• Title/Summary/Keyword: 전사프린트

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Nanoimprinting Pattern Formation Using Photo-Curable Acrylate Composites (광경화성 아크릴레이트 복합체를 이용한 나노 임프린트 패턴 형성)

  • Kim, Sung-Hyun;Park, Sun-Hee;Moon, Sung-Nam;Lee, Woo-Il;Song, Ki-Gook
    • Polymer(Korea)
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    • v.36 no.4
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    • pp.536-541
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    • 2012
  • The effects of silica content were studied on UV curing characteristics and defect formations in imprinted patterns of hundreads nanometer size for the photo-curable imprinting composites with silica particles. An increase in elasticity and a decrease in shrinkage were observed with an increase in silica content in the imprinting resin which was UV cured at room temperature. However, the patterned nano-pillars were stuck together with neighboring nano-pillars if the amount of silica is more than 7 wt%. This can be ascribed to the increased viscosity of imperfectly cured resin due to the obstruction of the photo-reaction by silica particles. Addition of silica to the imprinting resin is useful in enhancing the strength of the cured resin although it is difficult to get good imprinted patterns for the resin with more than 7 wt% of silica due to the reduction of photo-reaction conversion.

Investigation of duplicated cicada wing structure by nano imprint lithography (나노 임프린트 리소그래피를 이용한 매미 날개의 기능성 구조 복제 및 분석)

  • Hwang, Jae-Yeon;Hong, Seong-Hun;Lee, Heon
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2008.11a
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    • pp.139-139
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    • 2008
  • 나노 임프린트 리소그래피 방법을 이용하여 매미 날개의 표면구조를 열가소성 고분자 시트 위에 역상으로 전사하였다. 그 후 표면구조가 형성된 시트의 UV-가시광선 투과도와 증류수의 접촉각을 측정함으로써 표면구조 형성을 통해 난반사 효과와 자가 세정 효과를 부여하였음을 확인하였다.

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나노 임프린트 리소그래피 기술을 이용한 투명 전극 재료의 직접 나노 패턴 형성 기술

  • Yang, Gi-Yeon;Yun, Gyeong-Min;Lee, Heon
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.51.1-51.1
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    • 2009
  • 나노 임프린트 리소그래피 기술은 마스터 몰드 표면의 나노 패턴을 물리적인 가열, 가압 공정을 통해 기판 위의 고분자 층으로 전사시키는 기술이다. 이 기술은 기존의 노광 기술과는 다르게 직접적인 접촉을 통해 패턴을 형성하기 때문에 기능성 물질의 직접 패턴 형성이 가능한 기술이다. 투명 전극 재료는 다양한 분야으로의 응용이 가능하기 때문에 많은 연구가 진행되고 있다. ITO는 높은 투과율과 전도성 때문에 대표적인 투명 전극 물질로 사용되고 있다. 본 연구에서는 ITO nano particle solution을 이용하여 thermal 임프린팅 공정을 진행해 ITO nano pattern을 형성하는 연구를 진행하였고 이와 같은 기술을 이용하여 glass와 LED 기판에 ITO nano pillar pattern을 제작하였고 이를 주사 전자 현미경과 UV/vis를 이용하여 형성된 나노 ITO 나노 패턴의 구조와 광학적 특성을 분석하였다.

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직접 패터닝 기술을 이용한 $TiO_2$ 나노 패턴 형성

  • Yun, Gyeong-Min;Yang, Gi-Yeon;Lee, Heon
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.58.1-58.1
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    • 2009
  • 나노 임프린트 리소그래피 기술은 기존의 노광 장비를 이용하는 기존의 리소그래피 공정에 비해 저렴한 공정으로 대면적 패터닝이 가능한 차세대 리소그래피 기술이다. 나노 임프린트 리소그래피는 기존의 나노 리소그래피 기술과는 다르게 기능성 무기물 물질을 직접 패터닝 할 수 있는 기술이다. 본 연구에서는 $TiO_2$ 나노 패턴을 를 기존의 증착, 리소그래피, 식각 등의 공정을 거치지 않고, sol-gel법과 나노 임프린트 리소그래피를 이용하여 직접 전사하는 기술에 대해 연구 하였다. 본 연구에서는 Tetrabutylorthotitanate를 precusor로 하는 ethanol 기반의 $TiO_2$ sol을 제작하여 이용하였다. PDMS mold를 임프린팅용 몰드로 사용하였으며, 이러한 PDMS mold는 노광 기술과 반응성 이온 식각을 이용하여 제작된 master mold로 부터 복제되었다. 제작된 sol을 Si wafer에 spin coating하여 넓게 도포한 후, wafer위에 PDMS mold를 밀착 시킨다. 이후, 5 bar의 압력과 $200^{\circ}C$의 온도에서 나노 임프린트 리소그래피 공정을 진행하여 $TiO_2$ gel 패턴을 형성한다. gel 상태의 $TiO_2$ 패턴을 anealing 공정을 통해 다결정질 TiO2 나노 패턴으로 제작하였다. 제작된 패턴을 scanning electron microscope(SEM)를 이용하여 확인하고, XRD 및 EDX를 이용하여 분석하였다.

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Fracture Behavior of Glass/Resin/Glass Sandwich Structures with Different Resin Thicknesses (서로 다른 레진 두께를 갖는 유리/레진/유리샌드위치 구조의 파괴거동)

  • Park, Jae-Hong;Lee, Eu-Gene;Kim, Tae-Woo;Yim, Hong-Jae;Lee, Kee-Sung
    • Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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    • v.34 no.12
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    • pp.1849-1856
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    • 2010
  • Glass/resin/glass laminate structures are used in the automobile, biological, and display industries. The sandwich structures are used in the micro/nanoimprint process to fabricate a variety of functional components and devices in fields such as display, optics, MEMS, and bioindustry. In the process, micrometer- or nanometer-scale patterns are transferred onto the substrate using UV curing resins. The demodling process has an important impact on productivity. In this study, we investigated the fracture behavior of glass/resin/glass laminates fabricated via UV curing. We performed measurements of the adhesion force and the interfacial energy between the mold and resin materials using the four-point flexural test. The bending-test measurements and the load-displacement curves of the laminates indicate that the fracture behavior is influenced by the interfacial energy between the mold and resin and the resin thickness.

질화물계 발광다이오드의 광추출효율 향상을 위한 $TiO_2$ 나노 패턴 형성에 관한 연구

  • Jo, Jung-Yeon;Byeon, Gyeong-Jae;Park, Hyeong-Won;Lee, Heon
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2010.05a
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    • pp.32.1-32.1
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    • 2010
  • 본 연구에서는 질화물계 발광 다이오드의 광추출효율을 향상시키기 위해서 Bi-layer나노 임프린트 리소그래피와 Lift-off 공정을 이용하여 ITO투명전극 층 상부에 TiO2 나노 패턴을 형성하였다. 발광 다이오드의 투명전극 층 상부에 UV 나노 임프린트 리소그래피를 이용하여 주기적인 폴리머 패턴을 형성한 후 폴리머 패턴 상부에 RF magnetron Sputtering 공법을 이용하여 TiO2를 증착하고 Lift-off 공정을 이용하여 TiO2 나노 패턴을 제작하였다. 그 결과를 주사전사 현미경(SEM)으로 확인한 결과 임프린트 스탬프와 동일한 나노 패턴이 질화물 계 발광다이오드 투명 전극층 표면에 주기적으로 형성되었다. TiO2 나노 패턴 형성을 통한 광추출 효율의 향상 효과를 확인하기 위해 Electroluminescence (EL) 측정한 결과 TiO2 나노 패턴이 형성된 발광다이오드 소자의 EL 강도가 나노 패턴이 없는 발광다이오드와 비교하여 12% 정도 향상 되었음을 보였고, 이는 고 굴절율 나노 패턴이 활성층에서 발생된 빛의 산란 효과를 유도하여 빛의 내부 전반사를 감소시킨 결과로 해석된다. 또한 소자의 전기적 특성평가를 위한 I-V 측정결과, TiO2 나노 패턴이 형성된 발광 다이오드의 전기적 성질이 저하되지 않았음을 확인하였다.

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Enhancement of Light Extraction Efficiency of OLED Using Si3N4 Nano Pattern on Glass Substrate

  • Park, Sang-Jun;Jo, Jung-Yeon;Kim, Yang-Du;Yu, Sang-U;Heo, Ju-Hyeok;Seong, Yeong-Hun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.251.1-251.1
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    • 2014
  • Oraganic Light Emitting Diodes (OLED) 소자의 광추출 효율을 향상시키기 위한 방안으로 나노급 사이즈의 고 굴절률 패턴을 기판의 내부 패턴에 적용하였다. 100 nm 및 300 nm의 직경을 갖는 Si3N4 나노 패턴을 나노 임프린트 리소그래피와 건식 식각 공정을 통하여 OLED의 유리기판에 형성을 하였다. 그리고 Silicon On Glass (SOG) 물질을 패턴이 전사된 기판에 스핀 코팅으로 평탄화 공정을 진행 함으로써 OLED소자의 전기적인 특성이 떨어지는 문제점을 개선하였다. 그러고 나서 Si3N4 나노 패턴이 형성되고 평탄화 공정을 마친 기판상 OLED 소자를 제작하였다. OLED의 발광층에서 발생한 빛은 Si3N4 나노패턴에 의해 산란되어 광 추출 효율을 개선할 수 있다. 본 연구에서 두 가지 종류 100nm, 300nm 높이의 Si3N4 나노패턴으로 높이에 따른 광 추출 효율을 비교하고자 OLED 소자를 제작하였다. 기판에 Si3N4 패턴이 형성된 OLED의 효율은 Si3N4 300nm에서 13.1% 증가하였다.

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Recycle fashion design development using nature image (자연이미지를 활용한 리사이클 패션디자인 연구)

  • Chen, Anyang;Ha, Seung Yeon
    • Journal of the Korea Fashion and Costume Design Association
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    • v.20 no.2
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    • pp.47-62
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    • 2018
  • This study examined recycled fashion design utilizing natural images for application to recent trends. This study is significant in that it presents the possibility of the development of recycled women's wear design by reflecting the characteristics and expressions of natural images and using denim material, which is the most common clothing material for everyday life. The results of this study are summarized as follows. First, five types of women's clothing was produced, pursuing a natural design with a soft and feminine silhouette. Second, the colors used were blue and white, which could represent nature. Third, as for materials, this study used clothing that was to be thrown away: four pairs of denim pants and two denim dresses. This study chose denim cloth, with its great value for reuse, because of the characteristics of the strong and durable fiber, because everyone has more than one article of clothing made from denim and because it can be easily sourced. Fourth, for textile motifs, this study expressed a peaceful natural scenery with tropical animals and plants. In addition, this study further emphasized natural images using transfer media printing. This study has significance in that it presented the possibility of recycled fashion design and expanded the range of utilization using transfer media printing, a dyeing treatment to reduce the environmental burden.

Curve-typed PMMA Nanochannel Fabrication using Polymer Layer Transfer and Collapse Technique (폴리머 층 전사 및 처짐 현상을 이용한 곡선 형태의 PMMA 나노채널 제작)

  • Cho, Young-Hak;Kim, Sung-Dong;Hwang, Ji-Hong
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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    • v.29 no.1
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    • pp.114-120
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    • 2012
  • We present a simple and low-cost method to fabricate poly(methyl-methacrylate) (PMMA) nanochannels with various shapes by combining the standard optical lithography with a PMMA layer transfer and collapse technique. We utilized PMMA membrane reflowing/collapsing phenomena into microchannels to fabricate nanochannels at both corners of arbitrarily-shaped microchannels. This allows nanochannels with various shapes such as curved nanochannels as well as straight nanochannels to be easily fabricated since the shape of the microchannel determines the shape of the nanochannels. This nanochannel fabrication method is simple, flexible, and low-cost since the standard optical lithography with low-resolution optical masks can be used to fabricate nanoscale channels as small as 100 nm wide with various shapes. Also, the sealing of nanochannels can be naturally achieved while the nanochannels are formed through the polymer layer transfer and collapse.