Spectral Analysis of Nanotopography Impact on Surfactant Concentration in CMP Using Ceria Slurry (세리아 슬러리를 사용한 화학적 기계적 연마에서 계면활성제의 농도에 따른 나노토포그래피의 스펙트럼 분석)
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- Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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- 2003.03a
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- pp.61-61
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- 2003