Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.16
no.2
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pp.99-102
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2015
Thin film transistors (TFTs) with amorphous 2 wt% silicon-doped zinc tin oxide (a-2SZTO) channel layer were fabricated using an RF magnetron sputtering system, and the effect of post-annealing treatment time on the structural and electrical properties of a-2SZTO systems was investigated. It is well known that Si can effectively reduce the generation of oxygen vacancies. However, it is interesting to note that prolonged annealing could have a bad effect on the roughness of a-2SZTO systems, since the roughness of a-2SZTO thin films increases in proportion to the thermal annealing treatment time. Thermal annealing can control the electrical characteristics of amorphous oxide semiconductor (AOS) TFTs. It was observed herein that prolonged annealing treatment can cause bumpy roughness, which led to increase of the contact resistance between the electrode and channel. Thus, it was confirmed that deterioration of the electrical characteristics could occur due to prolonged annealing. The longer annealing time also decreased the field effect mobility. The a-2SZTO TFTs annealed at 500℃ for 2 hours displayed the mobility of 2.17 cm2/Vs. As the electrical characteristics of a-2SZTO annealed at a fixed temperature for long periods were deteriorated, careful optimization of the annealing conditions for a-2SZTO, in terms of time, should be carried out to achieve better performance.
Proceedings of the Korean Society for Technology of Plasticity Conference
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1999.03b
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pp.112-115
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1999
The effect of intermediate annealing on the texture evolution in I.f steel was investigated by using X-ray texture measurement. After The sample was cold rolled to 80% reduction intermediate annealing was introduced to preform ${\gamma}$-fiber orientation grains in deformed matrix. The annealing time was varied between 30 and 3600 sec, These samples were cold rolled to 90% reduction and full annealed. By intermediate annealing final full annealed samples had very homogeneous ${\gamma}$-fiber orientation resulting in good deep drawability.
Gelatinization temperatures of upland and lowland waxy brown rice starches annealed at $25^{\circ}C$ and $60^{\circ}C$ for 24hr were investigated with differential scanning calorimetry No annealing effect was observed at low temperature. The upland rice starch showed narrower range of gelatinization temperature upon annealing treatment at $60\circ}C$ compared with the lowland rice starch. The enthalpy of gelatinization was not changed in case of the upland rice starch but was increased in case of the lowland one upon annealing.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers
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v.3
no.2
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pp.43-47
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1979
This paper presents the effect of stress relief annealing on mechanical properties in single Vee-groove welding joint. In this experiment, the investigation of annealing effect on mechanical properties of test material carried out by changing the annealing temperature from $600^{\circ}C$ to $900^{\circ}C$ under the given conditions. The results pbtained by this study are as follows: (1) Under the constant welding conditions, the tensile strength of test welded joint decrease in accordance with the increase of annealing temperature. The experimental results show that the reduction rate of tensile strength is about 35.09% of base metal strength. (2) Microhafdness distribution of welded joint bring about the maximum hardness near the bended line of welding joint. (3) Izod impact energy of welded joint in increase in according to the rise of annealing temperature and the peak energy of impact test occurs at $800^{\circ}C$
Polymer solar cells were fabricated with gravure printing process and the effect of thermal annealing of gravure printed organic layer was investigated. The layer structure of polymer solar cells is glass / ITO / hole transfer layer / active layer / Al structure was fabricated. For the active layer, 1:1 ratio of poly-3-hexylthiophene (P3HT) and [6,6]-phenyl C61-butyric acid methyl ester (PCBM) mixture was applied. The P3HT/PCBM blend was gravure printed onto the substrates. The effect of thermal annealing was investigated by changing annealing time and the number of printing. Maximum 3.6% of power conversion efficiency was achieved with gravure printing of organic layer and thermal annealing in this work.
Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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1996.11a
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pp.560-564
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1996
In recently, annealing process of cold rolled sheet tend to change to continuous annealing process for improving qualify, saving yield. In the meantime as demand for various kind and small lot of products has been increasing, batch annealing has been appreciated for its small restriction for the operation. So, we tested on the effect for a hydrogen contents of atmospheric gas at annealing furnace. As a result of several investigation. We confirmed for the following characteristics ; improved productivity, uniform heating, improved surface quality, saving energy. Therefore, the use of hydrogen instead of nitrogen as the protective gas, combined with high convection in batch annealing furnaces, has shown that considerable increases in furnace output and material quality are attainable. Owing to the low density, high diffusion and reducing character of hydrogen, a better transfer resulting in uniform material temperatures and improved coil surfaces can be achieved.
A newly designed magnetic annealing apparatus was used for the treatment of Fe-3%Si steels. With the help of this device, the effect of magnetic annealing on magnetostriction was studied in a wide spectrum of external elastic stresses. It was shown that magnetostriction properties of Fe-Si steels were improved in the compressed state through magnetic annealing, while those in the unstressed state or under tensiion were found to be practically unchanged.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.27
no.10
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pp.648-652
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2014
We have investigated the effect of electrical properties of amorphous InGaZnO thin film transistors (a-IGZO TFTs) by post thermal annealing in $O_2$ ambient. The post-annealed in $O_2$ ambient a-IGZOTFT is found to be more stable to be used for oxide-based TFT devices, and has better performance, such as the on/off current ratios, sub-threshold voltage gate swing, and, as well as reasonable threshold voltage, than others do. The interface trap density is controlled to achieve the optimum value of TFT transfer and output characteristics. The device performance is significantly affected by adjusting the annealing condition. This effect is closely related with the modulation annealing method by reducing the localized trapping carriers and defect centers at the interface or in the channel layer.
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics A
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v.30A
no.8
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pp.34-41
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1993
Effect of high temperature annealing conditions on Ta$_{2}O_{5}$ thin films was investigated. Ta$_{2}O_{5}$ thin films were deposited on P-type silicon substrates by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) using tantalum ethylate. Ta(C$_{2}H_{5}O)_{5}$, and nitrous oxide. N$_{2}$O. The microstructure changed from amorphous to polycrystalline above 700.deg. C annealing temperature. The refractive index, dielectric onstant and leakage current of the film increased as annealing temperature increased. However, annealing in oxygen ambient reduced leakage currents and dielectric constant due to the formation of interfacial SiO$_{2}$ layer. By optimizing annealing temperature and ambient, leakage current lower than 10$^{-8}$ A/cm$^{2}$ and maximum capacitance of 9 fF/${\mu}m^{2}$ could be obtained.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2003.07b
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pp.961-964
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2003
This paper presents the temperature annealing effect on the dark current of the InGaAs waveguide photodiodes, which are developed for high-speed optical receivers. The interesting experimental phenomena were observed that the dark current is significantly decreased and the breakdown voltage is slightly increased after annealing at $250^{\circ}C$ whereas the dark current and the breakdown voltage are almost constant after annealing at $200^{\circ}C$. Based on the experimental results, the long-term annealing is more effective for the dark current improvement than the conventional curing process.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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