포획준위 밀도 예정을 통한 열증착한 일산화규소 박막과 고주파 스퍽터링한 이산화규소 박막의 특성비교
(Comparison of Characteristics Between Thermal Evaporated SiO and rf Sputtered $SiO_2$ Thin Films by Trap Density Measurements)
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- 대한전자공학회논문지
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- 제24권4호
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- pp.625-630
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- 1987