Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.205.1-205.1
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2014
4세대 가속기 언듈레이터 진공용기는 길이가 6 m이고 내경이 $7{\times}11mm$로 매우 좁아서 내부 표면의 경면연마가 까다롭다. 미국이나 독일의 경우 입자유동연마 방법으로 표면 거칠기와 표면 산화막 두께를 요구되는 수준으로 낮췄다. 이 방법을 적용해 본 결과, 연질의 알루미늄 표면에 스크레치 및 피트 발생율이 높고 고비용에 처리시간이 길다는 단점이 있었다. 포항가속기에서는 입자유동연마와 병행하여 화학연마 방법으로 관경이 좁은 형상이나 길이에 구애받지 않고 긴 진공용기 크기의 약품조가 없이 표면연마 할 수 있는 장치를 고안하였다. 이 장치는 표면조도 개선 목적의 화학연마, 표면 산화막 두께 개선, 세척 및 건조장치가 한 시스템으로 구성되어 큰 약품조와 수세조가 필요하지 않다는 장점이 있어서 입자유동연마 공정을 대체할 수 있는 방법으로 기대된다. 본 발표에서는 화학연마 장치에 대해 소개하고 연마 전 후 표면조도와 산화막 개선 결과에 대해서 논하고자 한다.
Kim, Hae-Yeon;Kim, Min-Su;Kim, Jong-Hun;Kim, Mok-Sun;Kim, Jun-Gi
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2011.05a
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pp.56.2-56.2
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2011
최근 철강, 알루미늄, 이종재료의 접합 등 용접이 어려운 부분에 구조용 접착제의 적용이 증가하고 있는 추세이다. 이를 위해 변성 에폭시레진을 활용한 고접합 강도, 고인성의 구조용 접착제가 연구되어 지고 있다. 피착제의 표면처리는 접합부의 접합강도를 향상시키는 방법으로 알려져 있으나 최근의 구조용 접착제는 표면 전처리 없이도 우수한 접착 특성을 보이는 것으로 기대되고 있다. 본 연구에서는 변성레진에 대해서 각종 표면처리가 접합부 특성에 미치는 영향을 조사하였다. 피착제로는 자동차용 냉연강판인 SPRC440을 사용하였고, 전처리로는 무처리 상태, SiC연마지를 이용한 연마, 아르곤 및 산소가스를 이용한 마이크로웨이브 플라즈마 표면처리, 산세 등의 표면처리를 실시하였다. 에폭시 접착제는 변성 에폭시 레진과 경화제 및 촉매제를 이용하여 직접 포뮬레이션하였다. 단일 겹치기 전단강도 시험과 T-Peel 시험은 각각 ASTM D 1002 규격에 따라 준비하였으며 인장 시험 후 파면은 SEM으로 관찰하였다.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.257-257
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2013
4세대 방사광가속기를 2014년 말 건설 완공 목표로 언듈레이터 시제품 제작하여 테스트 진행과정에 있다. 좁은 틈의 언듈레이터를 지나가는 펄스전자의 진행이 잘되려면 낮은 임피던스가 요구되는데, 전자의 진행을 방해하는 주요 요인으로 진공 표면 거칠기와 산화층 두께에 영향을 많이 받는다. 이러한 영향을 줄이기 위하여 연질의 알루미늄 6063-T6를 재료로 압출공정에 혼합가스를 주입하여 표면 산화를 최소화하였다. 본 실험은 6 m 압출형 진공용기에 압출공정만 거친 것과 유체연마 메디아 종류별, 크기별, 처리시간에 따른 표면개선 효과와 산화층 변화를 알아보았다. 그리고 최종 유체연마 메디아제거 과정에 경면 연마된 표면에 2차 스크레치가 발생하는 원인을 진단하고 이를 방지하기 위한 알코올 주입형 정압시스템을 개발한 것을소개한다.
In this study, a basic study was performed to systematically compare the changes in surface properties according to the post-processing method of the stereolithography (SLA) printing method, which is a photocuring 3D printing method, and to provide information on the post-processing method suitable for the application. Although it was possible to improve some of the transparency of the SLA-type output by regularly changing the irregular microstructure of the surface through polishing, it was difficult to secure sufficient transparency like glass. The change in contact angle characteristics due to grinding showed a tendency to slightly increase as the grinding time increased and the particle size of the sandpaper used was small, but the variation between samples was large and the average contact angle was 77~90°, showing no statistically significant difference. Surface treatment methods other than polishing were tried, and it was confirmed that it was possible to easily and simply improve the transparency by applying a commercially available vehicle scratch remover or silicone oil. In addition, a method for securing high transparency such as glass by using a scratch remover after sequential grinding while reducing the particle size of the sandpaper was proposed. Finally, even after surface treatment through polishing and various methods, it was difficult to secure a contact angle of 90° or more.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2012.05a
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pp.106.1-106.1
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2012
EBSD(Electron BackScattered Diffraction)분석은 주사전자현미경에서 관찰되는 비교적 넓은 영역의 결정 방위를 측정하여 집합조직을 해석하는 동시에 결정 방위의 변화를 기준으로 결정립계를 구분 지어 미세조직의 정량 분석도 가능하기 때문에 많은 연구자들이 사용하고 있다. 그러나 EBSD의 Kikuchi 패턴은 시편 표면으로부터 30~50nm 깊이 범위의 표면층으로부터 방출되기 때문에 EBSD 분석 결과는 시편의 표면 처리 상태에 크게 영향을 받아 적절한 시편준비법이 요구된다. 시편 준비 과정 중에 생기는 변형층, 산화층이나 오염층이 10nm 이내로 제어되지 못하면 명확한 패턴을 얻지 못하여 분석이 어려운 경우가 많으므로, 시료의 절단과 연마 과정 중에 변형층을 되도록 적게 만들고 표면의 산화나 오염을 최대한 방지해야 한다. 또한 EBSD 분석 특성상 시편을 70도로 기울이기 때문에 시편의 요철이 심하면 볼록한 영역에 의해 오목한 영역의 패턴이 가려져 결정방위 정보를 얻기 힘들다. 이런 이유로 시편을 최대한 평평하게 하고 요철이 생기지 않게 시편 준비를 하는 것이 관건이다. 금속재료의 EBSD 시편준비법으로는 일반적으로 기계적 연마법과 전해연마법이 주로 쓰인다. 경한 석출물이나 개재물이 연한 기지에 분산되어 있는 시편이나 이종 소재 접합재의 경우는 전해연마법을 사용하면 특정 상(혹은 합금)이 먼저 연마되어 큰 단차가 생기거나 석출물에 의해 요철이 심해져서 정량적인 EBSD 분석이 어렵게 된다. 이 연구에서는 시편 준비가 어렵다고 알려진 다상 금속재료에서의 EBSD 분석 사례를 소개한다. Ti-6Al-4Fe-0.25Si 시효처리합금, 알루미늄 기지 복합재료, 마찰교반용접한 알루미늄-타이타늄합금의 EBSD 시편준비법과 그 분석 결과를 고찰한다.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.11
no.5
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pp.218-223
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2001
The chemical-mechanical polishing process was carried out for 2"-dia. sapphire wafer grown by horizontalBridgman method on the urethane lapping pad with the silica sol. The polished wafer shows the full-width at halfmaximum of 200~400 arcsec in double-crystal X-ray diffraction, indicating that the slicing, grinding and lapping processes before the polishing process affected the crystalline structural property of the wafer surface by the mechanical residual stress. For the inclusion of surface treatments after chemical-mechanical polishing such as the thermal annealing at the temperature of $1,200^{\circ}C$for 4 hrs. and chemical etching, the crystalline quality was sigdicantly enhanced with the reduced full-width at half maximum up to 8.3 arcsec.arcsec.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.18
no.2
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pp.276-281
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2014
In this research, we describe a force feedback control for industrial robots has been proposed as a system which is suitable to work utilizing pressure sensitive alternative to human. Conventionally, polished surface of the workpiece are recognized, chamfer ridge, machining processes such as deburring, and it is most difficult to automate because of its complexity, has been largely dependent on the human. To aim to build automatic vacuum system robotic force control was gripping the grinding tool, the present study we examined the adaptability to the polishing process to understand the characteristics of the control system feedback signal obtained from the force sensor mainly. Furthermore, as a field, which holds the key to the commercialization, I went ahead with the application to robotic sweeping machine. As a result, the final sweeping utilizing a robot machine to obtain a very good grinded surface was revealed.
Purpose: The purpose of this study was to compare the effect of 3 chairside polishing methods and laboratory polishing methods on surface roughness and $C.$$albicans$ adhesion of polyamide denture base. Materials and methods: Using contact profilometer, the surface of polyamide specimens ($25{\times}15{\times}2mm$) was studied after conventional polishing without finishing and after chiarside polishing with 2 chiarside polishing kits and chairside-pumice polishing following finishing with tungsten carbide bur. To evaluate the adhesion of $C.$$albicans$, $C.$$albicans$ suspension was overlayed on the test specimen. And the specimens were incubated for 2 hours. Imprint culture method was achieved and counted the colony on the agar plate. Polished polyamide were evaluated using a scanning electron microscope. The statistics were conducted using one-way ANOVA and in case of difference, Scheffe test and Tamhane's T2 test were used. Results: Surface roughness (Ra) of surfaces polished with 2 chairside polishing kits had higher than conventional polishing and pumice polishing. The highest roughness value was $0.32{\pm}0.10{\mu}m$, and the lowest was $0.02{\pm}0.00{\mu}m$. The adhesion of $C.$$albicans$ on the specimens polished with chairside polishing group and pumice polishing group were increased than conventional polishing group ($P$<.01). Conclusion: Conventional laboratory polishing was found to produce the smoothest surface and the lowest adhesion of $C.$$albicans$. Two groups polished with Chairside polishing kits were similar with respect to surface roughness. Surface of the specimen polished with pumice is significantly smoother than 2 chairside polishing groups, but the result of $C.$$albicans$ adhesion is that group polished with pumice was similar with 2 chairside polishing groups ($P$>.01).
Kim, Seong-Wan;Kim, Gyeong-Tae;Lee, Jong-Seok;Kim, Hak-Seong
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2012.05a
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pp.303-304
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2012
공업적으로 널리 사용되는 내식강의 전해연마는 주로 고농도의 인산염 전해액 기반에 황산과 질산 첨가된 용액에서 $70^{\circ}C$ 이상의 고온에서 행해지다 보니 폐액 처리와 작업 환경이 좋지 않아 기피 기술로 인식 되어 있다. 본 연구에서는 환경 친화적인 상온 공정을 개발 하고자 에틸렌 글리콜 용액에 여러 가지 첨가제를 첨가하여 그 효과를 살펴보고 최적 조성과 공정 조건을 확립 하고자 하였다. 틸렌 글리콜에 물과 질산 암모니움을 첨가하여 점도와 pH, 전류 전압 특성을 구하고 여기에 첨가제인 설파메이트와 암모니움 클로라이드 첨가량을 정하고 각각의 효과를 확인 하였다. 이러한 결과를 바탕으로 SUS 316 재질에 대한 최적 연마조건을 설정하기 위해 조도 변화, 광택도 및 표면 조직 변화와 전해연마기구를 비교 검토하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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