• Title/Summary/Keyword: 펨토초레이저

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Femtosecond-Laser Micromachining of a Thermal Blocking Trench for an Enhanced PLC Variable Optical Attenuator (펨토초 레이저를 이용한 PLC 가변광감쇠기 특성 향상을 위한 열간섭 차단 트렌치 가공 기술)

  • Yoo, Dongyoon;Choi, Hun-Kook;Sohn, Ik-Bu;Kim, Youngsic;Kim, Suyong;Kim, Wanchun;Kim, Jinbong
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.27 no.4
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    • pp.127-132
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    • 2016
  • In this paper, a trench structure was fabricated by femtosecond-laser machining to eliminate thermal crosstalk in a multichannel variable optical attenuator (VOA), to prevent decreasing attenuation efficiency of the VOA. Trenches of a variety of widths and depths were fabricated on the VOA chips by femtosecond-laser processing. After the machining, attenuation according to current change was observed in each VOA chip module with trenches. As a result, we could observe high responsivity of attenuation and low power consumption, and that the heat of each channel barely influenced other channels.

복셀 차감법을 이용한 나노 복화(複畵)공정의 정밀화

  • 임태우;박상후;양동열;이신욱;공홍진
    • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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    • 2004.05a
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    • pp.155-155
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    • 2004
  • 최근 집중 육성산업으로 분류되어 연구 및 투자가 되고 있는 반도체, 정보통신, 바이오산업, 디스플레이 등에서 초정밀화와 저비용, 대량생산을 하기 위해서 기존의 공정을 대체할 수 있는 새로운 나노공정기술의 요구가 급증하고 있다 최근에는 극초단파 특성으로 인하여 극미세 형상을 가공할 수 있는 펨토초 레이저(femto second laser)를 나노공정에 적용하는 다양한 연구가 진행되고 있다. 특히, 기존의 쾌속조형공정을 응용하여 다른 공정으로는 제작이 불가능한 나노 스케일에서 3차원 자유곡면을 가지는 구조물을 제작할 수 있는 공정개발에 대하여 다양한 연구가 진행되고 있다.(중략)

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나노 복화(複畵)공정의 단면 적층법을 이용한 3차원 형상 제작에 관한 기초연구

  • 박상후;임태우;양동열;이신욱;공홍진
    • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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    • 2004.05a
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    • pp.136-136
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    • 2004
  • 허근 차세대 반도체, 정보통신, 및 디스플레이 산업 등에 응용하기 위하여 초정밀화와 저비용 대량생산을 하기 위해서 기존의 공정을 대체할 수 있는 새로운 나노 공정기술의 요구가 급증하고 있다. 최근 연구에서는 펨토초 레이저 (femto second laser)의 이광자흡수 고화현상을 이용한 나노공정 개발에 대하여 다양한 연구가 진행되고 있다. 특히, 기존의 패터닝과 에칭공정 중심의 소형화 기술(miniature technology)로 제작이 어려운 3차원 자유곡면을 가지는 구조물 제작에 관한 공정개발에 대하여 다양한 연구가 진행되고 있다.(중략)

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