• Nuclear Engineering and Technology
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• 제54권4호
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• pp.1321-1335
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• 2022

This study was conducted to investigate the effect of absorption coefficient models on the P1 radiation model for a premixed hydrogen flame containing the water vapor. A CFD combustion simulation analysis was performed using XiFoam, one of the open-source CFD solvers in OpenFOAM. The solver using the flamelet combustion model has been modified to implement radiative heat transfer. The absorption coefficient models used in this study the grey-mean model and constant model, and for comparison, case without radiation was added. This CFD simulation study consisted of benchmarking the THAI HD-15 and HD-22 experiments. The difference between the two tests is the inclusion of water vapor in the condition before ignition. In the case of the HD-22 experiment containing water vapor in the initial condition, the simulation results show that the grey-mean absorption coefficient model has a strong influence on the temperature decrease of the flame and on the change in pressure inside the vessel.

• Applied Microscopy
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• 제45권3호
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• pp.119-125
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• 2015

Two-dimensional (2D) transition metal dichalcogenides (TMDCs) have attracted significant attention due to their unique and exotic properties attributed to their low dimensionality. In particular, semiconducting 2D TMDCs such as $MoS_2$, $WS_2$, $MoSe_2$, and $WSe_2$ have been demonstrated to be feasible for various advanced electronic and optical applications. In these regards, process to synthesize high quality 2D TMDCs layers with high reliability, wafer-scale uniformity, controllable layer number and excellent electronic properties is essential in order to use 2D TMDCs in practical applications. Vapor deposition techniques, such as physical vapor deposition, chemical vapor deposition and atomic layer deposition, could be promising processes to produce high quality 2D TMDCs due to high purity, thickness controllability and thickness uniformity. In this article, we briefly review recent research trend on vapor deposition techniques to synthesize 2D TMDCs.

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2002년도 하계학술발표회
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• pp.114-115
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• 2002

마이크로파 방전에 의한 고압 2-원자 황증기 (high-pressure di-atomic sulfur vapor)는 고효율(high luminous efficacy) 및 고연색성 (high color rendering index)의 백색 광원 (source of white light)으로 높이 평가되고 있다 [1]. 소위 무전극 황전등 (elec출odeless sulfur lamp, ESL)으로 알려진 이 발광원은 최고 효율이 173 lm/w 까지 시연되어 알려진 모든 인조 광원 중에서 가장 높은 효율을 보인 혁신적인 광원이다 [2]. (중략)

• 한국원자력학회:학술대회논문집
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• 한국원자력학회 2004년도 추계학술발표회 발표논문집
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• pp.1059-1060
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• 2004

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2008년도 동계학술발표회 논문집
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• pp.323-324
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• 2008

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 1992년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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• pp.18-18
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• 1992

• 방사성폐기물학회지
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• 제16권4호
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• pp.479-490
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• 2018

본 연구에서는 심부시추공 처분을 위한 밀봉시스템으로서 Gibb's Group에 의해 제안된 화강암 용융 및 재결정화에 의한 시추공 밀봉 방안에 대해 KURT 화강암을 대상으로 실현 가능성을 확인하였다. 화강암 용융 실험은 첨가제를 이용한 상압 용융시험과 물의 기화에 의한 수증기 고압용융시험 2가지로 수행되었다. 상압 용융시험 결과, KURT 화강암 분말에 NaOH를 첨가하여도 기본 융점보다 낮은 $1,000^{\circ}C$에서 부분용융이 시작되었으며, 냉각된 용융물에서 침상결정의 형성을 확인하였다. 수증기 고압시험은 물의 첨가량에 따라 수증기압을 달리하며 최대 400 bar의 수증기압까지 용융 시험이 진행되었다. KURT 화강암은 낮은 수증기압에도 $1,000^{\circ}C$에서 부분 용융이 시작되었으나, 물이 많이 첨가된 높은 수증기압에서 화강암의 부분 용융은 보이지 않았다. 따라서 소량의 수증기가 있는 고압상태가 화강암의 용융에 적합한 것으로 판단되었다. 한편, 고온고압의 수증기는 내부식성의 반응기 벽을 부식시켜, 고온의 수증기에 의한 처분용기의 부식 문제가 발생되었다.

• Journal of Radiation Protection and Research
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• 제29권3호
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• pp.165-172
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• 2004

피폭상자 내에서 벼를 생육단계별로 80 분 간 $I_2$ 증기에 피폭시키고 작물체 직접오염 관련 인자를 조사하였다. $I_2$ 증기의 경엽부 침적속도$(m\;s^{-1})$는 피폭시기에 따라 $1.4{\times}10^{-5}-1.3{\times}10^{-4}$의 범위로 생육 전반기 피폭시 비교적 낮았다. 이삭 침적속도는 $2.5{\times}10^{-5}-6.7{\times}10^{-5}$의 범위였다. 전체 작물체에 대한 침적속도는 $1.4{\times}10^{-5}-1.8{\times}10^{-4}$의 범위로 8월 18일(출수 시작후 7일) 피폭시 가장 높았다. 침적속도를 생육밀도 기준으로 나타내면 시기에 따른 변이 정도가 대체로 감소하였다. 기온, 일광 및 습도에 대한 이렇다할 침적속도의 경향성은 관찰되지 않았다. 요오드의 현미 전류계수는 $3.3{\times}10^{-5}-4.7{\times}10^{-4}$의 범위로 8월 23일 피폭에서 가장 높았다. 출수전 경엽부에 침적한 요오드도 상당량 현미로 전류하는 것으로 나타났다.

• 한국초전도학회:학술대회논문집
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• 한국초전도학회 2002년도 High Temperature Superconductivity Vol.XII
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• pp.81-81
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• 2002

• Progress in Superconductivity
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• 제3권1호
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• pp.125-129
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• 2001

NiO buffer layers were deposited on texture Ni tapes fur YBCO coated conductors by MOCVD(metal organic chemical vapor deposition) method, using a single solution source. Variables were deposition temperature and flow rate of $0_2$carrier gas. At higher temperatures, The NiO(111) texture was well developed, but the NiO(200) texture was developed at low temperatures. The best result was obtained at the deposition temperature of$ 470^{\circ}C$ and the gas flow rate of 200 sccm. FWHM value of $\omega$-scan fur NiO(200) of the film and $\Phi$-scan for NiO(111) of the film was $4.2^{\circ}$ and $7^{\circ}$, respectively.