• Proceedings of the Korean Information Science Society Conference
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• 2003.10b
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• pp.634-636
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• 2003

본 논문은 마스크 방식의 관심 영역(ROI, Region Of Interest) 부호 설계와 구현에 대하여 제시한다. 관심 영역에 대한 정지 영상 압축 알고리즘은 웨이블릿 변환과 사용자가 지정한 관심 영역을 결합하여 설계하였다. 즉, 사용자가 지정한 관심 영역을 이용하여 관심 영역 마스크를 생성한다. 양자화 과정에서 웨이블릿 계수들을 각 레벨과 서브밴드로 구분하고 생성된 관심 영역 마스크 정보를 이용하여 양자화 과정을 처리하여 부호화한다. 관심 영역에 대하여서는 높은 영상 품질과 그리고 전체 영상에 대하여서는 높은 압축을 동시에 실현시킬 수 있는 마스크 방식의 관심 영역 부호화 알고리즘을 설계하고 구현하였다.

• Proceedings of the Korea Information Processing Society Conference
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• 2021.11a
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• pp.177-180
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• 2021

코로나바이러스로 인하여 전 세계는 어려움을 겪고 있으며, 바이러스를 확산을 막기 위해서 실외에서는 마스크를 쓰는 것이 일상이 되었다. 하지만, 이를 따르지 않는 사람이 일반 시설에 방문할 때 이를 감지하고 경고를 할 수 있는 시스템이 없어, 마스크 미 착용자로 인한 위험성 방지에 취약점을 가지고 있다. 본 연구에서는 OpenCV 라이브러리를 이용한 마스크 착용 여부를 확인하는 시스템을 설계한다. Haar 특징기반 다단계 분류자를 이용하여 마스크 인식 프로세스를 설계하였으며, 마스크 착용 확인 시스템은 경량 컴퓨터인 라즈베리파이 장치 위에 구현하였다. 또한 확인된 사람의 이미지는 클라우드 시스템에 저장할 수 있도록 구현하였다. 본 연구를 통해, 누구나 손쉽게 해당 마스크 착용 확인 시스템을 중소 매장에 설치하여 사용할 수 있으며, 코로나바이러스 확산 방지에 기여할 수 있다고 예상한다.

• Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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• 2005.05a
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• pp.84-88
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• 2005

본 연구에서는 백색광원용 조명램프에 필요한 고밀도로 집적된 LED 어레이를 제작하기 위하여 반도체제조 공정에 필요한 포토마스크를 AutoCAD 상에서 설계하였으며 레이저 리소그래피 장비를 이용하여 포토마스크를 제작하였다. 웨이퍼상에 LED칩을 개별적으로 제작한 후 이들을 직렬 및 병렬로 금속배선하여 연결하였다. 특히 AutoCAD로 각 공정의 포토마스크 패턴을 설계 작업한 후 DWG 파일을 DXF 파일로 변환하여 레이저빔으로 스캔닝하였다. 이를 소다라임 유리판 위에 크롬을 증착한 후 각 패턴에 맞추어 식각 함으로써 포토마스크를 제작하였다. 또한 2인치 InGaN/GaN 다중 양자우물구조의 광소자용 에피박막이 증착된 사파이어 웨이퍼에 포토마스크를 활용하여 반도체 제조공정을 수행하였으며, 금속배선된 백색LED램프를 제작하였다.

• Proceedings of the Korea Multimedia Society Conference
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• 1998.04a
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• pp.148-153
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• 1998

칼라 역 해프토닝(Color inverse halftoning)은 해프토닝 칼라 영상을 시각적으로 보다 자연스러운 연속계조 칼라영상으로 변환해 주는 방법이다. 본 논문에서는, 분리된 각 칼라 채널 영상에서 나타나는 해프톤 셀 패턴을 효과적으로 제거할 수 있는 새로운 평활화 마스크를 제안하고, 이를 칼라역 해프토닝에 활용하였다. 제안한 평활화 마스크는 기존의 평활화 마스크가 잘 제거하지 못했던 해프톤, 셀 패턴을 시각적으로 보다 자연스럽게 평활해 줄 수 있으며, 마스크의 특성을 평활화하고자 하는 채널 영상에 적합하게 조정할 수 있도록 설계하였다. 실험을 통해, 평활화된 채널 영상과 그 스펙트럼을 비교 분석함으로써 제안한 방법의 유용성을 확인하였다. 이 방법은 전자 출판, 칼라 팩스, 해프톤 영상의 압축 등의 분야에 활용될 수 있다.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2010.06a
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• pp.177-177
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• 2010

본 연구에서는 반도체용 Si wafer에 마스크 공정 및 slit etching 공정을 적용하여 목표인 30um 이하의 Probe unit을 개발하기 위해 Deep Si Etching(DRIE) 장비를 이용하여 식각 공정에 따른 특성을 평가하였다. 마스크는 Probe block 조립에 적합한 패턴으로 설계 하였으며, slit의 에칭된 지점에 pin이 삽입될 수 있도록 그 폭을 최소한으로 설계하였다. 30um pitch와 20um pitch의 마스크를 각각 설계하여 포토공정에 의해 마스크패턴을 제작하였으며, 식각공정 결과 식각율 5um/min, profile angle $89^{\circ}{\pm}1^{\circ}$로 400um wafer의 양면관통 식각을 확인하였으며, 표면 및 단면 식각특성을 조사하였다.

• Journal of Korea Multimedia Society
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• v.1 no.2
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• pp.183-193
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• 1998

Color inverse halftoning is the transformation of a color-halftone image to a continuous-tone color image that is more natural in human vision. In this paper, we propose a new smoothing mask that can remove halftone patterns in channel effectively and we apply it to color inverse halftoning. The proposed smoothing mask can make channel images more smooth and natural in human vision than traditional ones. Its characteristic can be adapted automatically according to the various color halftone images. We analyze the result images in various aspects through experiments. Experimental results show that the mask is useful for color inverse halftoning. It can be applied to field of multimedia application, such as desktop publishing, color facsimile and digital library construction.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2000.02a
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• pp.204-205
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• 2000

본 연구에서는 반도체 레이저 LD 혹은 백색광로부터 조사되는 빔을 CRT 모니터의 측정부에 입사시켜 패널 glass와 섀도우 마스크에서 반사되는 빔을 PSD에 조사하여 섀도우 마스크의 진동을 측정하였으며, CCD를 사용하여 열적변형과 패널 glass의 아랫면과 섀도우 마스크사이의 간격 Q값을 측정하였다. 사용한 PSD는 검출 영역은 12mm, 센서의 위치분해능은 0.2$mu extrm{m}$이며, 실시간적으로 처리할 수 있는 장점을 갖고 있다. CRT의 경우 전자빔의 충돌에 의한 섀도우 마스크의 열적 변형과 진동에 의한 섀도우 마스크의 떨림이 발생하여 화질이 저하된다. Q값의 정확한 계측과 섀도우 마스크의 열적변형 및 진동의 측정을 통하여 이들 현상이 발생되는 근본적인 취약구조를 발견함으로써 우수한 섀도우 마스크를 설계하고 제품의 성능을 향상시킬 수 있다. (중략)

• The Journal of the Institute of Internet, Broadcasting and Communication
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• v.21 no.4
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• pp.89-96
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• 2021

The number of confirmed cases of coronavirus-19 is soaring around the world and has caused numerous deaths. Wearing a mask is very important to prevent infection. Incidents and accidents have occurred due to the recommendation to wear a mask in public places such as buses and subways, and it has emerged as a serious social problem. To solve this problem, this paper proposes an open source-based face mask wearing monitoring system. We used open source software, web-based artificial intelligence tool teachable machine and open source hardware Arduino. It judges whether the mask is worn, and performs commands such as guidance messages and alarms. The learning parameters of the teachable machine were learned with the optimal values of 50 learning times, 32 batch sizes, and 0.001 learning rate, resulting in an accuracy of 1 and a learning error of 0.003. We designed and implemented a mask wearing monitoring system that can perform commands such as guidance messages and alarms by determining whether to wear a mask using a web-based artificial intelligence tool teachable machine and Arduino to prove its validity.

• Proceedings of the Korean Society of Broadcast Engineers Conference
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• fall
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• pp.208-211
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• 2021

본 논문에서는 합성곱 신경망을 활용하여 영상에서 마스크 착용 및 미착용 상태를 탐지하는 방법을 제안한다. 코로나바이러스감염증-19(COVID-19)의 유행에 따라 감염 및 확산방지를 위해 마스크 정상적 착용이 요구되는데 몇몇 사람들은 이를 지키지 않고 있으며 현재의 감시 시스템은 입구에서 마스크 착용 여부를 검사하는 방식으로 작동될 뿐 공간에 입장한 다음 착용 여부를 알 수 없다. 제안하는 방법은 합성곱 신경망을 통해 영상에서 얼굴을 탐지하여 얻은 데이터를 이용하여 다수사람들의 마스크 착용 및 미착용 상태를 판별하는 방법으로 설계하였다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2009.02a
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• pp.225-226
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• 2009

본 연구에서는 마스크리스 노광장치의 두 프로젝션 광학계 사이에 있는 마이크로프리즘 어레이에 관한 연구이다. 마이크로프리즘의 원리와 종류에 대해 알아보고, 마이크로프리즘의 출사부의 모양에 따라 패턴의 모양이 변함을 확인하였다. 그리고 원하는 패턴을 만들 수 있는 마이크로프리즘을 설계하였다.