[서론] Pure Ti 및 Ti합금의 양극산화법에 의해 만들 수 있는 자기조직화된 나노튜브피막은 광촉매, 태양전지 등 다양한 분야에서 많은 연구가 되고 있다. 양극산화법에 의해 생성되는 산화피막층의 성장거동에 대해서 지금까지 용액의 pH, 온도 및 인가전압 등 양극산화조건의 영향에 대해 많은 연구가 보고 되었다. 하지만, 양극산화에 사용되는 기판의 특성에 대해서는 많은 연구가 이루어지지 않고 있다. 본 연구에서는 pure Ti 및 Ti-Ni합금에 양극산화법에 의해 생성하는 나노튜브 피막층의 성장거동에 대해 기판의 특성(Ni농도 변화 및 phase변화)이 피막층의 형태 및 성장거동에 미치는 영향에 대해서 조사 하였다. [실험방법] Sample은 pure Ti 및 Ti-xNi(x=49.0, 51.1, 52.2, 52.5 at.%)를 이용하였다. Ti-Ni합금은 아크용해로 제작 후 $1000^{\circ}C$ 에서 24시간 균질화 처리 후 20% 냉간압연을 하였다. 합금의 조성 및 결정구조 분석은 EPMA 및 XRD를 통해 조사 하였고, 양극산화는 미량의 물 및 불화암모늄을 포함한 에틸렌글리콜 용액에서 20, 35, 50V 20분간 실시하였다. 양극산화법에 의해 형성한 산화피막층은 FE-SEM 및 TEM을 통해 관찰 하였다. [결론] Pure Ti의 경우 모든 조건에서 나노튜브형태의 산화막이 형성되는 것을 알 수 있었다. 하지만, Ti-Ni 합금의 경우 20V, 35V에서는 sponge 형태의 산화막이 형성되고, 50V에서만 나노튜브형태의 산화막이 형성 되었다. 또한, 모든 시편에서 양극산화 시간이 증가함에 따라 나노튜브형태의 산화막은 sponge 형태로 구조적 변화가 일어나는 것을 알 수 있었다. 그리고, 기판 Ni농도가 증가 함에 따라 형성되는 산화막의 형태 변화는 가속화 되는 것을 알 수 있었다. 이러한 결과는 양극산화 초기 Ti의 우선적 산화에 의해 Ti과잉의 나노튜브층이 생성되고, 동시에 산화막과 합금계면에 Ni과잉층이 형성되는 것을 알 수 있었다. 산화막과 합금계면에 생성된 Ni과잉층에 의해 양극산화 시간이 증가함에 따라 sponge형태의 산화막이 생성되는 것을 알 수 있었다.
Lowering surface reflectance of silicon wafer by texturization is one of the most important processes to improve the efficiency of silicon solar cells. Generally, the texturing of crystalline silicon was carried out using alkaline solution. The average reflectance of this method was 11% at the wavelength between 400 and 1,000 nm. In this study, the wafers were first texturing by NaOH solution at $80^{\circ}C$ for 35 min. Then the wafers were texturing by $SF_6$ and $O_2$ plasma in RIE (Reactive Ion Etching). The average reflectance of two step texturing was reduced to below 5% at the wavelength between 400 and 1,000 nm.
A textured front surface is required in high efficiency silicon solar cells to reduce reflectance and to improve light trapping. Wet etching with alkaline solution is usually applied for mono crystalline silicon solar cells. However, alkali texturing method is not appropriate for multi-crystalline silicon wafers due to grain boundary of random crystallographic orientation. Accordingly, acid texturing method is generally used for multi-crystalline silicon wafers to reduce the surface reflectance. To reduce reflectivity of multi-crystalline silicon wafers, double texturing method with combination of acid and reactive ion etching is an attractive technical solution. In this paper, we have studied to optimize RIE condition by different RF power condition (100, 150, 200, 250, 300 W).
기관 및 후두의 점막표면은 중이나 이관과 마찬가지로 점막섬모 정화작용, 면역글로린, 항세균 효소 등의 다양한 점막 방어기전에 의해 보호되고 있는데 기관 및 후두의 분비선과 분비세포의 형태에 관한 보고는 많으나 분비활성도와 연관된 분비조직의 발생에 대한 연구는 충분치 못하다. 저자들은 백서 기관 및 후두의 분비조직의 발생을 알아보고 향후 기관 및 후두의 발생형태학적 연구의 기초자료로 삼기 위해서 임신 16일부터 생후 21사이의 백서를 이용하여 H & E 염색, AB-PAS 염색과 lysozyme의 면역조직화학적 방법을 통하여 백서 기관 및 후두분비조직의 발달을 연구하였다. 그 결과 백서 기관 및 후두의 분비기능은 출생후 폐의 통기와 함께 활성화되는 것으로 해석되었다.
In this paper, we found surface shapes are affected by several parameters of RIE, such as RF power, pressure, temp, and process times. The reflectance of pyramid and half sphere structures show differences among shapes, size, height, and depth of those structures. We made about $1{\mu}m$ pyramid and half sphere shapes of silicon surface with RIE. For comparing the reflectance, pyramid and half sphere structures are fabricated with same height. Pyramid structure cell shows higher cell efficiency of 12.5% by 1.1% than one of half sphere structure of 11.4%. The light absorption is more increased through the pyramid structure than half sphere structure.
이차원 표면에 난 구멍은 이를 둘러싼 물체에 의해 경계 지워진 빈 배경임에도 불구하고, 구멍의 모양은 다른 물체만큼 쉽게 지각된다. 즉, 구멍은 전경-배경 조직화의 깊이-형태 간 연결 관계(depth-shape coupling)를 예외적으로 위반하여, 깊이 상으로는 배경임에도 불구하고 형태를 갖는 준-전경적(quasi-figural) 사례처럼 보인다. 구멍의 준-전경적 속성을 지지하는 연구들은 구멍과 물체의 재인율이 유사하다는 기억 과제 결과에 주로 의존하고 있으므로, 구멍 모양의 기억이 지각적 처리에 기반하고 있는지는 불분명하다. 본 연구는 재인 과제보다 즉각적인 지각 처리를 반영하는 변화탐지 과제를 이용하여, 구멍을 경계 짓는 물체의 안쪽 윤곽선이 시각 작업기억에 어떻게 표상되는지 알아보았다. 이를 위해, 물체 내부에 다른 물체가 중첩된 접합 물체 조건과 구멍이 있는 물체 조건에서 안쪽 윤곽선과 바깥 영역의 색에 대한 변화탐지 수행을 비교하였다. 시각 작업기억의 선행 연구들은 형태나 방향과 같은 물체의 윤곽선 속성(boundary feature)이 표면 속성(surface feature)과 함께 통합되어 하나의 물체로 저장됨을 시사한다. 만일 구멍의 경계선이 구멍을 둘러싼 물체에 지각적으로 할당된다면, 이 경계선과 물체의 표면색이 통합적으로 부호화되는 물체 중심적 처리 이득으로 인해, 구멍 자극 조건에서 접합 자극 조건보다 높은 변화 탐지 수행이 예측되었다. 두 실험의 결과, 구멍 자극 조건의 변화 탐지 수행은 접합 자극 조건과 다르지 않았다. 이는 물체 내부의 윤곽선(구멍의 경계선) 속성이 물체의 표면 속성과 통합적으로 부호화되지 않으며, 구멍을 둘러싼 물체와 독립적으로 처리됨을 시사한다.
동면 전, 중, 후 및 활동기간 동안 옴개구리(Rana rugosa)의 위장관 점액분비세포내 점액성 물질의 변화를 조직화학적으로 관찰하여 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. 옴개구리의 위장관 점막내 점액성 물질은 위 표면상피세포에서 PAS에, 소장 배상 세포에서는 PAS와 AB 2.5에, 그리고 대장 배상세포에서는 AB 2.5에 강한 양성 반응을 보였다. 2. 동면에 따라 위 점막분비세포내 PAS 양성인 중성 점액질은 현저히 증가하였다. 3. 동면에 따라 소장내 AB 2.5에 양성인 약산성 점액질과 AB 1.0에 양성인 산성 유화 점액질은 현저히 감소를 보이는 반면, PAS 양성인 중성 점액질은 약간 증가를 보였다. 4. 동면에 따라 대장내 AB 2.5에 양성인 약산성 점액질은 아주 현저한 감소를 보였고, PAS양성인 중성 점액질도 역시 다소 감소를 보였다. 5. 동면시 위점막 상피세포내에서 PAS양성인 점액질은 그 분비능이 합성능에 미치지 못하여 현저히 증가되며, 위 점막의 접착을 방지하고, 위산 및 효소의 활성을 억제하는 것으로 생각되며, 장내 배상세포에서는 위산 및 장액분비의 현저한 감소로 장내 산도가 중성에 가까워져서 중성에 가까운 점액물질을 분비하는 것으로 추리된다.
흰쥐 발정주기와 난소절제에 따른 질의 GCs, ER-$\alpha$, c-fos 및 c-jun 변화를 조직화학적 및 면역조직화학적으로 관찰하였다. 질상피는 발정사이기와 발정전기로 이어 지는 점액세포화과정에서 현저한 GCs의 양적 증가를 관찰할 수 있으며 발정사이기의 SBA, 발정전기와 발정기의 Con A와 같이 발정주기에 따른 특이적 GCs가 관찰되었다. 난소절제시에는 매우 위축된 표면층 평평세포에서만 미량의 GCs가 관찰되었다. 질에서 ER-$\alpha$, c-fos, c-jun등은 주로 핵에서 반응을 나타내는데, ER- $\alpha$는 상피세포 중 바닥층에서 주로 관찰되며, 반응세포수로 보아 발정주기에 따른 변화는 없었으나 버팀질세포에서는 발정사이기부터 발정기사이에 가장 많이 관찰되었다. c-fos는 상피의 바닥층과 중간층세포 그리고 버팀질세포에서 발정전기와 발정기사이에 가장 많이 관찰되며 c-jun은 발정기의 상피 바닥층에서 가장 많이 관찰되나 버팀질세포에서는 발정기에만 관찰되었다. 난소절제시 ER-$\alpha$, c-fos, c-jun모두 상피의 적은 세포에서만 관찰되며 버팀질 세포에서는 관찰되지 않았다. 이상의 결과로 보아 발정주기와 난소절제에 따라 특이적인 GCs분포를 보일 뿐 아니라 ER-$\alpha$, c-fos, c-jun 같은 단백질의 상이한 분포를 보여 주고 있어 이들이 질상피세포의 증식과 분화에 관여함을 알 수 있다.
양서류 발생에 따른 위점막 점액세포의 조직학적 및 조직화학적인 변화를 밝히고저 개구리(Rana nigromaculata)변태 각 단계의 위체부 조직을 10% formalin 완충액에 고정($4^{\circ}C$), paraffin에 포매, 4 $\mu$m 두께로 절편한후 periodic acid-Schiff(PAS) 및 alcian blue(AB) pH 2.5, pH 1.0에 반응시켜 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 위 표면점액세포내 점액질은 변태과정에 따라 특이한 변화없이 PAS에 강한 반응을 AB pH 2.5 및 pH 1.0에서는 약한 alcianophilia를 보였으며, 변태 XXIV와 XXV에서 세포내 중성 점액질의 함량이 현저히 증가하였다. 2. 위소와점액세포는 변태 XXI이후에서 볼 수 있었는데 PAS에 강한 반응을, AB pH 2.5 및 pH 1.0에서 약한 alcianophilia를 보였으나, AB pH 1.0에서는 AB pH 2.5에서 보다 강하였고, 변태 XXIV와 XXV에서 세포내 중성 점액질의 함량이 현저히 증가하였다. 3. 분비능을 보이는 점액질세포는 변태 XXIV이후인데 변태 XXIV에서는 PAS에 강양성을, AB pH 1.0에서는 약한 alcianophilia를 보였고, 변태 XXV 이후에는 PAS에 약한 반응을, AB pH 2.5에는 약하고 AB pH 1.0에는 중등도의 alcianiphilia를 보였는데 이들 점액질은 전 세포질에 비교적 고르게 분포하였다.
성숙한 정상마우스 ( 체중 약 20gr)의 위장관 점막 내에 출현하는 점액함유 세포의 점액질의 화학적 조성을 구명하고자 PAS, AB pH 2.5-PAS, AB pH 1.0-PAS 염색법을 이용하여 중성점액질, 황화점액질 및 산성점액질의 염색반응의 유무 내지 강약으로서 비교 검토하였고, 또 전자현미경을 이용하여 이들 세포의 미세구조를 관찰하였다. 위체부 표면상피에 출현하는 점액함유 세포는 주성분이 중성점액질이고, 약간의 약산성 점액질도 존재하였다. 위소와에 있는 점액세포와 점액경세포는 중성점액질을 함유하고 있었다. 소장의 점막상피에 출현하는 배상세포에서는 약산성, 강산성, 황화점액질이 주성분이었고, 약간의 중성점액질을 함유하고 있었다. 한편, 장선의 장상세포는 비황화 약산성 점액질을 갖고 있다. 대장의 점막상피에 출현하는 배상세포는 표면상피에서는 소장과 대동소이 하였으나 은와부에서는 중성 및 약산성점액질이 주성분이었다. 위체부 표면상피에 있는 점액세포의 과랍은 전자밀도가 높은 것이 대부분이었고, 전자밀도가 낮은 것이 소수 출현하였다. 점액경세포의 점액과립은 전자밀도가 낮았으나, 그 속에 dense core 가 있는 것이 출현하였다. 대 소장 점막상피에 출현하는 배상세포는 모두 전자밀도가 낮은 과립이 존재하였다. 위장관의 점액세포들은 모두 부분분필방식을 취하고 있었다.
본 웹사이트에 게시된 이메일 주소가 전자우편 수집 프로그램이나
그 밖의 기술적 장치를 이용하여 무단으로 수집되는 것을 거부하며,
이를 위반시 정보통신망법에 의해 형사 처벌됨을 유념하시기 바랍니다.
[게시일 2004년 10월 1일]
이용약관
제 1 장 총칙
제 1 조 (목적)
이 이용약관은 KoreaScience 홈페이지(이하 “당 사이트”)에서 제공하는 인터넷 서비스(이하 '서비스')의 가입조건 및 이용에 관한 제반 사항과 기타 필요한 사항을 구체적으로 규정함을 목적으로 합니다.
제 2 조 (용어의 정의)
① "이용자"라 함은 당 사이트에 접속하여 이 약관에 따라 당 사이트가 제공하는 서비스를 받는 회원 및 비회원을
말합니다.
② "회원"이라 함은 서비스를 이용하기 위하여 당 사이트에 개인정보를 제공하여 아이디(ID)와 비밀번호를 부여
받은 자를 말합니다.
③ "회원 아이디(ID)"라 함은 회원의 식별 및 서비스 이용을 위하여 자신이 선정한 문자 및 숫자의 조합을
말합니다.
④ "비밀번호(패스워드)"라 함은 회원이 자신의 비밀보호를 위하여 선정한 문자 및 숫자의 조합을 말합니다.
제 3 조 (이용약관의 효력 및 변경)
① 이 약관은 당 사이트에 게시하거나 기타의 방법으로 회원에게 공지함으로써 효력이 발생합니다.
② 당 사이트는 이 약관을 개정할 경우에 적용일자 및 개정사유를 명시하여 현행 약관과 함께 당 사이트의
초기화면에 그 적용일자 7일 이전부터 적용일자 전일까지 공지합니다. 다만, 회원에게 불리하게 약관내용을
변경하는 경우에는 최소한 30일 이상의 사전 유예기간을 두고 공지합니다. 이 경우 당 사이트는 개정 전
내용과 개정 후 내용을 명확하게 비교하여 이용자가 알기 쉽도록 표시합니다.
제 4 조(약관 외 준칙)
① 이 약관은 당 사이트가 제공하는 서비스에 관한 이용안내와 함께 적용됩니다.
② 이 약관에 명시되지 아니한 사항은 관계법령의 규정이 적용됩니다.
제 2 장 이용계약의 체결
제 5 조 (이용계약의 성립 등)
① 이용계약은 이용고객이 당 사이트가 정한 약관에 「동의합니다」를 선택하고, 당 사이트가 정한
온라인신청양식을 작성하여 서비스 이용을 신청한 후, 당 사이트가 이를 승낙함으로써 성립합니다.
② 제1항의 승낙은 당 사이트가 제공하는 과학기술정보검색, 맞춤정보, 서지정보 등 다른 서비스의 이용승낙을
포함합니다.
제 6 조 (회원가입)
서비스를 이용하고자 하는 고객은 당 사이트에서 정한 회원가입양식에 개인정보를 기재하여 가입을 하여야 합니다.
제 7 조 (개인정보의 보호 및 사용)
당 사이트는 관계법령이 정하는 바에 따라 회원 등록정보를 포함한 회원의 개인정보를 보호하기 위해 노력합니다. 회원 개인정보의 보호 및 사용에 대해서는 관련법령 및 당 사이트의 개인정보 보호정책이 적용됩니다.
제 8 조 (이용 신청의 승낙과 제한)
① 당 사이트는 제6조의 규정에 의한 이용신청고객에 대하여 서비스 이용을 승낙합니다.
② 당 사이트는 아래사항에 해당하는 경우에 대해서 승낙하지 아니 합니다.
- 이용계약 신청서의 내용을 허위로 기재한 경우
- 기타 규정한 제반사항을 위반하며 신청하는 경우
제 9 조 (회원 ID 부여 및 변경 등)
① 당 사이트는 이용고객에 대하여 약관에 정하는 바에 따라 자신이 선정한 회원 ID를 부여합니다.
② 회원 ID는 원칙적으로 변경이 불가하며 부득이한 사유로 인하여 변경 하고자 하는 경우에는 해당 ID를
해지하고 재가입해야 합니다.
③ 기타 회원 개인정보 관리 및 변경 등에 관한 사항은 서비스별 안내에 정하는 바에 의합니다.
제 3 장 계약 당사자의 의무
제 10 조 (KISTI의 의무)
① 당 사이트는 이용고객이 희망한 서비스 제공 개시일에 특별한 사정이 없는 한 서비스를 이용할 수 있도록
하여야 합니다.
② 당 사이트는 개인정보 보호를 위해 보안시스템을 구축하며 개인정보 보호정책을 공시하고 준수합니다.
③ 당 사이트는 회원으로부터 제기되는 의견이나 불만이 정당하다고 객관적으로 인정될 경우에는 적절한 절차를
거쳐 즉시 처리하여야 합니다. 다만, 즉시 처리가 곤란한 경우는 회원에게 그 사유와 처리일정을 통보하여야
합니다.
제 11 조 (회원의 의무)
① 이용자는 회원가입 신청 또는 회원정보 변경 시 실명으로 모든 사항을 사실에 근거하여 작성하여야 하며,
허위 또는 타인의 정보를 등록할 경우 일체의 권리를 주장할 수 없습니다.
② 당 사이트가 관계법령 및 개인정보 보호정책에 의거하여 그 책임을 지는 경우를 제외하고 회원에게 부여된
ID의 비밀번호 관리소홀, 부정사용에 의하여 발생하는 모든 결과에 대한 책임은 회원에게 있습니다.
③ 회원은 당 사이트 및 제 3자의 지적 재산권을 침해해서는 안 됩니다.
제 4 장 서비스의 이용
제 12 조 (서비스 이용 시간)
① 서비스 이용은 당 사이트의 업무상 또는 기술상 특별한 지장이 없는 한 연중무휴, 1일 24시간 운영을
원칙으로 합니다. 단, 당 사이트는 시스템 정기점검, 증설 및 교체를 위해 당 사이트가 정한 날이나 시간에
서비스를 일시 중단할 수 있으며, 예정되어 있는 작업으로 인한 서비스 일시중단은 당 사이트 홈페이지를
통해 사전에 공지합니다.
② 당 사이트는 서비스를 특정범위로 분할하여 각 범위별로 이용가능시간을 별도로 지정할 수 있습니다. 다만
이 경우 그 내용을 공지합니다.
제 13 조 (홈페이지 저작권)
① NDSL에서 제공하는 모든 저작물의 저작권은 원저작자에게 있으며, KISTI는 복제/배포/전송권을 확보하고
있습니다.
② NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 상업적 및 기타 영리목적으로 복제/배포/전송할 경우 사전에 KISTI의 허락을
받아야 합니다.
③ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 보도, 비평, 교육, 연구 등을 위하여 정당한 범위 안에서 공정한 관행에
합치되게 인용할 수 있습니다.
④ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 무단 복제, 전송, 배포 기타 저작권법에 위반되는 방법으로 이용할 경우
저작권법 제136조에 따라 5년 이하의 징역 또는 5천만 원 이하의 벌금에 처해질 수 있습니다.
제 14 조 (유료서비스)
① 당 사이트 및 협력기관이 정한 유료서비스(원문복사 등)는 별도로 정해진 바에 따르며, 변경사항은 시행 전에
당 사이트 홈페이지를 통하여 회원에게 공지합니다.
② 유료서비스를 이용하려는 회원은 정해진 요금체계에 따라 요금을 납부해야 합니다.
제 5 장 계약 해지 및 이용 제한
제 15 조 (계약 해지)
회원이 이용계약을 해지하고자 하는 때에는 [가입해지] 메뉴를 이용해 직접 해지해야 합니다.
제 16 조 (서비스 이용제한)
① 당 사이트는 회원이 서비스 이용내용에 있어서 본 약관 제 11조 내용을 위반하거나, 다음 각 호에 해당하는
경우 서비스 이용을 제한할 수 있습니다.
- 2년 이상 서비스를 이용한 적이 없는 경우
- 기타 정상적인 서비스 운영에 방해가 될 경우
② 상기 이용제한 규정에 따라 서비스를 이용하는 회원에게 서비스 이용에 대하여 별도 공지 없이 서비스 이용의
일시정지, 이용계약 해지 할 수 있습니다.
제 17 조 (전자우편주소 수집 금지)
회원은 전자우편주소 추출기 등을 이용하여 전자우편주소를 수집 또는 제3자에게 제공할 수 없습니다.
제 6 장 손해배상 및 기타사항
제 18 조 (손해배상)
당 사이트는 무료로 제공되는 서비스와 관련하여 회원에게 어떠한 손해가 발생하더라도 당 사이트가 고의 또는 과실로 인한 손해발생을 제외하고는 이에 대하여 책임을 부담하지 아니합니다.
제 19 조 (관할 법원)
서비스 이용으로 발생한 분쟁에 대해 소송이 제기되는 경우 민사 소송법상의 관할 법원에 제기합니다.
[부 칙]
1. (시행일) 이 약관은 2016년 9월 5일부터 적용되며, 종전 약관은 본 약관으로 대체되며, 개정된 약관의 적용일 이전 가입자도 개정된 약관의 적용을 받습니다.