The Journal of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science
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v.16
no.5
s.96
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pp.465-471
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2005
A method of calculation fur propagating and focusing of focused beams generated in antenna arrays, using BPM(Beam Propagation Method), is presented in this paper. Based on the diffraction theory, the beam focusing and Propagation is studied specially for the case of the antenna way fed by the Rotman lens that is able to focus microwave power on its focal arc or generate multiple beams. There are difficulties in performing a full-wave simulation using a commercial EM simulation tool for propagating and focusing of beams because of the structural complexity and the feeding assignment of the antenna array. Therefore, as an alternative solution, the BPM is presented to calculate the beam propagation from the aperture-type antennas. From the point of view of optics, the propagations of the lens have been simplified from the Fresnel diffraction integral to the Fourier transform. Using Fourier Transform, a beam propagation method is developed to show improvement of the resolution by controlling the wavefront of wave Propagating from an aperture-type antenna array. The beam width(or spot size) and the intensity are calculated for a focused beam propagating from an array having $10\lambda$ of its size. For the beams with $20\lambda,\;30\lambda$, and $50\lambda$ of geometrical focal length, the half-power beam widths(or spot size) are about 1.1\lambda,\;1.3\lambda,\;and\;1.9\lambda$ respectively.
Since the AESA radar scans and tracks a distant targets or ground, it requires a test field which meets far-field condition before flight test. In order to test beam foaming, targeting, and availability from cluttering and jamming, it is general to build a outdoor roof-lab test site at tens of meters high. However, the site is affected by surrounding terrain, weather, and noise wave and is also requires time, space, and a lot of costs. In order to solve this problem, theoretical near-field beam foaming method has proposed. However, it requires modification of associated hardware in order to construct near-field test configuration. In this paper, we propose near-field beam foaming method which use single LUT in order to calibrate the variation of TRM(transmit-receive module) which consists AESA radar without modification of associated hardware and software. It requires less costs than far-field test and multiple LUT based near-field test, nevertheless it can derives similar experimental results.
Proceedings of the Acoustical Society of Korea Conference
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1998.06e
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pp.243-246
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1998
집속음장의 고조파성분을 이용한 초음파영상의 특성을 해석하기 위해 집속된 가우스 음원에 직선 edge를 초점면 및 초점면의 전, 후방에 삽입하여 edge의 후방에서 생성되는 음장을 조사하였다. 계산에서는 그린함수의 간단화를 위해 Fresnel근사를 이용하였고, 실험에서는 성형전극을 형성시킨 1.9MHz 요면진동자에 의한 가우스분포의 음장을 갖는 초음파빔에 수직하게 edge를 삽입시켰다. 음장의 이론해석 및 실험결과, 초점면의 제2고조파의 빔형상을 제외하고는 계산치와 실험치가 잘 일치하고 있으며, 제2고조파의 공간 분해능이 기본파에 비해 높음을 알았다.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.286-286
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2011
현재의 NEDO (New Energy and industrial technology Development Organization) style Si 정련은 두 단계로 구분되어 있다. 고출력 집속 전자빔을 이용한 금속 실리콘의 1차 용융과 대기압 근처의 플라즈마 아크 용해를 이용해서 B, P를 약간의 반응성 가스를 첨가 하여 제거하는 방법이다. 그러나 저가형 실리콘을 생산하려는 취지와 달리 두 가지의 고가 장비가 필요하다. E-beam melting 장치에서도 반응성이 높은 라디칼을 생성할 수 있다면 하나의 장비에서 두 가지의 정련 작업을 진행시킬 수 있다. 본 연구에서는 고진공에서(< 10-4 Torr) 동작하는 E-beam의 성능에 전혀 영향을 주지 않으면서 플라즈마를 용이하게 생성 시킬 수 있는 방법을 개발하고 이를 적용하여 실제 금속 순도 실리콘 내에 존재하는 B, P가 제거되는지 확인하는 것을 연구 내용으로 한다. 본 연구는 MG (Metal Grade) - Si 을 플라즈마 보조 전자빔 정련을 이용하여 정련한 Si 의 불순물 함량의 개선 효과를 조사하는 것이다. MG-Si 의 정련 방법 중에서 고출력 집속 전자빔을 이용하여 휘발성 오염물질을 제거 후, 플라즈마 아크 용해를 이용해서 B 를 제거하는 방법을 접목시켰다. MG-Si 에 DC power 와 전자빔을 집속시켜서 정련을 하면 챔버 내의 잔류 수증기가 플라즈마에 의해 분해되어 O를 생성하고, B와 반응을 하여 BO 형태로 제거가 된다. 방전 전압 700 V 와 전자빔 가속 전압이 4.5 kV, 방출 전류는 11 A, 진공 챔버 내의 압력은 $7.2{\times}10^{-4}$ Torr에서 정련을 진행하여 B를 제거했다.
The optimal condition for focusing an electron beam was investigated employing an electrostatic deflector in a low voltage micro-column. At fixed voltage of the electron emission tip, the focusing electron beam with source lens showed a larger scan field size and poorer visibility than those with an Einzel lens. Theoretical 3-D simulation indicated that a focusing electron beam with a source lens should have a larger spot size and deflection than those of a focusing Einzel lens.
Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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2004.05a
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pp.11-11
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2004
나노기술은 크게 2가지 접근방법을 가진다. 하나는 위에서 아래로(Top-Down)라는 관점으로 벌크물질로부터 이온빔 등을 이용해 이를 작게 잘라가는 방식이며, 다른 하나는 아래에서 위로(Bottom-Up) 방식으로 재질을 구성하는 분자를 재구성해 원하는 물성 및 특성을 가지도록 만드는 방법이다. 이 두 가지 접근 방법은 원하는 결과를 얻기 위해 상호 보완적으로 사용되기도 한다. Top-Down방식의 대표적인 기기로는 접속이온빔 장치(FIB, Focused Ion Beam)를 등 수 있으며, Bottom-Up방식의 대표적인 기기로는 SPM(Scanning Probe Microscope)을 들 수 있다.(중략)
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.26
no.4
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pp.128-133
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2009
Focused-ion-beam (FIB) system is capable of both machining and measuring in nano-scale; hence nano-scale focusing quality is important. This paper investigates design parameters of two electrostatic lenses in order to achieve the best ion beam focusing performance. Commercial SIMION simulator is used to optimize the dimensions of the condenser and objective lenses and investigate the influence of assembly error on focusing quality The simulation results show that the beam focusing quality is not influenced by angle deviation within ${\pm}0.02\;deg$ and geometrical eccentricity within ${\pm}50$ micrometers.
Thermal cesium atomic beam was collimated by transversely cooling of atoms, for which circularly polarized ($\sigma^+$ and $\sigma^-$ polarized) laser light was illuminated to the atomic beam from two perpendicular directions. As a result, the temperature corresponding to the transverse velocity component could be decreased from 430 mK to 60 11K. In addition, the spatial atomic distribution was observed according to the power difference of the two laser beams and the magnetic field applied, and the result was qualitatively coincided with the calculation result by the Doppler cooling theory. heory.
Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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2003.07a
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pp.44-45
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2003
전자기 유도 투과란 매질 속을 진행하는 빛의 투과가 다른 강한 빛의 작용으로 증가하게 되는 결맞음 현상을 말한다. 이러한 전자기 유도 투과는 또한 굴절율의 변화를 동반하게 되며, 그 결과 매질을 진행해 나가는 레이저빔은 유도 집속 및 확산, 또는 자체집속 및 확산의 제거 등을 겪게 된다. 이러한 원리를 이용하여 M. Jain 등은 납 증기에서 원공명 조건의 결맞음 밀도 포획을 이용한 자체집속의 제거에 성공한바 있다. (중략)
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[게시일 2004년 10월 1일]
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