To advance luminance efficiency of Titania at visible range, N-doped $TiO_2$ was prepared by using ammonium hydroxide as a source of nitrogen. The photoactivities of the synthesized $TiO_2$ were evaluated on the basis of degradation of humic acid in aqueous solutions with different light sources, UV-C, UV-A and fluorescent lamp. As a result, at UV-C is high efficiency $UV_{254}$ decrease and TOC removal. In this study, the best synthetic conditions of N-doped $TiO_2$ were 5.0 M of ammonium hydroxide concentration and calcination temperature of $550^{\circ}C$. The degradation rate of humic acid as an evaluation of photoactivities of the catalysts were conducted with pH variation, decrease rate of molecular absorption, removal rate of total organic carbon and fluorescece evolution for humic acid solution. XRD and SEM were applied for analysis of surface analysis of the catalysts.
High quality of $Er_{2}O_{3}$ doped $LiNbO_{3}$ single crystal thin films were grown by the liquid phase epitaxial (LPE) method using $Er_{2}O_{3}$ doped at concentrations of 1,3, and 5 mol% respectively. After the growth of single crystal thin film, the crystallinity and the lattice mismatch along the c-axis between the film and the substrate was examined as a function of the variations of{{{{{Er}_{2}{O}_{3}}}}} dopant concentration using a X-ray double crystal technique. There was no lattice mismatch along the c-axis for the undoped film and those doped with 1 and 3 mol% of $Er_{2}O_{3}$. For 5 mol% of $Er_{2}O_{3}$ doped film, the lattice mismatch was $7.86{\times}10^{-4}$nm along the c-axis.
New inorganic red pigments based on Cr-doped $Y_2O_3$ and $Al_2O_3$ were synthesized by solid state method and characterization of their pigments were characterized by using XRD, FT-IR, SEM and UV-Vis spectrophotometer. The single perovskite phase revealed at $1450^{\circ}C{\sim}1550^{\circ}C$ for 6 h due to using mineralizers. The color of pigment powders resulted out various red-shades depending on the compositions of used materials and temperatures. Glazed tiles painted with pigment powders showed red color in oxidation and reduction firing. The best red colour was obtained when the $Cr_2O_3$ was used 0.04 mole at $1450^{\circ}C$ for 6 h.
In this study, the WC-10 wt.%Co nanopowders doped by grain growth inhibiter were produced by three different methods based on the spray conversion process. Agglomerated powders with homeogenous distribution of alloying elements and with internal particles of about 100-200 nm in diameter were synthesized. The microstructural changes and sintering behavior of hardmetal compacts were compared with doping method and sintering conditions. The microstructure of hardmetals was very sensitive to doping methods of inhibitor. Nanostructured WC-Co hardmetal powder compacts containing TaC/VC doped by chemical method instead of ball-milling shown superior sintering densification, and the microstructure maintained ultrafine scale with rounded WC particles.
Sol-gel 법으로 Eagle 2000 유리 기판 위에 Ga 도핑 농도와 열처리 온도에 따른 GZO 박막을 제작하여, 전기적 및 광학적 특성을 조사하였다. 1 mol% Ga 이 도핑되고 $600^{\circ}C$에서 열처리한 GZO 박막에서 가장 우수한 (002) 배향성이 관찰되었다. Hall 측정 결과, Ga 도핑 농도가 증가함에 따라 segregation 효과로 인한 캐리어 농도의 감소와 비저항 값의 증가가 관찰되었다. 1 mol% Ga 이 도핑되고 $600^{\circ}C$에서 열처리한 GZO 박막에서 가장 큰 캐리어 농도($9.13{\times}10^{18}cm^{-3}$)와 가장 낮은 비저항 ($0.87{\Omega}cm$) 값을 나타내었다. 모든 박막은 가시광 영역에서 약 80 % 이상의 투과율을 보였으며, Ga 농도가 1 에서 4 mol% 로 증가함에 따라 에너지 밴드 갭이 좁아지는 Burstein-Moss 효과가 관찰되었다.
순수한 CaO, Mn-doped CaO, Mn/CaO, K/CaO 촉매를 제조하고 이들의 메탄 활성화반응에 대한 촉매활성을 600∼800$^{\circ}C$ 온도영역에서 실험하여 산화칼슘의 촉매활성에 대한 망간과 칼륨의 첨가효과를 조사하였다. 촉매의 특성을 조사하기 위하여 X-선 분말회절분석(XRD), X-선 광전자분석(XPS), 주사전자현미경분석(SEM), 시차열분석(DSC) 및 열무게분석(TG)을 실시하였다. 촉매반응은 직결 기체크로마토그래피를 이용한 단방향 흐름 반응기로서 이루어졌다. 표준반응조건은 $p(CH_4)/p(O_2)=250$ Torr/50 Torr이며 반응기체의 주입속도는 30mL/min, 그리고 He 희석기체와 함께 전체압력은 1 atm이였다. 실험한 촉매들 중에서 6.3 mol% Mn-doped CaO 촉매가 가장 우수한 $C_2$ 선택성을 보였으며 775$^{\circ}C$에서 $C_2$ 선택성과 $C_2$ 수율이 각각 43.2%와 8.0% 이었다. 적은 양의 망간을 도프한 산화칼슘 촉매들은 망간의 양이 증가함에 따라 $C_2$ 선택성이 향상되는 경향을 보였으나 많은 양의 망간([Mn]>6.3 mol%)을 도프한 촉매에서는 $C_2$ 선택성이 감소하는 경향을 보였다. 금속이온이 도프되지 않은 6 wt.% Mn/CaO와 6 wt.% K/CaO 촉매는 700$^{\circ}C$에서 각각 13.2%와 30.9%의 $C_2$ 선택성을 보여 담지효과는 Mn보다도 K가 훨씬 우수함을 보였다. CaO와 Mn-doped CaO 촉매의 전기전도도를 $10^{-3}∼10^{-1}\;atm$의 산소분압 영역에서 측정한 결과 모두 p형의 전기적 특성을 보였으며 도프한 망간의 농도가 증가함에 다라 전기전도도는 감소하는 경향을 보였다. 촉매표면에 생성된 틈새형 산소이온이 메탄을 활성화할 수 있음을 제안하였고 틈새형 사소이온의 생성을 고체화학적 관점에서 논의하였다.
Park, Chang-Kyoo;Park, Sung-Bin;Park, Ji-Hun;Shin, Ho-Chul;Cho, Won-Il;Jang, Ho
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제32권3호
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pp.921-926
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2011
This study investigates a root cause of the improved rate performance of $LiFePO_4$ after metal doping to Fesites. This is because the metal doped $LiFePO_4$/C maintains its initial capacity at higher C-rates than undoped one. Using $LiFePO_4$/C and doped $LiFe_{0.97}M_{0.03}PO_4$/C (M=$Al^{3+}$, $Cr^{3+}$, $Zr^{4+}$), which are synthesized by a mechanochemical process followed by one-step heat treatment, the Li content before and after chemical delithiation in the $LiFePO_4$/C and the binding energy are compared using atomic absorption spectroscopy (AAS) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The results from AAS and XPS indicate that the low Li content of the metal doped $LiFePO_4$/C after chemical delithiation is attributed to the low binding energy induced by weak Li-O interactions. The improved capacity retention of the doped $LiFePO_4$/C at high discharge rates is, therefore, achieved by relatively low binding energy between Li and O ions, which leads to fast Li diffusivity.
Phosphorus doped hydrogenated microcrystalline silicon (${\mu}c$-Si:H) thin films were deposited by PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) method using 10.2% $SiH_4$ gas (diluted in Ar) and 308ppm $PH_3$ gas (diluted in Ar). The structural, optical and electrical properties of the films were investigated as a function of substrate temperature(15 to $400^{\circ}C$) and RF power(10 to 120W). The thin film deposited by varing substrate temperature had columnar structure and microcrystalline phase. The volume fraction of microcrystalline phase in the films deposited at RF power of 80W, increased with increasing substrate temperature up to $200^{\circ}C$, and then decreased with further increasing substrate temperature. Volume fraction of microcrystalline phase increased monotonously with increasing RF power at substrate temperature of $250^{\circ}C$. With increasing volume fraction of microcrystalline, electrical resistivity of films decreased to 0.274 ${\Omega}cm$.
Mo doped carbon (C:Mo) thin films were fabricated with various Mo target power densities by unbalanced magnetron sputtering (UBM). The effects of target power density on the surface, structural, and electrical properties of C:Mo films were investigated. UBM sputtered C:Mo thin films exhibited smooth and uniform surfaces. However, the rms surface roughness of C:Mo films were increased with the increase of target power density. Also, the resistivity value of C:Mo film as electrical properties was decreased with the increase of target power density. From the performance of organic thin filml transistor using conductive C:Mo gate electrode, the carrier mobility, threshold voltage, and on/off ratio of drain current (Ion/Ioff) showed $0.16cm^2/V{\cdot}s$, -6.0 V, and $7.7{\times}10^4$, respectively.
This paper describes the electrical and optical characteristics of $N_2$ doped porous 3C-SiC films. Average pore diameter is about 30 nm and etched area was increased with $N_2$ doping rate. The mobility was dramatically decreased in porous 3C-SiC. The band gaps of polycrystalline 3C-SiC films and doped porous 3C-SiC were 2.5 eV and 2.7 eV, respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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