• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2004.07b
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• pp.1058-1061
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• 2004

미세 소자를 관측, 가공 및 분석하기 위해 사용되는 기존 광학현미경은 빛으로 물체를 관측하므로 대물렌즈 (Object lens)에서의 회절한계 때문에 분해능의 있으므로 매우 뽀족한 탐침(Probe)을 시료의 표면에 근접시킨 후 표면을 주사하여 이미지를 얻는 방법이 개발되어 최근에는 Optical Fiber를 이용하여 fiber 끝단을 nano-scale 정도로 첨예화시키는 기술이 개발되었다. 이러한 광섬유 탐침은 구경의 직경이 작을수록 높은 분해능을 얻을 수 있으므로 광섬유 탐침의 제작 공정 확립은 매우 중요하다. 그 중에서 대표적인 방법이 $CO_2$ 레이저를 이용하여 가열한 후 인장 하는 방법 (Heating and Pulling)이 있다. 그래서 본 연구에서는 $CO_2$ 레이저를 이용하여 100nm 정도의 팁 반경을 갖는 뽀족한 탐침을 제작하고자 한다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2004.07a
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• pp.56-57
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• 2004

• Proceedings of the Korean Ceranic Society Conference
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• 2002.10a
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• pp.53.2-53
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• 2002

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2004.05a
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• pp.156-156
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• 2004

정보화 및 휴대화 시대에 있어서 폭증하는 정보량을 보다 작은 용기에, 보다 많이 그리고 보다 저렴하게 저장하기 위해서는, 기존 저장기기의 한계를 극복할 수 있는 새로운 개념의 차세대 정보 저장기기가 요구되어 진다. 나노미터 사이즈의 주사탐침이 기록매체표면에 근접하여 정보를 기록/재생하는 PSD는 상기한 저장기기의 대용량화, 소형화, 그리고 저가격화를 충족시킬 수 있는 신개념의 저장기기로, 그 기술적 근간을 SPM(Scanning Probe Microscope)기술과 MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) 제작기술에 두고 있다.(중략)

• Proceedings of the KSME Conference
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• 2008.11a
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• pp.1963-1966
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• 2008

We fabricate and evaluate the metal-oxide-semiconductor (MOS) transistor probe with the focused-ionbeam (FIB) for surface electric properties. The probes are designed with the rectangular and V-shaped structures, and their dimensions are determined considering the contact mode operation. The conductive nano tip is grown with FIB system, and deposition condition is controlled for the sharp tip. The fabricated device is applied to the various test patterns like the metal lines and PZT poling regions, and the results show the well defined measurement patterns.

• Proceedings of the Korean Society of Machine Tool Engineers Conference
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• 2003.04a
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• pp.388-392
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• 2003

As the machine tool industry progresses, the performance of cutting tools also needs to be of good quality and specialized. If the existing metal cutting tool tip is coated properly, its life would be longer and the machining of a difficult-to-cut material also could be possible. For the development of the high quality cutting tool, the applicabilities of TiAIN coating deposited by PVD on the cutting insert were experimentally investigated. The various measurements, such as, SEM micrograph, XRD pattern, AFM surface morphology, and hardness were performed to cross-check the possibility and availability of TiAIN coated tool in the field. The effects of it is successful and we hope to see good results in many fields.

• Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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• v.19 no.1
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• pp.33-42
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• 2002

• Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers B
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• v.30 no.1 s.244
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• pp.41-47
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• 2006

High resolution dopant profiling in semiconductor devices has been an intense research topic because of its practical importance in semiconductor industry. Although several techniques have already been developed. it still requires very expensive tools to achieve nanometer scale resolution. In this study we demonstrated a novel dopant profiling technique with nanometer resolution using very simple setup. The newly developed technique measures the thermoelectric voltage generated in the contact point of the SPM probe tip and MOSFET surface instead of electrical signals widely adopted in previous techniques like Scanning Capacitance Microscopy. The spatial resolution of our measurement technique is limited by the size of contact size between SPM probe tip and MOSFET surface and is estimated to be about 10 nm in this experiment.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2000.08a
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• pp.94-95
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• 2000

파장보다 작은 구멍을 통한 빛의 회절을 다루는 문제는, 최근 근접장 광학의 발달과 더불어서 많은 연구가 되고 있다. 이러한 작은 구멍은 근접장 주사 광학 현미경(NSOM)에서의 탐침(probe)으로 사용되므로, 여기에서 일어나는 빛과 탐침의 상호작용을 잘 이해하는 것이 중요하다.$^{(1)}$ 본 연구에서는 작은 구멍 주변에 선형 스크래치가 있을 때, 구멍을 통한 빛의 회절 분포를 먼 장(far field) 영역에서 관측하였다. 먼 장 분포를 분석해 본 결과, 구멍 주변의 선형 스크래치에 의한 효과가 나타나는 것을 볼 수 있었다. 이것은 구멍 주변에서 발생한 표면파가 금속 표면을 따라가면서, 주변의 스크래치와 상호 작용한 결과로 보인다. (중략)

• Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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• 2004.05a
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• pp.129-129
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• 2004

본 연구에서는 나노스케일 절삭가공(nanometric cutting process)시에 미세 팁과 가공표면사이에서 발생하는 현상들에 대하여 분자동역학적 시뮬레이션을 통하여 살펴보았다 본 연구의 목적은 실험적으로는 파악하기 어려운 극미세 가공에서 발생하는 나노트라이볼로지적 현상을 이해하고, 이를 토대로 기계적 가공에 기반하여 개발된 '기계-화학적 나노리소그래피(Mechano-Chemical Scanning Probe Lithography)' 공정을 개선, 발전시키는데 있다. 기계-화학적 나노리소그래피 기술은 극초박막의 리지스트(resist)를 미세탐침을 이용하여 기계적 가공으로 제거하고 이로인해 표면으로 드러난 모재부분을 화학적 에칭에 의해 추가로 가공하여 원하는 패턴형상을 얻어내는 기술이다.(중략)