Satellite and aircraft components are greatly affected by the possibility for missions and safety due to temperature effects. In the field of fuel cells, research is actively carried out for UAV. For the efficiency and stability of the fuel cells, the temperature for operations must be confirmed. In this paper, a smart paint was fabricated with $BaTiO_3$ and $SrTiO_3$ ceramics in order to take advantage of the rapid characteristics of the PTC thermistor, which is the resistance changes abruptly above the Curie point. A coating agent was prepared to prevent the paint from peeling off the samples and the coated models were checked for resistance changes. Moreover, the resistance change of the $BaTiO_3$ and $SrTiO_3$ with temperature conditions was measured before and after coating.
Kim, Jong-Pyo;Pyo, Dae-Woong;Park, Jung-Hoon;Lee, Yong-Taek
Membrane Journal
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v.22
no.1
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pp.8-15
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2012
Tubular $Ba_{0.5}Sr_{0.5}Co_{0.8}Fe_{0.2}O_{3-{\delta}}$ membranes with $La_{0.6}Sr_{0.4}Ti_{0.3}Fe_{0.7}O_{3-{\delta}}$ porous coating layer were prepared by extrusion and dip coating technique. XRD and SEM result showed the tubular membrane possessed the perovskite structure and porouscoating layer (thickness= about $2{\mu}m$) in surface. The oxygen permeation test was measured at condition of ambient air (feed side) and vacuum (permeate side) in the temperature range from 750 to $950^{\circ}C$. The oxygen permeation flux of $Ba_{0.5}Sr_{0.5}Co_{0.8}Fe_{0.2}O_{3-{\delta}}$ tubular membrane with $La_{0.6}Sr_{0.4}Ti_{0.3}Fe_{0.7}O_{3-{\delta}}$ porous coating layer reached maximum $3.2mL/min{\cdot}cm^2$ at $950^{\circ}C$ and was higher than non-coated $Ba_{0.5}Sr_{0.5}Co_{0.8}Fe_{0.2}O_{3-{\delta}}$ tubular membrane. Long-term stability test result indicated that the oxygen permeation flux was quite stable during the 11 day.
In the present study, we fabricated stoichiometric $(Ba_{1-x}Sr_x)TiO_3$ thin films at various substrate temperature and contents using of magnetron sputtering method on optimized Pt-based electrodes (Pt/TiN/$SiO_2$/Si). The substate temperature deposited at 200[ $^{\circ}C$], 400[$^{\circ}C$] and 600[$^{\circ}C$] and crystalline BST thin films show above 400[$^{\circ}C$]. Also, the composition of $(Ba_{1-x}Sr_x)TiO_3$ thin films deposited on Si wafer substrate at 400[$^{\circ}C$] were closed to stoichiometry($1.015{\sim}1.093$ in A/B ratio), but compositional deviation from a stoichiometry is larger as $SrCO_3$ is added. The drastic decrease of dielectric constant and increase of dielectric loss in $(Ba_{1-x}Sr_x)TiO_3$thin films is observed above 100[kHz]. V-I characteristics of $(Ba_{1-x}Sr_x)TiO_3$ thin films show the decrease of leakage current with the increase of $SrCO_3$ contents.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2001.11a
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pp.73-76
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2001
We deposited epitaxial $Ba_{0.6}$S $r_{0.4}$Ti $O_3$(BST) films having thickness of 400 nm on MgO(001) substrates, where a 10 nm thick $Ba_{1-x}$S $r_{x}$Ti $O_3$(x=0.1-0.7) interlayer was inserted between BST and MgO to manipulate the stress of the BST films. Since the main difference of those epitaxial BST films was the lattice constant of the interlayers, we were very successful in controlling the stress of the BST films. BST films under small tensile stress showed larger dielectric constant than that without stress as well as those under compressive stress. Stress relaxation was investigated using epitaxial BST films with various thicknesses grown on different interlayers. For BST films grown on $Ba_{0.7}$S $r_{0.3}$Ti $O_3$ interlayers, the critical thickness was about 600 nm. On the other hand, the critical thickness of single-layer BST film was less than 100 nm.00 nm.m.m.m.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.10
no.2
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pp.111-115
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2000
$BaTIO_3$ thin films were prepared on (100) $BaTIO_3$ substrates by coating- pyrolysis process using metal-organic compounds of Ba and Ti. The amorphous films prefired at $450^{\circ}C$were crystallized above $700^{\circ}C$ under oxygen partial pressure of $2\times 10^{-4}$. The lattice parameters of the perpendicular axis for the $BaTIO_3$ thin films heat-treated below $800^{\circ}C$ were closer to a value of cubic $BaTIO_3$, whereas those above $800^{\circ}C$ were closer to a value of tetragonal BaTiG. The results of XRD P scan and pole-figure analyses indicated that BaTiO, thin films have an epitaxial relationship with the $SrTiO_3$ substrates. The $BaTIO_3$thin films annealed at$800^{\circ}C$ showed the surface with island-like grains about 0.4$mu \textrm{m}$ and the cross section of 0.8 $mu \textrm{m}$ thickness with granular grains.
Using $Ba(OH)_2{\cdot}8H_2O, \;Sr(OH)_2{\cdot}8H_2O$ and $Ti(i-OC_3H_7)_4$, fine $(Ba_{1-x}, \;Sr_{x})TiO_3$ powders were synthesized through sol-gel process. The particle size of the powders calcined at $700^{\cric}C$ proved to be 20-40nm by the observation of TEM micrographs and measurement of BET specific surface area. The analysis of XRD patterns showed that the phase of the powders was cubic, and it was identified with the lattice parameters determined through XRD patterns and the shift of (112) peaks that the solid solution powders were synthesized. It was expected through the analysis of relative ratio of cations and the uniformity of compositions in the powders examined by EDAX analysis and relative dielectric constant measurements for sintered body that the distribution of cations was uniform in particle unit.
In this study, (Ba,Sr)$TiO_3$ thin films were etched with a magnetically enhanced inductively coupled plasma (MEICP) as a function $CF_4$/Ar gas mixing ratio. Experimental was done by varying the etching parameters such as rf power, dc bias and chamber pressure. The maximum etch rate of the BST films was $1700{\AA}$/min under $CF_4/(CF_4+Ar)$ of 0.1, 600W/350V and 5 mTorr. The selectivity of BST to Pt and PR was 0.6, 0.7, respectively. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) studies shows that there are surface reaction between Ba, Sr, Ti and C, F radicals during the (Ba,Sr)$TiO_3$ etching. To analysis the composition of surface residue remaining after the etching, films etched with different $CF_4$/Ar gas mixing ratio were investigated using XPS.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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