• Title/Summary/Keyword: 나노임프린트리소그래피

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사파이어 기판에 sub-micron급 패터닝을 위한 나노 임프린트 리소그래피 공정

  • Park, Hyeong-Won;Byeon, Gyeong-Jae;Hong, Eun-Ju;Lee, Heon
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.50.2-50.2
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    • 2009

  • 사파이어는 질화물계 광전자소자 제작 시 박막 성장 기판으로 주로 사용되어 최근 그 중요성이 부각되고 있다. 특히 미세 패턴이 형성된 사파이어 기판을 이용하여 질화물계 발광다이오드 소자를 제작하면 빛의 난반사가 증가하여 광추출효율에 큰 개선이 나타난다. 또한 사파이어는 화학적 안정성이 뛰어나고, 높은 강도를 지녀 나노임프린트 등 여러 가지 패터닝 공정에서 패턴 형성 몰드로도 응용될 수 있다. 그러나 이와 같은 사파이어의 화학적 안정성으로 인하여 sub-micron 크기의 미세 패턴을 형성하기 힘들며, 현재 사파이어의 패턴은 micron 크기로 제한되어 사용되고 있다. 본 연구에서는 나노임프린트 리소그라피(NIL)를 사용하여 사파이어 웨이퍼의 c-plane위에 sub-micron 크기의 hole 패턴 및 pillar 패턴을 형성하였다. 우선 Hole 패턴을 형성하기 위해 사파이어 기판 위에 금속 hard mask 패턴을 UV 임프린트 공정과 etch 공정을 통해 형성하였다. 그리고 이 금속 패턴을 mask로 사파이어를 ICP 식각을 하여 hole 패턴을 형성하였다. 또한 Pillar 패턴을 형성하기 위해 lift-off 공정을 이용하여 금속 마스크 패턴을 형성하였고 이를 ICP 식각을 통해 사파이어 기판 위에 pillar 패턴을 형성하였다.

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The Minimization of Residual Layer Thickness by using optimized dispensing method in UVnanoimprint Lithography Process (UV 나노임프린트 리소그래피 공정에서 레지스트 도포의 최적화를 통한 잔류층 두께의 최소화)

  • Kim K.D.;Jeong J.H.;Sim Y.S.;Lee E.S.;Kim J.H.;Cho Y.K.;Hong S.C.
    • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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    • 2005.06a
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    • pp.633-636
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    • 2005

  • Imprint lithography is a promising method for high-resolution and high-throughput lithography using low-cost equipment. As with other nanoimprint methods, ultraviolet-nanoimprint lithography (UV-NIL) resolution appears to be limited only by template resolution, and offers a significant cost of ownership reduction when compared to other next generation lithography (NGL) methods such as EUVL and 157 nm lithography. The purpose of this paper is to suggest optimum values of control parameters of Imprio 100 manufactured by Molecular Imprint, Inc., which is the first commercially available UV-NIL tool, for sound nanoimprint. UV-NIL experiments were performed on Imprio 100 to find dispensing recipe for avoiding air entrapment. Dispensing recipe related to residual layer thickness and uniformity was optimized and 40 nm thick residual layer was achieved.

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Technology for Roll-based Nanoimprint Lithography Systems (롤 기반 나노임프린트 리소그래피 시스템 기술)

  • Lim, Hyungjun;Lee, Jaejong;Choi, Kee-Bong;Kim, Geehong;Lee, Sunghwi
    • Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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    • v.12 no.5
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    • pp.1-8
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    • 2013

  • Roll-based, nanoimprint lithography (Roll-NIL) is one effective method to produce large-area nanopatterns continuously. Systems and processes for Roll-NIL have been developed and studied for more than 15 years. Since the shapes of the stamp and the substrate for Roll-NIL can be plates, films, and rolls, there exist many concepts to design and implement roll-NIL systems. Combinations and variations of contact-methods for variously shaped stamps and substrates are analyzed in this paper. The contact-area can be changed by using soft materials such as polydimethylsiloxane (PDMS) or silicone rubber. Ultraviolet (UV) sources appropriate for the roll-to-plate or roll-to-roll process are introduced. Finally, two roll-to-plate nanoimprint lithography systems are illustrated.

  • KSCI