Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.16
no.1
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pp.29-33
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2015
This paper presents the results of the optical characteristics of ITO thin film with different buffer layer thicknesses of $SiO_2$ and $Nb_2O_5$ for touch sensor application. $SiO_2$ and $Nb_2O_5$ buffer layers were deposited using RF magnetron sputtering equipment. The buffer layers were inserted between glass and ITO layers. In order to compare with the experimental results, the Essential Macleod Program (EMP) was adopted. Based on EMP simulation, the [$Nb_2O_5{\mid}SiO_2{\mid}ITO$] multi-layered thin film exhibited high transmittance of more than 85% in the visible region. The actual experimental results also showed transmittance of more than 85% in the visible region, indicating that the simulated results were well matched with the experimental results. The sheet resistance of ITO based film was about $340{\Omega}/sq$. The surface roughness maintained a relatively small value within the range of 0.1~0.4 nm when using the $Nb_2O_5$ and $SiO_2$ buffer layers.
We have fabricated good quality superconducting $YBa_{2}Cu_{3}O_{7-\delta}$ thin films on Hastelloy(Ni-Cr-Mo alloys) metallic substrate with $CeO_2$ and $BaTiO_3$ buffer layers in-situ by pulsed laser deposition in a multi-target processing chamber. We have chosen $CeO_2$ as a buffer layer which has cubic structure of $5.41{\AA}$ lattice parameter and only 0.2% of lattice mismatch with YBCO. $CeO_2$ layer may be helpful for power transmission due to its conducting property. In order to enhance the crystallization of YBCO films on metallic substrates. we deposited $CeO_2$ and $BaTiO_3$ buffer layers at various temperatures. The YBCO superconducting tape fabricated with $BaTiO_3$ and $CeO_2$ buffer layers shows 85K of transition temperature and about $8.4{\times}10^4A/cm^2$ of critical current density at 77K.
Kim, Tae-Hyung;Kim, Ho-Sup;Lee, Nam-Jin;Ha, Hong-Soo;Ko, Rock-Kil;Ha, Dong-Woo;Song, Kyu-Jeong;Oh, Sang-Soo;Park, Kyung-Chae
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.20
no.6
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pp.546-549
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2007
As a rule, high temperature superconducting coated conductors have multi-layered buffers consisting of seed, diffusion barrier and cap layers. Multi-buffer layer deposition requires longer fabrication time. This is one of main reasons which increases fabrication cost. Thus, single buffer layer deposition seems to be important for practical coated conductor process. In this study, a single layered buffer deposition of $CeO_2$ for low cost coated conductors has been tried using thermal evaporation technique. 100 nm-thick $CeO_2$ layers deposited by thermal evaporation were found to act as a diffusion layer. $1\;{\mu}m-thick$ SmBCO superconducting layers were deposited by thermal co-evaporation on the $CeO_2$ buffered Ni-5%W substrate. Critical current of 90 A/cm was obtained for the SmBCO coated conductors.
Kim, Ho-Sup;Shi, Dongqui;Ko, Rock-Kil;Chung, Jun-Ki;Ha, Hong-Soo;Song, Kyu-Jeong;Park, Chan
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.17
no.12
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pp.1356-1361
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2004
High temperature superconducting coated conductor has a structure of ///. The buffer layer consists of multi-layer, this study reports the deposition method and optimal deposition conditions of YSZ(Yttria-stabilized zirconia) layer which plays a important part in preventing the elements of substrate from diffusing into the superconducting layer. YSZ layer was deposited by DC reactive sputtering technique using water vapor for oxidizing deposited elements on substrate. To investigate optimal thickness of YSZ film, four YSZ/CeO$_2$/Ni samples with different YSZ thickness(130 nm, 260 nm, 390 nm, and 650 nm) were prepared. The SEM image showed that the surface of YSZ layer was getting to be rougher as YSZ layer was getting thicker and the growth mode of YSZ layer was columnar grain growth. After CeO$_2$ layer was deposited with the same thickness of 18.3 nm on each four samples, YBCO layer was deposited by PLD method with the thickness of 300 nm. The critical currents of four samples were 0, 6 A, 7.5 A, and 5 A respectively. This shows that as YSZ layer is getting thicker, YSZ layer plays a good role as a diffusion barrier but the surface of YSZ layer is getting rougher.
The $BaHfO_3$ (BHO) buffer layer on the IBAD MgO template was turned to be effective for a successful fabrication of $GdBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}$ (GdBCO) films with high critical current density ($J_c$). Both the BHO buffer layers and GdBCO films were prepared by pulsed laser deposition (PLD). The effects of the PLD conditions, including substrate temperature ($T_s$), oxygen partial pressure ($PO_2$), and deposition time on the in-plane texture, surface roughness, and microstructures of the BHO buffer layers on the IBAD MgO template were systematically studied for processing optimization. The c-axis oriented growth of BHO layers was insensitive to the deposition temperature and the film thickness, while the in-plane texture and surface roughness of those were improved with increasing $T_s$ from 700 to $800^{\circ}C$. On the optimally processed BHO buffer layer, the highest $J_c$ value (77 K, self-field) of 3.68 $MA/cm^2$ could be obtained from GdBCO film deposited at $780^{\circ}C$, representing that BHO is a strong candidate for the buffer layer on the IBAD MgO template.
KSII Transactions on Internet and Information Systems (TIIS)
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v.6
no.2
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pp.683-701
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2012
IEEE 802.11 standard has achieved huge success in the past decade and is still under development to provide higher physical data rate and better quality of service (QoS). An important problem for the development and optimization of IEEE 802.11 networks is the modeling of the MAC layer channel access protocol. Although there are already many theoretic analysis for the 802.11 MAC protocol in the literature, most of the models focus on the saturated traffic and assume infinite buffer at the MAC layer. In this paper we develop a unified analytical model for IEEE 802.11 MAC protocol in ad hoc networks. The impacts of channel access parameters, traffic rate and buffer size at the MAC layer are modeled with the assistance of a generalized Markov chain and an M/G/1/K queue model. The performance of throughput, packet delivery delay and dropping probability can be achieved. Extensive simulations show the analytical model is highly accurate. From the analytical model it is shown that for practical buffer configuration (e.g. buffer size larger than one), we can maximize the total throughput and reduce the packet blocking probability (due to limited buffer size) and the average queuing delay to zero by effectively controlling the offered load. The average MAC layer service delay as well as its standard deviation, is also much lower than that in saturated conditions and has an upper bound. It is also observed that the optimal load is very close to the maximum achievable throughput regardless of the number of stations or buffer size. Moreover, the model is scalable for performance analysis of 802.11e in unsaturated conditions and 802.11 ad hoc networks with heterogenous traffic flows.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.478.1-478.1
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2014
We investigated $MoO_3$ graded ITO electrodes for organic solar cells (OSCs) without PEDOT:PSS buffer layer. The effect of $MoO_3$ thickness on the electrical, optical, and structural properties of $MoO_3$ graded ITO anodes prepared by RF/DC magnetron co-sputtering system using $MoO_3$ and ITO targets was investigated. At optimized conditions, we obtained $MoO_3$ graded ITO electrodes with a low sheet resistance of 13 Ohm/square, a high optical transmittance of 83% and a work function of 4.92 eV, comparable to conventional ITO films. Due to the existence of $MoO_3$ on the ITO electrodes, OSCs fabricated on $MoO_3$ graded ITO electrode without buffer layer successfully operated. Although OSCs fabricated on ITO anode without buffer layer showed a low power conversion efficiency of 1.249%, OSCs fabricated on $MoO_3$ graded ITO electrode without buffer layer showed a outstanding cell performance of 2.545%. OSCs fabricated on the $MoO_3$ graded ITO electrodes exhibited a fill factor of 61.275%, a short circuit current of 7.439 mA/cm2, an open circuit voltage of 0.554 V, and a power conversion efficiency of 2.545%. Therefore, $MoO_3$ graded ITO electrodes can be considered a promising transparent electrode for cost efficient and reliable OSCs because it could eliminate the use of acidic PEDOT:PSS buffer layer.
A new viologen derivative namely 1,1'-bis(3,4-dihydroxybutyl)-[4,4'-bipyridine]-1,1'-diium bromide (V-Pr-2OH) was synthesized and applied as a cathode buffer layer to inverted polymer solar cells (PSCs) based on the blend of PTB7 : $PC_{71}BM$. PSCs with the structure of ITO/V-Pr-2OH/PTB7 : $PC_{71}BM/MoO_3/Ag$ as the cathode buffer layer showed the power conversion efficiency (PCE) up to 7.28%, which is comparable to that of the PSCs with the structure of ITO/ZnO/PTB7 : $PC_{71}BM/MoO_3/Ag$ (7.44%) in the absence of V-Pr-2OH. This study demonstrates that a highly efficient PSCs without any high temperature heat treatment can be obtained.
Liu, Yan-Yan;Jin, Hu-Jie;Park, Choon-Bae;Hoang, Geun C.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.10
no.1
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pp.24-27
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2009
N-doped ZnO thin films were deposited on n-type Si(100) and homo-buffer layer, and undoped ZnO thin film was also deposited on homo-buffer layer by RF magnetron sputtering method. After deposition, all films were in-situ annealed at $800^{\circ}C$ for 5 minutes in ambient of $O_2$ with pressure of 10Torr. X -ray diffraction shows that the homo-buffer layer is beneficial to the crystalline of N-doped ZnO thin films and all films have preferable c-axis orientation. Atomic force microscopy shows that undoped ZnO thin film grown on homo-buffer layer has an evident improvement of smoothness compared with N-dope ZnO thin films. Hall-effect measurements show that all ZnO films annealed at $800^{\circ}C$ possess p-type conductivities. The undoped ZnO film has the highest carrier concentration of $1.145{\times}10^{17}cm{-3}$. The photoluminescence spectra show the emissions related to FE, DAP and many defects such as $V_{Zn}$, $Zn_O$, $O_i$ and $O_{Zn}$. The p-type defects ($O_i$, $V_{Zn}$, and $O_{Zn}$) are dominant. The undoped ZnO thin film has a better p-type conductivity compared with N-doped ZnO thin film.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.06a
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pp.200-201
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2007
The SBT($SrBi_2Ta_2O_9$) thin films with $Bi_2O_3$ buffer layer were deposited on Pt/Ti/$SiO_2$/Si substrate by R.F. magnetron sputtering method in order to improve the ferroelectric characteristics. In SBT thin films, the deficiency of bismuth during the process due to its volatility results in an obvious non stoichiometry of the films and the presence of secondary phases. $Bi_2O_3$ buffer layer was found to be effective to achieve the low temperature crystallization and improve the ferroelectric properties of SBT thin films. Ferroelectric properties and crystallinities of SBT thin films with various post annealing of $Bi_2O_3$ buffer layer were observed as various annealing temperature, using X-Ray Diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), Keithley 237 and HP 4192A Impedance Analyzer.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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