O, Jae-Yeol;Jo, Yeong-Rae;Kim, Hui-Su;Jeong, Hyo-Su
Korean Journal of Materials Research
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v.8
no.9
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pp.871-875
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1998
High aspect ratio microstructures were fabricated by photolithography. The material for the microstructure was photosensitive glass which has good mechanical and electrical insulation properties. The photosensitive glass was exposed to ultraviolet light at 312nm through a chromium mask in which the structures are drawn. After heat treatment process over $500^{\circ}C$, the photosensitive glass was etched in a 10% hydrofluoric acid solution with ultrasonic conditions. Final dimension of the micro-framework was greatly dependent on the thickness of photosensitive glass, mask pattern, ultraviolet light exposure and etching conditions. The maximum aspect ratio of the micro-framework obtained from this work was over 30.
Jurassic granite from Geochang was analysed with respect to the characteristics of the rock cleavage. we have mainly discussed the structual anisotropy formed by microcracks. The phases of distribution of microcracks were well evidenced from the enlarged photomicrographs(${\times}6.7$) of the thin section. The planes of principal set of microcracks are parallel to the rift plane and those of secondary set are parallel to the grain plane. These rift and grain microcracks are mutually near-perpendicular on the hardway planes. From the directional angle(${\theta}$) - total length($L_t$), number(N) and density(${\rho}$) chart, the curve patterns of the above microcrack parameters reflect the phases of distribution of microcracks. Microcrack parameters such as number, length and density show an order of rift > grain > hardway. These results indicate a relative magnitude of the rock cleavage. Meanwhile, brazilian tensile strengths were measured with respect to the six directions. The results revealed a strong correlation between mechanical property with the above microcrack parameters. These general results correspond to those of the previous study for Jurassic granites from Pocheon and Hapcheon. Image processing technique for the enlarged photomicrograph of the thin section was carried out. The grain 1(G1) microcrack arrays developed in quartz and feldspar grains show excellent distribution on the photomicrograph. In particular, the directional angle of each microcrack set can be ascertained easily by brief image processing for the above photomicrograph.
Fine photographs are essential in the electron microscopy. Artifacts can be introduced during all steps of electron microscopy; specimen processing, observation and printing. Every caution is necessary to avoid the artifact formation. In this review, the authors discussed the causes of various artifacts and suggested the solution to help the correct tissue handling and electron microscopic observations.
Proceedings of the Korea Contents Association Conference
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2017.05a
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pp.259-260
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2017
본 연구는 건설 구조물의 정밀한 미세 변위 모니터링 관리시스템 개발을 위한 공간적으로 참조 가능한 모든 형태의 측위정보를 효과적으로 수집, 저장, 갱신, 조정, 분석, 표현할 수 있도록 새로운 GNSS과 원격탐사측량 등의 신기술을 적용하여 건설 구조물의 주요부 위에 대한 mm급의 다양한 측위분석이 가능한 사용자 요구에 즉시 부응할 수 있는 검색 시스템을 개발하기 위한 신기술을 연구하였다. 이를 통하여 건설구조물의 설계 및 시공 도면과 정밀한 공간정보를 유기적으로 결합할 수 있도록 하여 반영구적인 주요 시설물의 정밀한 미세변위의 변형을 추적하여 방재관리에 효율적으로 신기술이 체계적으로 사용되도록 할 것이다. 특히, 최근에 많은 관심을 가지고 있는 USN/UAV의 환경센서기반의 무인의 간이사진측량시스템을 활용하여 건설구조물를 대상으로 하는 실제 측정을 통하여 지형공간정보와 시설물의 위치정보를 지도로 제작하고 이를 기반으로 하는 다양한 방재의 신기술을 비교분석하여 최적의 건설방재기술을 검토하였다.
A novel conductive composite thin film was prepared for the first time by hybridization between polybenzoxazine (PBZ) having high heat resistance property and conductive graphene. Mechanically robust conductive graphene/PBZ composite thin films could effectively be prepared by a simple thermal treatment, which simultaneously induces reduction of graphene oxide (GO) and crosslinking reaction of benzoxazine monomer. Graphene sheets seem to be uniformly dispersed up to 3 wt% graphene content in the composite thin film as shown in the results of chemical/crystal structural and morphological analyses. This efficient route for making graphene/PBZ composite thin film would provide simultaneous improvement of mechanical property as well as electrical conductivity.
Magnetic properties and microstructures of the $Co_{83}Cr_{17}$ films growing under the applied magnetic field were studied. In comparison, those of the films growing without magnetic field were also studied. Magnetic field does not affect saturation magnetization and in-plane coercivity of the films. On the contrary perpendicular coercivity and effective perpendicular anisotropy field decreased. Grain size and the thickness of the so-called transition layer were not affected and the C-axis alignment of the films was slightly deteriorated due to magnetic field. Also, microstructures of the sputtered films showed larger grain sizes of strong (002) preferred orientation for thicker film specimens independent of applied magnetic field.
Won, Jong Pil;Jang, Chang Il;Park, Chan-Gi;Lee, Sang Woo
KSCE Journal of Civil and Environmental Engineering Research
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v.28
no.3D
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pp.325-330
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2008
This study carried out the repeated freezing-thawing test in order to understand the long-term degradation mechanism of GFRP dowel bars. The mechanical property measured by shear test. In addition, analyzes repeated freezing-thawing degradation mechanism of GFRP dowel bars by observe the microstructure through Scanning Electron Microscope (SEM) and Gas Physisorption techniques. As the result of test, it was found that the mechanical property didn't decreased as the exposure time to water and repeated freezing-thawing environment. It shows clearly observed microstructure investigations.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2000.02a
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pp.90-90
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2000
이온빔을 이용한 리소그래피의 경우 미크론 이하의 미세구조를 형성할 수 있는 유용한 수단으로서 방사광 X-선과 함께 주목을 받고 있으며, 이와 같은 미세구조 제작은 MEMS (Micro Electro-Mechanical System) 개발에 있어서 매우 중요하다. 그러나 이온빔을 이용한 리소그래피에 대한 연구가 많이 이루어져 있지 않은 상태이다. MeV급 양정사 빔을 이용한 리소그래피의 가능성을 확인하기 위하여 기본적인 실험을 수행하였으며, 최적 이온빔 조사 조건 및 최적 현상 조건을 도출하였다. Resist로는 PMMA를 사용하였으며, 1.8 MeV 양성자 빔을 사용하여 50$\mu\textrm{m}$ 깊이의 구조물을 만들었다. 1.8MeV 양성자 빔의 조사선량이 7x1013ions/cm2 이상이 되면 PMMA 내부에 기포가 형성되므로 적정 조사선량을 4x1013 ions/cm2으로 결정하였다. 또한 선량을 4x1013ions/cm2 으로 고정하고 선량률을 변화시켜주면 선량률이 8x1011ions/cm2S 일 때부터 시료에 기포나 터짐 현상 등의 문제가 발생하였으며 5x1010~~1x1010ions/cm2s 의 선량률이 조사시간, 결함측면에서 가장 적합한 영역임을 알 수 있었다. 현상제로는 20% morpholine, 5% etanolamine 60% diethylenglykol-monobutylether, 15% 증류수를 혼합하여 사용하였다. 현상 온도를 30~5$0^{\circ}C$로 변화시켜서 현상을 한 결과, 4$0^{\circ}C$에서 현상 소요시간은 1시간 이내이며 SEM으로 관찰된 표면의 상태도 제일 양호한 결과를 보였다. 82 mesh 밀도, 선굵기 60$\mu\textrm{m}$, 크기 20x20 mm인 백금 망을 마스크로 사용하여 실제 3차원 미세구조를 제작하여 보았다. 그림 1에서 제작된 구조물의 SEM 사진을 보여주었으며, 식각된 면의 조도가 매우 뛰어나며 모서리의 직각성도 우수함을 확인할 수 있다. 이와 같이 도출된 시험 조건을 기초로 하여 리소그래피 후에 전기 도금을 이용한 금속 몰드 제작 및 이온빔 리소그래피 장점을 최대한 살릴수 있는 미세구조 제작에 대한 연구를 계속 추진할 계획이다.
Kim, In-Hui;Jeong, Jae-Gyeong;Jeong, Jae-Gyeong;Sin, Mu-Hwan
Korean Journal of Materials Research
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v.7
no.11
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pp.1018-1023
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1997
본 연구에서는 3C-SiC의 ohmic 접합에 대하여 그 전기적 특성과 미세구조의 상관관계에 대하여 분석하였다. 표준사진식각 공정을 통하여 ohmic접합 금속으로서 Ni을 진공증착시켜 일련의 TLM패턴으로 열처리에 따르는 전류-전압 특성을 조사하였고 TEM, SEM, AES, EDS를 사용하여 Ni/SiC 계면에 대한 미세구조, 화학적 특성을 분석하였다. 열처리 온도와 시간을 통한 thermal budget이 증가함에 따라서 접촉저항이 감소되었으며 그 값은 $10^{-2}$-$10^{-4}$Ω$\textrm{cm}^2$의 범위에 속하였다. EDS와 AES를 통하여 7$50^{\circ}C$이상의 열처리 후 silicide(NiSi$_{2}$)의 주변에 carbon층이 형성되는 것을 확인하였으며, 열처리 온도가 증가함에 따라서 island형 silicide의 크기가 조밀해지며 SiC와의 접착성이 향상됨을 알 수 있었다. Ni/3C-SiC ohmic 접합의 전기적 특성은 계면에 생성되는 silicide와 carbon의 형성거동에 의하여 결정되는 것으로 믿어진다.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.27
no.9
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pp.1517-1523
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2003
Deep X-ray lithography (DXRL), a fabrication method for the production of microstructures with a high aspect ratio, plays an important role in the subsequent electroplanting process. However, secondary radiation is generated during X-ray exposure and damages the resist adhesion to the metal layer. To solve adhesion problems, we modified the conventional DXRL process, changing the sequence of polymer adhesion in DXRL process. With optimized X-ray exposure and development conditions based on a calculated and modified X-ray power spectrum, we fabricated various polymer microstructures and achieved a maximum aspect ratio of 40.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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