• Title/Summary/Keyword: Additional etching

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Dip 추출에서 유체 표면의 영향을 고려한 친환경 포토레지스트 박리공정 (Green Photoresist Stripping Process with the Influence of Free Surface from Dip Withdrawal)

  • 김준현;김승현;정병현;주기태;김용성
    • 한국생산제조학회지
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    • 제25권1호
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    • pp.14-20
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    • 2016
  • This paper describes a green stripping process to effectively strip the remaining DFR layer on a non-alkali-based ITO glass surface after an etching process. A stripper, water-soluble amine compound, is used to investigate the characteristics of stripping ability and to suggest a valid method for the green process. Increasing the composition (5-30% concentration) of the ethanol amine-based stripper was found to greatly reduce the stripping time applied in the dipping method. The composition (30%) achieved an excellent stripping effect and free-residue impurities. Additionally, it was possible to obtain the effect of stripping in a way to sustain the release before generating DFR sludge from the ITO glass surface by using dipping condition (stripping time) in the composition. An Additional stripping process (buffering) out of dipping can realize productivity improvement and cost reduction because of the higher proportion of re-use of the stripping solution used in the DFR removal step.

고온 초전도 마이크로스트립 패치 안테나; 비방사면 급전방식을 이용한 초전도 안테나 특성 (High Tc Superconducting Microstrip Patch antenna ; Characterization of Superconducting Antenna using Non-Radiating Edge Feeding Technique)

  • 정동철;박성진;황종선;박종광;한병성
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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    • 제49권7호
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    • pp.375-381
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    • 2000
  • In this paper, we described the characterization of High-Tc Superconducting(HTS) microstrip antenna using non-radiating edge feeding technique and reported the microwave properties of HTS antennas with temperature. To do this, we prepared the $YBa_2Cu_3O_{7-x}$ superconducting thin film on MgO substrate using pulse-laser deposition techniques. The HTS microstrip antenna using non-radiating feeding technique was fabricated using chemical wet-etching. Then it was compared with identical antenna patterned with evaporated gold. The diverse measured results have been reported in terms of the input impedance, resonant frequency and return loss. In additional, at around the critical temperature, the effect of kinetic inductance which affect the resonant characteristic of the HTS microstrip antenna was reported.

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THE FABRICATION OF A PROCESS HEAT EXCHANGER FOR A SO3 DECOMPOSER USING SURFACE-MODIFIED HASTELLOY X MATERIALS

  • Park, Jae-Won;Kim, Hyung-Jin;Kim, Yong-Wan
    • Nuclear Engineering and Technology
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    • 제40권3호
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    • pp.233-238
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    • 2008
  • This study investigates the surface modification of a Hastelloy X plate and diffusion bonding in the assembly of surface modified plates. These types of plates are involved in the key processes in the fabrication of a process heat exchanger (PHE) for a $SO_3$ decomposer. Strong adhesion of a SiC film deposited onto Hastelloy X can be achieved by a thin SiC film deposition and a subsequent N ion beam bombardment followed by an additional deposition of a thicker film that prevents the Hastelloy X surface from becoming exposed to a corrosive environment through the pores. This process not only produces higher corrosion resistance as proved by electrolytic etching but also exhibits higher endurance against thermal stress above 9$900^{\circ}C$. A process for a good bonding between Hastelloy X sheets, which is essential for a good heat exchanger, was developed by diffusion bonding. The diffusion bonding was done by mechanically clamping the sheets under a heat treatment at $900^{\circ}C$. When the clamping jig consisted of materials with a thermal expansion coefficient that was equal to or less than that of the Hastelloy X, sound bonding was achieved.

Optical In-Situ Plasma Process Monitoring Technique for Detection of Abnormal Plasma Discharge

  • Hong, Sang Jeen;Ahn, Jong Hwan;Park, Won Taek;May, Gary S.
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • 제14권2호
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    • pp.71-77
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    • 2013
  • Advanced semiconductor manufacturing technology requires methods to maximize tool efficiency and improve product quality by reducing process variability. Real-time plasma process monitoring and diagnosis have become crucial for fault detection and classification (FDC) and advanced process control (APC). Additional sensors may increase the accuracy of detection of process anomalies, and optical monitoring methods are non-invasive. In this paper, we propose the use of a chromatic data acquisition system for real-time in-situ plasma process monitoring called the Plasma Eyes Chromatic System (PECS). The proposed system was initially tested in a six-inch research tool, and it was then further evaluated for its potential to detect process anomalies in an eight-inch production tool for etching blanket oxide films. Chromatic representation of the PECS output shows a clear correlation with small changes in process parameters, such as RF power, pressure, and gas flow. We also present how the PECS may be adapted as an in-situ plasma arc detector. The proposed system can provide useful indications of a faulty process in a timely and non-invasive manner for successful run-to-run (R2R) control and FDC.

Striation of coated conductors by photolithography process

  • Byeong-Joo Kim;Miyeon Yoon;Myeonghee Lee;Sang Ho Park;Ji-Kwang Lee;Kyeongdal Choi;Woo-Seok Kim
    • 한국초전도ㆍ저온공학회논문지
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    • 제25권4호
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    • pp.50-53
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    • 2023
  • In this study, the photolithography process was chosen to reduce the aspect ratio of the cross-section of a high-temperature superconducting (HTS) tape by dividing the superconducting layer of the tape. Reducing the aspect ratio decreases the magnetization losses in the second-generation HTS tapes generated by AC magnetic fields. The HTS tape used in the experiment has a thin silver (Ag) layer of about 2 ㎛ on top of the REBCO superconducting layer and no additional stabilizer layer. A dry film resist (DFR) was laminated on top of the HTS tape by a lamination method for the segmentation. Exposure to a 395 nm UV lamp on a patterned mask cures the DFR. Dipping with a 1% Na2CO3 solution was followed to develop the uncured film side and to obtain the required pattern. The silver and superconducting layers of the REBCO films were cleaned with an acid solution after the etching. Finally, the segmented HTS tape was completed by stripping the DFR film with acetone.

진공 증착 투명 OLED 투과도 및 발광 특성 개선을 위한 Mesh 전극 연구 (A Study on Vacuum-deposited Transparent OLED to Improve Its Transmittance and Luminescence Characteristics with a Mesh Electrode)

  • 김영우;전용민;조의식;권상직
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제23권2호
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    • pp.82-86
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    • 2024
  • With the growing field and growing interest in transparent organic light-emitting diodes (TOLED) in the industry, various attempts are being made to improve the transmittance and performance of TOLED. TOLEDs are expected to be used in next-generation displays such as mixture reality (MR) displays, displayable windows, televisions, etc. This study presents a mesh TOLED with better transmittance and luminescence characteristics than existing TOLEDs through an in-situ vacuum deposition method that does not require additional processes such as photolithography and etching. In this study the mesh TOLED's cathode consists of Mg: Ag 1:9 electrode. Mesh patterns are interconnected with a 6 nm layer of interlayer. We approached transmittance improvement up to 30% at 555 nm at the cathode electrode with similar current injection character, also we improved lumination characteristics up to 23% at 7 V driving condition.

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접착레진의 추가도포가 자가부식형 접착제의 상아질에 대한 미세인장접착강도에 미치는 영향 (Effect of additional coating of bonding resin on the microtensile bond strength of self-etching adhesives to dentin)

  • 정문경;조병훈;손호현;엄정문;한영철;정세준
    • Restorative Dentistry and Endodontics
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    • 제31권2호
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    • pp.103-112
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    • 2006
  • 본 실험에서는 자가부식형 접착제와 콤포짓트 레진 사이의 산도의 차이를 완화시킬 수 있는 접착레진을 자가부식형 접착제 위에 추가적으로 도포할 경우, 상아질에 대한 접착력을 개선할 수 있는지를 연구하였다. 자가부식형 접착제로는 실험실에서 직접 제작한 실험용 자가부식형 접착제 (pH: 1.96)와 Adper Prompt (3M ESPE, VSA, pH: 1.0)를 사용하였으며, 중성의 접착레진으로 All-Bond 2의 D/E bonding resin (Bisco Inc., USA, pH: 6.9)을 사용하였다. 두 대조군에서는 두 가지 자가부식형 접착제를 각각 두번씩 도포하였으며, 두 실험군에서는 각 자가부식형 접착제를 한번 도포한 후 그 위에 D/E bonding resin을 추가 도포하였다. Z-250 하이브리드 복합레진을 쌓아올려 모레시계 형태의 시편을 제작하여 미세인장강도를 측정하고 t-test를 이용하여 비교하였다. 파절 양상은 입체현미경과 주사전자현미경을 이용하여 관찰하였다. D/E bonding resin을 추가 도포한 미세 인장접착강도는 유의하게 증가되었고, 접착층과 복합레진 또는 접착층과 상아질 사이의 파절을 보인 시편의 수는 감소하고, 접착층 내의 파절을 보인 시편의 수는 증가되었다. 따라서 자가부식형 접착제와 복합레진의 산도의 차이를 완화할 수 있는 중성의 접착레진을 추가 도포할 경우 미세인장접착강도를 증가시킬 수 있음을 확인하였다.

접착시스템의 소수성이 Low-shrinkage silorane resin과 상아질의 미세인장강도에 미치는 영향 (Effect of adhesive hydrophobicity on microtensile bond strength of low-shrinkage silorane resin to dentin)

  • 조소연;강현영;김경아;유미경;이광원
    • Restorative Dentistry and Endodontics
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    • 제36권4호
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    • pp.280-289
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    • 2011
  • 연구목적: 본 연구의 목적은 다양한 소수성을 지닌 최신 상아질 접착시스템과 저수축 silorane 레진의 미세인장결합강도를 평가하는 것이다. 연구 재료 및 방법: 36개의 갓 발치된 제3대구치를 이용했다. Low-speed diamond saw를 사용하여 교합면에 평행하게 치관을 잘라 middle dentin을 노출시켰다. 치아를 무작위로 9 group으로 나눴다. Silorane self-etch adhesives (SS), SS + phosphoric acid etching (SS + pa), Adper Easy bond (AE), AE + Silorane system bonding (AE + SSb), Clearfil SE bond (CSE), CSE + SSb, All-Bond 2 (AB2), AB2 + SSb, All-Bond 3 (AB3). 접착제를 적용한 후에 Filtek LS (3M ESPE)를 2 mm씩 3회 적층충전하였다. 각 층은 40s씩 광중합하였다. 0.8 mm ${\times}$ 0.8 mm stick을 Micro Tensile Tester로 1 mm/min cross-head speed의 인장력을 가하였다. 파절양상를 관찰하기 위해 광학현미경을 이용하였다. 5가지 접착제의 소수성정도를 결정하기위해 water sorption test하였다. 결과: silorane 레진과 5가지 접착제의 ${\mu}TBS$: SS, 23.2 ${\pm}$ 6.9 MPa; CSE, 19.4 ${\pm}$ 4.4 MPa; AB3, 30.3 ${\pm}$ 4.0 MPa; AB2와 AE, no bond. Additional layering of SSb: CSE + SSb, 26.2 ${\pm}$ 10.3 MPa; AB2 + SSb, 33.9 ${\pm}$ 7.3 MPa; AE + SSb, no bond. 높은 ${\mu}TBS$는 cohesive failure와 관련있었다. SS는 낮은 가장 낮은 water sorption을 보였고 다음으로 AB3, AE, CSE, AB2 순서였다. AE는 가장 높은 용해도를 나타냈고 다음으로 CSE, AB2였다. 결론: 접착제의 소수성이 증가할수록, silorane 레진의 접착강도도 증가하였다. 비전용접착제 위에 silorane adhesive bonding을 layering하는 것은 AB2 + SSb 그룹에서만 결합강도를 유의하게 증가시켰다. AB3는 SS와 유사한 ${\mu}TBS$ & water sorption을 나타냈다. 따라서 AB3는 siloran resin을 접착시키는데 SS를 대체할만한 경쟁력있는 접착제이다.

기계적 삭제방법을 이용한 치면열구전색제의 열구 침투도 및 미세누출 (THE FISSURE PENETRATION AND MICROLEAKAGE OF PIT AND FISSURE SEALANT WITH MECHANICAL PREPARATION)

  • 김지연;이제호;박기태;김성오;최병재;손흥규
    • 대한소아치과학회지
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    • 제32권1호
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    • pp.164-173
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    • 2005
  • 교합면 치아우식 예방을 위한 치면열구전색제 도포시 열구내 유기물, 치태, 법랑질 잔사 등을 제거하여 전색제의 유지율을 증가시키고자 기계적 삭제 방법이 소개되었다. 기계적 삭제방법을 사용할 경우 산부식 방법만을 사용하였을 때와 비교하여 치면열구전색제의 열구 침투도 및 미세누출정도의 차이는 임상적인 측면에서 중요하다. 따라서 이 연구에서는 기계적 삭제방법(소와열구 삭제 후 산부식)과 산부식 방법을 시행한 후, 각각 unfilled sealant와 filled sealant를 처치하고 이들 치면열구전색제의 열구 침투도와 미세누출 정도를 측정하였다. 교정치료를 목적으로 발거된 사람의 소구치 60개를 실험재료로 사용하였으며 그중 30개는 산부식 처리하고 나머지 30개는 소와열구의 기계적 삭제와 산부식 처리를 시행한 후 각각의 방법에서 15개는 unfilled sealant로 나머지 15개는 filled sealant로 수복하였다. Thermocycling($5^{\circ}C$$55^{\circ}C$ 1200회)을 시행하고 5% methylene blue 용액에 24시간 보관하였다가 각각의 치아를 근심소와와 원심소와에서 협설 방향으로 절단하여 120개의 절단면을 얻었다. 각 절단면을 Measurescope으로 관찰한 결과, 기계적 삭제 방법은 산부식만을 시행한 경우에 비하여 unfilled sealant와 filled sealant 모두 열구 침투도를 증가시켰다(P < 0.05). 기계적 삭제 방법을 사용한 경우 산부식 방법만을 사용하고 unfilled sealant로 수복한 경우에 비하여 미세누출이 적었고(P < 0.05), 산부식 방법만을 사용하고 filled sealant로 수복한 경우와는 미세누출에 차이가 없었다. Unfilled sealant와 filled sealant는 기계적 삭제 방법을 사용한 경우와 산부식 방법만을 사용한 경우 모두 열구 침투도나 미세누출에 있어서 유의한 차이가 없었다. 이상의 결과로 보아 치면열구전색제 도포 시 열구 침투도가 우수하고 미세누출이 적은 기계적 삭제 방법과 물리적 성질이 우수한 filled sealant의 사용이 바람직하다고 생각된다. 그러나 미세누출에 있어 교합력을 고려한 실험이나 장기간의 임상실험이 필요할 것이다.

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불산-오존-희석 암모니아수 세정에 의한 실리콘 웨이퍼 표면의 미세입자 제거 (Particle Removal on Silicon Wafer Surface by Ozone-HF-NH4OH Sequence)

  • 이건호;배소익
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • 제45권2호
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    • pp.203-207
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    • 2007
  • 불산과 오존 세정 시 실리콘 웨이퍼 표면의 미세입자를 효과적으로 제거할 수 있는 세정 방법에 대하여 연구하였다. 불산의 농도가 0.3 vol% 이상이 되어야 미세입자가 제거 되었으며, 초음파가 인가된 오존수를 사용 시 제거 효율은 증가되었다. 오존과 불산 세정 단계 이후에 추가로 극미량의(0.01 vol%) 희석 암모니아수 세정을 하면 미세입자가 99%이상 제거됨을 확인하였다. 이는 암모니아수에 의한 웨이퍼 표면의 미세 에칭 효과와 알칼리 영역에서의 재흡착 방지 효과가 동시에 작용함에 기인된다고 보인다. 한편, 불산-오존-희석 암모니아수 세정은 통상의 SC-1 세정과 비교할 때 표면 미세 거칠기가 개선되는 경향을 보였다. 불산-오존-희석 암모니아수 세정은 상온에서도 미세입자를 효과적으로 제거할 수 있는 세정 방법으로, 고온 공정 및 과다한 화학액을 사용하는 기존 습식세정의 대안으로서 기대된다.