• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2002년도 하계학술발표회
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• pp.106-107
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• 2002

Extreme ultraviolet (EUV) radiation of wavelength $\lambda$~10 nm or photon energy hv~100 eV is presently a blank region in the electromagnetic spectrum where applications are concerned. This is because no powerful sources were available until when intense-laser-produced plasmas are available. Both a new laboratory-sized source of EUV radiation and its new applications in lithography of semiconductor devices have been developed. (omitted)

• 한국광학회지
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• 제4권2호
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• pp.157-161
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• 1993

PSD(Position Sensitive Detector)를 위치센서로 사용하여 광학적 자동촛점 장치를 구성하여 그 특성을 조사하였다. 본 연구는 광 리소그라피 장비인 KrF 엑사이머 레이저 스템퍼를 모델로 개발 하였다. 광원으로 780nm인 반도체 레이저를 사용하였으며, 시준기, 반사경, 렌즈 등을 사용한 광학계를 구성하여 위치신호(position error signal)를 측정 하였으며, 분해능은 $0.03{\mu}m$이었다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2004년도 하계학술대회 논문집 Vol.5 No.2
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• pp.1203-1206
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• 2004

마이크로 컬럼은 차세대 리소그라피 기술의 하나로 마이크로 컬럼의 기능이 기존의 전자빔 컬럼을 능가하여 주목을 받는다. 초소형 전자빔 컬럼은 기존의 전자빔 컬럼과 비교하여 수차, 렌즈의 크기 및 원형에 성능이 보다 민감하게 반응하므로 정확한 정렬과 가공 기술은 초소형 전자빔 마이크로 컬럼의 성능에 매우 중요하다. 그러나, 기준치 piezoelectric transducer (PZT)나 scanning tunneling microscopy (STM)을 이용한 정렬 기술은 매우 복잡하고 어려운 단점이 있다. 본 연구에시는 레이저 회절 패턴방식과 레이저 정밀 가공으로 실리콘 렌즈와 파이렉스 spacer를 정확하게 교대로 조립하였으며, 이 방법으로 완성된 마이크로 컬럼의 STEM동작을 조사하였다.

• 한국정밀공학회지
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• 제26권6호
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• pp.36-40
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• 2009

Development of maskless lithography techniques can provide a potential solution for the photomask cost issue. Furthermore, it could open a market for small scale manufacturing applications. Since femtosecond lasers have been found suitable for processing of a wide range of materials with sub-micrometer resolution, it is attractive to use this technique for maskless lithography. As a femtosecond laser has recently been developed, both of high power and high photon density are easily obtained. The high photon density results in photopolymerization of photoresist whose absorption spectrum is shorter than that of the femtosecond laser. The maskless lithography using the two-photon absorption (TPA) makes micro structures. In this paper, we present a femtosecond laser direct write lithography for submicron PR patterning, which show great potential for future application.

• 한국광학회지
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• 제2권4호
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• pp.186-192
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• 1991

엑시머 레이저빔($\lambda$ 0.248$\mu\textrm{m}$)을 사용하여 micro-lithography를 위해 축소배율 $5\times$를 갖는 4개의 구면으로 구성된 반사경계를 설계하였다. 먼저 초기광학계로서 Seidel 3차 수차 내에서 구면수차, 코마, 상면만곡, 왜곡수차가 제거된 4구면경계를 해석적으로 구하였다. 이 초기광학계의 성능 향상을 위해 컴퓨터를 이용한 최적화 기법을 사용하였고 그 결과 KrF 엑시머 레이저 광에 대해 N.A. 0.15와 image field diameter 3.3 mm 이내에서 회절 한계까지 제거된 수차 성능을 얻었다.

• 한국광학회지
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• 제20권6호
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• pp.334-338
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• 2009

최근 디스플레이 기기의 수요가 증대되면서 대면적 노광에 대한 요구가 증대되고 있는데, 내부전반사(total internal reflection: TIR)홀로그래픽 리소그라피는 대면적 노광을 위한 효과적인 방법으로 연구가 진행되고 있다. TIR 홀로그래피에서는 일반적으로 레이저를 이용하여 영상을 기록하고 재생한다. 그러나 자외선 램프와 같은 비가간섭광을 이용하여 재생한다면, 가간섭성에 의해 나타나는 영상잡음을 줄일 수 있고, 대면적 노광에도 보다 용이할 것이다. TIR 홀로그램의 재생을 위하여 자외선 램프를 이용할 때, 램프의 유한한 선폭과 확산각이 재생 영상에 미치는 영향을 분석하고, 재생패턴에 나타나는 선폭 확대 결과를 실험을 통하여 검증하였다. ${\mu}m$ 규모의 선폭을 갖는 대면적 패턴을 TIR 홀로그램으로부터 얻기 위한 재생 광원으로, 가간섭성 광원인 레이저 대신 저잡음성과 경제성을 갖춘 일반적인 자외선 램프의 사용이 가능할 것으로 기대된다.

• 한국광학회지
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• 제4권4호
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• pp.373-380
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• 1993

축소배율(M=+1/5)을 갖는 극자외선(deep ultra-violet) 리소그라피용 5-반사광학계를 설계하였다. 먼저 모든 3차 수차와 5차 구면수차를 영으로 하는 수치적인 해를 구면에 대해서 구하였다. 다음 비교적 크게 나타나는 잔류 수차(구면수차, 코마)의 제거를 위하여 마지막 두 반사경에 대하여 비구면화를 optimization방법에 의해 이행하였다. 이렇게 하여 얻은 광학계는 광원을 KrF 엑시머 레이저(파장 $0.248{\mu}m$)로 하는 nearly incoherent illumination(${\sigma}$=1)인 경우, NA는 0.45, 분해능은 50% MTF 기준치에서 depth of focus $1.0{\mu}m$에 대해 약 500 cycles/mm의 성능을 갖는 시스템이 되었다.

• 한국산학기술학회:학술대회논문집
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• 한국산학기술학회 2012년도 춘계학술논문집 2부
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• pp.712-715
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• 2012

본 논문에서는 EM 시뮬레이터를 이용하여 LTE2300 대역의 마이크로스트립 라인 대역여파기를 설계하고 시편을 제작하였다. 중심주파수 2300MHz, 대역폭 350MHz, 삽입손실 1.5dB, 감쇄는 1930MHz와 2690MHz에서 15dB 이상, 1000MHz에서 60dB 이상으로 설계하였다. 또한 반사손실은 15dB로 설계하였다. 구현은 유전율 9.8인 알루미나 유전체에서 하였으며, 전송선로와 접지는 silver paste를 사용하였다. EM 시뮬레이션을 통해 얻은 결과값과 이를 통해 실제 제작된 시편의 보정값을 얻어 data base화 하였으며, 좋은 재현성을 얻을 수 있음을 확인하였다. 특히 일반적으로 마이크로스트립 라인 필터의 제작에 적용되는 에칭 또는 포토리소그라피 대신 레이저를 이용하여 패턴을 구현하였으며, 이 또한 우수한 특성과 재현성을 보여주었다.

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 1998년도 제15회 광학 및 양자전자 학술발표회 논문집
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• pp.192-193
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• 1998

At Rutherford Appleton Laboratory(RAL), a high-repetition rate ps exicmer laser-plasma x-ray source has been developed for x-ray lithography with a calibrated output of up to 1 watt X-ray average power at 1nm wavelength. In a previous reports this compact x-ray source was used to print 0.18$\mu$m lines for a gate on Si-FET devices and deep three-dimensional structure with 100$\mu$m length, 25$\mu$m width, and 48 $\mu$m depth for a nanotechnology. The deep X-ray lithography is called as LIGA thchnology and getting a wide interest as a new technology for a nano-device. In this report all this works are summarized.

• 한국광학회지
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• 제6권3호
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• pp.239-244
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• 1995

내부 전반사 홀로그램을 이용하여 마스크의 미세 패턴을 기록, 재생 결상하였다. 직각 프리즘과 쐐기 살 다발 가르개, 반사경을 이용하여 광학계를 구성하였으며 TIR 홀로그램의 특성을 조사하였다. 본 실험에서는 5mW의 출력과 633nm의 파장을 가진 He-Ne 레이저를 이용하여 Agfa 8E75 홀로그램 건판에 TIR 홀로그램을 기록하고 기준파의 복소 공액파인 재생파로써 홀로그램을 재생하였다. 홀로그램 건판과 마스크와의 간격을 $200\mu$m로 유지했을 때 약 $3\mu$m의 분해능을 가진 재생상을 얻었으며 $70\mu$W의 기록 광으로써 홀로그램을 기록하여 0.45%의 에돌이 효율을 얻었다. 본 실험을 통하여 렌즈를 쓰지 않는 TIR 홀로그래피의 평판 표시 소자 리소그라피 기술에 응용 가능성을 알아 보았다.