$C_2F_6$ 유도 결합 플라즈마를 이용한 질산화막 식각공정에 관한 연구
(A study on etching of SiON films using $C_2F_6$ inductively coupled plasma)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2004년도 추계학술대회 논문집 Vol.17
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- pp.155-158
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- 2004