• 한국대기환경학회:학술대회논문집
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• 한국대기환경학회 2003년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.233-234
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• 2003

부유 분진의 입경에 따른 물리, 화학적 특성은 대기질 및 인체의 건강 측면에서 중요한 변수로 작용되고 있으며, 호흡기내 침착 및 가시도의 영향에도 밀접한 관련이 있다. 거대입자는 주로 자연적 발생원에서 방출되고 호흡시 구강이나 코에서 대부분 제거된다. 미세입자는 인위적인 배출원에서 주로 방출되며 입경이 10$\mu\textrm{m}$이하인 것으로 보고되고 있다. 이들 1차 생성분진과는 달리 대기중에서 황산가스나 휘발성유기화합물 등이 응축과정을 거쳐 가스상에서 입자상으로 변환되어 생성된 입자도 환경학적으로 매우 중요한 의미를 갖는다. (중략)

• 한국대기환경학회:학술대회논문집
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• 한국대기환경학회 2000년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.145-146
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• 2000

미세입자는 폐포에 침착율이 높고 다환방향족탄화수소(PAHs)와 같은 독성이 강한 유기물질과 SO$_2$와 NOx 등의 무기가스들의 입자로의 변환으로 생성된 $H_2SO_4$, $NH_4HSO_4$ 및 ${(NH_4)}_3H{(SO_4)}_2$ 등의 산성 황산화물 등과 같은 산성오염물질도 다량 함유하고 있다. 이러한 산성오염물질은 기침 및 호흡기 기능 저하와 같은 인체에 여러 가지 악영향을 미치는 것으로 알려져 있다(강병욱, 1998). 또한 대기에서 시정장애에 주로 영향을 미치는 입자는 0.1~1.0$\mu\textrm{m}$인 미세입자이며 그들중 황산염, 질산염 및 탄소함유성분들이 시정장애에 크게 기여하는 것으로 보고된다. (중략)

• 대한환경공학회지
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• 제28권8호
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• pp.836-842
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• 2006

서울과 안성에서 소나무 잎 1, 2, 3년생을 채취하여 대기 중 노출기간에 따른 침착특성을 조사하였다. 소나무 잎에 침착된 총 PCBs의 농도는 서울과 안성에서 각각 2,429, 1,198 pg/g dry weight(건조질량)이었다. 소나무 잎에 침착된 PCB homologs의 농도는 염소치환수가 증가할수록 감소하였는데 이는 고분자 PCBs일수록 대기 중에서 입자상 분율이 가스상에 비해 증가하여 식물에 침착되기가 어렵기 때문으로 판단된다. 소나무 잎에 노출된 기간과 총 PCBs의 농도와의 회귀분석 결과, 매우 유의한 결과($R^2>0.94$, p<0.01)를 나타내었는데 이는 대기에 노출되는 기간에 비례하여 소나무 잎에 PCBs가 선형적으로 누적침착 되고 있음을 알 수 있다. 결과적으로 여러 지역에서 노출기간별로 채취한 소나무 잎은 그 지역 대기 중 PCBs의 장기적인 침착 경향을 파악할 수 있는 passive air sampler로 사용가능 할 것으로 판단되었다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.278-278
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• 2013

최근 나노 입자의 안전성에 대한 연구가 활발하게 이루어 지고 있다. 대부분의 연구는 세포독성과 쥐에 흡입시켜 각 장기에 침착 정도를 측정하는 연구에 집중되어 있고, 나노입자의 리간드 특성에 대한 연구는 활발이 진행되고 있지 않다. 따라서 같은 나노입자를 이용한 연구결과가 다르게 나타나는 것을 종종 확인 할 수 있어서, 나노입자 특성평가의 중요성이 커지고 있다 [1,2]. 본 연구에서는 용매에 리간드가 존재하는 PEG-conjugated AuNPs과 원심분리로 용액내의 free-ligands가 제거된 PEG-conjugated AuNPs에 대하여 ToF-SIMS 이미지를 얻었고, PEG와 AuNPs 이미지의 statistical correlation으로부터 AuNPs의 표면에 존재하는 리간드들의 stability를 평가할 수 있는 방법을 개발하였다. 또한, citrated-conjugated AuNPs을 PEG 리간드로 표면을 치완시키고, phagolysosomal simulant Fulid(PSF) 용액에 incubation 과정 동안의 PEG 리간드가 표면에서 제거되어 용액에 존재함을 확인하였다. ToF-SIMS의 이미지와 statistical correlation을 이용하면 나노입자의 표면에 존재하는 다양한 리간드들의 안정성을 평가할 수 있고, 이를 통한 나노입자의 안전성에 대한 연구에 기여 할 수 있을 것으로 기대된다.

• 대한기계학회논문집
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• 제19권5호
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• pp.1319-1332
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• 1995

Numerical analysis was performed to characterize the particle deposition behavior on a horizontal free-standing wafer with thermophoretic effect under the turbulent flow field. A low Reynolds number k-.epsilon. turbulence model was used to analyze the turbulent flow field around the wafer, and the temperature field for the calculation of the thermophoretic effect was predicted from the energy equation introducing the eddy diffusivity concept. The deposition mechanisms considered were convection, diffusion, sedimentation, turbulence and thermophoresis. For both the upper and lower surfaces of the wafer, the averaged particle deposition velocities and their radial distributions were calculated and compared with the laminar flow results and available experimental data. It was shown by the calculated averaged particle deposition velocities on the upper surface of the wafer that the deposition-free zone, where the deposition velocite is lower than 10$^{-5}$ cm/s, exists between 0.096 .mu.m and 1.6 .mu.m through the influence of thermophoresis with positive temperature difference of 10 K between the wafer and the ambient air. As for the calsulated local deposition velocities, for small particle sizes d$_{p}$<0.05 .mu.m, the deposition velocity is higher at the center of the wafer than at the wafer edge, whereas for particle size of d$_{p}$ = 2.0 .mu.m the deposition takes place mainly on the inside area of the wafer. Finally, an approximate model for calculating the deposition velocities was recommended and the calculated deposition velocity results were compared with the present numerical solutions, those of Schmidt et al.'s model and the experimental data of Opiolka et al.. It is shown by the comparison that the results of the recommended model agree better with the numerical solutions and Opiolka et al.'s data than those of Schmidt's simple model.

• 한국대기환경학회:학술대회논문집
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• 한국대기환경학회 2001년도 추계학술대회 논문집
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• pp.187-188
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• 2001

도시와 산업의 발달 및 인구의 도시 집중화로 다양한 종류의 오염물질이 다량으로 대기 중으로 배출되는 등 환경오염이 사회의 중요한 문제로 부각되고 있다. 특히 대기 중 10 $\mu\textrm{m}$ 이하의 미세입자들은 10~60 % 정도가 기도를 지나 폐까지 침투하여 폐포에 침착되기 때문에 인체에 해를 끼칠 수도 있다(Chow et al., 1996). 또한 월드컵 개최 1년여를 앞두고 환경부에서 차량 부제시행, 배출업소 가동율 조정등 대기오염 저감을 위한 대책의 시행효과, 문제점 등을 파악하여 대책을 보완하기 위해 5월 25일부터 6월 25일까지 1개월 동안 예행연습을 실시하였다. (중략)

• 한국대기환경학회:학술대회논문집
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• 한국대기환경학회 2002년도 추계학술대회 논문집
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• pp.352-353
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• 2002

최근 산업이 발달함에 따라 수도권을 비롯한 도시에서의 인구집중과 증가로 인한 운행 차량 수의 증가, 산업규모의 확대 둥으로 인해 대기분진 중 호흡성 또는 미세분진 농도의 증가가 관찰되고 있으며 이로 인한 주민건강 위해의 가능성이 제기되고 있다. 2.5$\mu\textrm{m}$ 이하의 미세 입자는 폐포내 침착율이 높으며, 유해성 가스 및 중금속을 쉽게 흡착하여 인체에 전달하는 매체가 되기도 하고, 빛을 흡수, 산란시키기 때문에 시정을 악화.시킨다. 따라서 도시대기의 입자상 물질의 물리적, 화학적 특성에 대해서 많은 연구가 진행되어 왔다. (중략)

• 한국입자에어로졸학회지
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• 제14권2호
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• pp.41-47
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• 2018

Numerical analysis was conducted to characterize particle deposition onto a heated horizontal semiconductor wafer in vacuum environment. In order to calculate the properties of gas surrounding the wafer, the gas was assumed to obey the ideal gas law. Particle transport mechanisms considered in the present study were convection, Brownian diffusion, gravitational settling and thermophoresis. Averaged particle deposition velocities on the upper surface of the wafer were calculated with respect to particle size, based on the numerical results from the particle concentration equation in the Eulerian frame of reference. The deposition velocities were obtained for system pressures of 1000 Pa~1 atm, wafer heating of 0~5 K and particle sizes of $2{\sim}10^4nm$. The present numerical results showed good agreement with the available experimental ones.

• 한국대기환경학회:학술대회논문집
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• 한국대기환경학회 2000년도 추계학술대회 논문집
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• pp.332-333
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• 2000

대기 중에서의 PCBs의 거동은 지표에서부터 자연수계까지 PCBs의 순환의 중요한 이동경로가 된다. 이전의 연구에 의하면 Superior, Huron, Michigan 호수에 유입되는 55∼90%, Erie, Ontario 호수에 유입되는 7∼l3%의 PCBs가 대기에서 기원이 되었으며 멀리 떨어진 해양지역 PCBs 오염의 주 오염원이 대기라고 추정되었다(Holsen, 1991). 대기 중에서 PCBs는 기체상과 비산된 입자에 흡착된 상태로 존재하며 건식 및 습식침착(deposition)으로 지표나 수중에 유입되어 잔류하다가 먹이사슬에 의해 결국에는 인간에게까지 영향을 미치게 된다. (중략)

• 한국대기환경학회:학술대회논문집
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• 한국대기환경학회 2001년도 추계학술대회 논문집
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• pp.209-210
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• 2001

공장 굴뚝이나 차량과 같은 오염원에서 배출된 오염물질은 대기 중에서 확산과정을 거쳐 수용체(Receptor)에 도달하여 영향을 미치게 되는데, 확산을 결정하는 주요인자로는 오염물 배출조건 및 농도, 대기 기상조건, 주변지형조건, 오염물의 반응성 및 침착성 등이 있다. 대기환경 영향평가 및 대기질 관리성책수립 등을 위해서 복잡한 대기확산 과정을 거쳐서 수용체에 도달하는 오염물질의 농도에 대한 정량적인 값의 추정이 필요하다. (중략)