Properties of Al-doped ZnO Transparent Conducting Oxide Films Deposited with Ar Flow Rate by RF Magnetron Sputtering (RF 마그네트론 스퍼터링법으로 증착된 Al 도핑된 ZnO 투명 전도 산화막의 Ar 유량에 따른 특성)
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- Journal of the Korean Vacuum Society
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- 제19권3호
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- pp.206-210
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- 2010