에피 코발트 실리사이드막으로 부터의 붕소 확산을 이용한 극저층 $p^{+}$ n 접합 형성
(Ultra shallow $p^{+}$ n junction formation using the boron diffusin form epi-co silicide)
-
- 전자공학회논문지A
- /
- 제33A권7호
- /
- pp.134-142
- /
- 1996