics could confer upon MONW individuals a type 2 diabetes mellitus and cardiovascular diseases(CVD) risk however, research on MONW is scarce. MONW individuals have metabolic disturbances typical of obese persons and are identified by having a high amount of visceral fat, a low BMI, a high fat mass, a low lean body mass, low insulin sensitivity, and high triglyceride concentrations. The purpose of this study is to review several markers as potential modulators in individuals displaying the "MONW". Body fat appears to be functionally comparable with a dynamic endocrine organ, producing and secreting various adipocy tokines, such as leptin, adiponectin, CRP, tumor necrosis factor(TNF-), interleukin(IL)-6, all of which play an important role in the onset of cardiovascular disease, and insulin resistance. Otherwise, physical activity and a lower inflammation state might be helped to reduce the number of persons at risk of diabetes, CVD complications, or premature mortality. We should provide a method to optimal treatments resolving the emerging public health problem to prevention of MONW by providing guideline for physical activity as an optimal treatment for the MONW Korean. Furthermore we expect to develop a new strategy to manage MONW Korean in this society in terms of reducing medical costs and enhancing public health care for uprising population with MONW.
인은 다이아몬드 내에 함유될 수 있는 흥미로운 불순물 중의 하나로서 n 타입의 반도체가 될 수 있다는 점에서 흥미롭다. 그러므로 전기적 특성 및 광학적 특성이 많이 연구되고 있지만, 대부분이 CVD (화학 기상합성) 다이아몬드에 관한 것이다. 본 연구에서는 인을 첨가한 HPHT (고압과 고온) 다이아몬드를 합성하고 인이 어떻게 함유되는가 알아보기 위하여 CL 분광기로 광학적 특성을 살펴보았다. 그 결과, 기존에 발견된 발광피크(239 nm, 240~270 nm)뿐만 아니라 248, 603 nm에서 새로운 발광피크가 발견되었다. 이러한 발광피크들은 인과 같이 혼입된 질소나 붕소와 같은 불순물이 공존하여 발생한 복합 결함에 의한 것이라고 판단된다.
Sequential brain SPECT imaging has been used to assess the cerebral perfusion reserve(CPR) in cerebrovascular diseases(CVD). We have realized a parametric images of CPR using normalized difference ratio and deadtime correction. For the anatomical localization of CPR, the parametric images were registered to the contours of the cerebral regions using optimal threshold method. The parametric imags reflected the CPR more reliably and distinctively. We conclude that the qunatitative estimation of CPR using normalized difference ratio image could be useful for the diagnosis and assessment of postoperative prognosis in CVD.
화학적 증기증착(Chemical Vapor Deposition, CVD) 방법을 이용하여 단결정 Indium antimonide (InSb) 나노와이어를 $SiO_2$ wafer 위에 성장시켰으며, 성장된 InSb 나노와이어의 결정성과 조성비를 X-Ray Diffraction (XRD)과 Energy Dispersive x-ray Spectroscopy (EDS)의 측정을 통하여 확인하였다. 또한, 반응 source로 사용된 InSb 분말의 기상화(vaporization) 정도를 source container의 모형, 즉 open 및 close 시스템으로 변형하여 조절하였고 이렇게 성장된 InSb 나노와이어들의 구조적 특성을 주사전자현미경(Scaning Electron Microscopy, SEM)을 통하여 자세히 분석함으로써, 그들의 성장과정을 Vapor-Liquid-Solid (VLS) 및 Vapor-Solid (VS) 메커니즘으로 설명하였다. Open-boat를 사용하여 나노와이어를 성장시켰을 경우, close-boat 의 경우와 비교하여 합성된 나노와이어의 yield가 높았으며 나노와이어의 길이와 두께도 증가하는 현상이 관측되었다. 이러한 결과는, InSb source 의 기상화 정도가 close-boat에서 보다 open-boat에서 더욱 가속화되면서 공통적으로 일어나는 VLS 성장 이외에 VS 성장이 추가적으로 진행되어지기 때문으로 추측되어진다. 또한, 반응시간을 증가시켰을 때, 나노와이어의 두께가 증가하는 결과를 통하여 InSb 나노와이어의 성장에서 VS 메커니즘이 우세하게 작용하고 있음을 확인할 수 있었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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