Characteristics of $Si^+$ self implant Induced Damage and Its Annealing Behavior
($Si^+$ 이온주입된 Si 기판의 결함형성 및 회복에 관한 연구)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics A
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- v.31A no.8
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- pp.91-99
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- 1994