• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제3권4호
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• pp.205-210
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• 2003

A 3-Transistor cell CMOS OTP ROM array using standard CMOS antifuse (AF) based on permanent breakdown of MOSFET gate oxide is proposed, fabricated and characterized. The proposed 3-T OTP cell for ROM array is composed of an nMOS AF, a high voltage (HV) blocking nMOS, and cell access transistor, all compatible with standard CMOS technology. The experimental results show that the proposed structure can be a viable technology option as a high density OTP ROM array for modern digital as well as analog circuits.

• JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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• 제4권2호
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• pp.106-109
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• 2004

A high-density 3-transistor cell one-time programmable (OTP) ROM array using standard CMOS Gate-Oxide antifuse (AF) is proposed, fabricated, and characterized with $0.18{\mu}m$ CMOS process. The proposed non-volatile high-density OTP ROM is composed of an array of 3-T OTP cells with the 3-T consisting of an nMOS AF, a high voltage (HV) blocking transistor, and a cell access transistor, all compatible with standard CMOS technology.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제46권5호
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• pp.9-14
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• 2009

표준 CMOS 공정을 이용한 CMOS 게이트 산화막 안티퓨즈의 새로운 OTP 단위 비트 구조를 제안하였다. 제안된 OTP 단위 비트는 NMOS 게이트 산화막 안티퓨즈를 포함한 3개의 트랜지스터와 인버터 타입 자체 센스 엠프를 포함하고 있다. 그럼에도 불구하고, 레이아웃 면적은 기존 구조와 비슷한 $22{\mu}m^2$이다. 또한, 제안된 OTT 단위 비트는 구조적 특징상 고전압 차단스위치 트랜지스터와 저항과 같은 고전압 차단 요소를 사용하지 않기 때문에, 프로그램 시간은 기존 구조보다 개선된 3.6msec이다. 그리고 제안된 OTP 단위 비트를 포함하는 OTP array는 센스 엠프가 단위 비트마다 집적되어 있기 때문에 기존 OTP array에서 사용된 센스 엠프와 바이어스 생성 회로가 필요 없다.