• 폴리머
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• 제35권5호
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• pp.493-498
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• 2011

Reactive mesogen인 광경화성 액정은 광반응에 의해 분자들이 네트워크 구조를 형성하여 초기 액정 분자들의 배향을 유지한 상태로 필름을 만들 수 있다. 광경화성의 reactive mesogen과 광반응 그룹이 없는 네마틱 액정을 혼합하여 경화 전과 후의 액정 혼합물의 배향을 비교하였고, 비반응성 네마틱 액정의 양과 온도에 따른 액정필름의 복굴절 변화를 조사하였다. 네마틱 액정의 양에 따라 복굴절이 다른 필름을 얻을 수 있어 reactive mesogen을 이용한 광학 보상필름 응용 가능성을 확인하였다.

• 한국정밀공학회지
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• 제25권7호
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• pp.33-38
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• 2008

• 폴리머
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• 제28권6호
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• pp.531-537
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• 2004

다양한 하프-에스터 아크릴레이트를 합성하기 위하여 다양한 산 무수물에 2-하이드록시에틸 아크릴레이트 (2-hydroxyethyl acrylate)를 반응시켰다. 합성된 하프-에스터 아크릴레이트에 지방족 에폭시 화합물인 네오펜틸글리콜 디글리시딜에테르 (neopentylglycol diglycidylether)를 반응시켜 광경화형 에폭시 변성 아크릴레이트를 제조하였다. 점도는 헥사하이드로프탈산 무수물 (hexahydrophthalic anhydride)을 사용하여 반응시킨 네오펜틸글리콜 디글리시딜에테르-헥사하이드로프탈산 무수물 (NP-HA)이 가장 높았다. 또한 헥사하이드로프탈산 무수물을 사용한 네오펜틸글리콜 디글리시딜에테르-헥사하이드로프탈산 무수물의 광경화물은 비교적 다른 산 무수물을 사용하여 제조한 에폭시 변성 아크릴레이트의 광경화물보다 경도, 인장 강도가 우수하였으며, 5% 무게 감소 온도도 높은 것으로 보아 열적으로 안정하다는 것을 알 수 있었다. 황변 지수값은 숙신산 무수물 (succinic anhydride)을 사용하여 반응시킨 네오펜틸글리콜 디글리시딜에테르-숙신산 무수물 (NP-SA)이 가장 낮았다.

• 폴리머
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• 제29권3호
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• pp.237-241
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• 2005

다양한 pentaerythritol 유도체에 대한 trimellitic anhydride와 glycidyl methacrylate를 반응하여 세 종류의 8관능 광경화형 pentaerythritol 변성 초분지형 아크릴레이트를 합성하였다. TGA로 측정한 UV 경화필름의 열 안정성은 pentaerythritol에 ethoxylate 또는 propoxylate가 부가되지 않은 pentaerythritol 단독을 사용한 HBMA-1이 가장 우수하였다. 또한 HBMA-1은 경도, 내마모성 및 인장강도도 우수하였으며, 내후성 테스트에서도 황변 지수인 yellow index 값이 가장 낮은 결과를 보여주었다.

• 공업화학
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• 제16권3호
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• pp.342-347
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• 2005

하이퍼브랜치 폴리올(HBP-16, 32, 64)과 acrylic acid로부터 광경화형 하이퍼브랜치 아크릴레이트를 합성하였고, 그 물성을 조사하였다. TGA로 측정한 UV 경화필름의 열안정성은 관능기 수가 증가할수록 좀더 높은 온도로 이동하였다. 또한 아크릴 레이트의 관능기 수가 증가할수록 경도, 내마모성, 인장강도가 우수하였으며, 내후성 테스트에서는 아크릴레이트의 관능기수가 증가할수록 황변 지수 값이 증가하는 결과를 보여주었다.

• 한국콘텐츠학회:학술대회논문집
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• 한국콘텐츠학회 2003년도 춘계종합학술대회논문집
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• pp.466-469
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• 2003

본 논문은 TDM 방식을 적용한 WDM/TDM 네트워크에서 광경로를 설정하기 위한 분산제어 방식을 제안하였다. 제안된 분산 제어 방식에서는 블록킹 확률을 줄일 수 있도록 후방 예약 방식을 사용하였다 예 약 실패를 최소화하기 위해 여러 채널을 예약하는 진취 적 예 약 방법과 단지 하나의 채널을 예 약하는 보수적 예약 방법을 적용하여 두 개의 방법을 시뮬레 이 션을 통해 비교하였다.

• 한국정밀공학회지
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• 제25권7호
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• pp.27-32
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• 2008

• 폴리머
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• 제34권5호
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• pp.469-473
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• 2010

광경화성 수지인 아크릴레이트의 경화 특성과 메카니즘에 대하여 Photo-DSC와 FTIR, Raman spectrometer를 이용하여 조사하였다. 아크릴레이트 종류, 관능기 수, 광 세기 등에 따른 경화 속도에 관한 정보는 시간에 따른 Photo-DSC curve에서 계산하였고, FTIR과 Raman을 이용하여 경화 반응의 전환율과 반응 메카니즘을 조사하였다. 광경화 반응에서 산소의 영향을 알아보기 위하여 아크릴레이트 수지와 thiol-ene 수지의 경화과정을 비교하였는데, 공기 중 산소가 아크릴레이트의 라디칼 반응에서 금지제로 작용하여 아크릴레이트 수지는 80% 이하의 전환율을 보인 반면 thiol-ene 수지는 산소가 반응에 영향을 미치지 않는 것을 알 수 있었다.

• 한국통신학회논문지
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• 제25권7A호
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• pp.951-958
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• 2000

파장분할다중화방식 전광통신망에서는 신호가 먼 거리를 진행할 경우, ASE(Amplified Spontaneous Emission) 잡음이나 누화(Crosstalk)와 같은 물리적 제약으로 인해 신호가 손상된다. 소낫ㅇ된 신호를 회복시키기 위해서는 광신호를 중간 노드에서 재생(signal regeneration)해야 하지만, 신호 재생은 추가의 네트워크 자원을 필요로 하기 때문에 재생 노드(Signal Regeneration Node, SRN)는 다른 광경로의 블록킹을 최소화하도록 신중히 선택해야 한다. 이 논문에서는 물리적인 제약 하에서 다중홉 방식으로 광경로를 설정하는 문제에 대해 최소비용 알고리즘(Minimal-Cost Placement Algorithm, MCPA)과 휴리스틱 알고리즘들을 제안하다. 최소비용 위치선정 알고리즘은 다이내믹 프로그래밍을 이용하여 송수신기나 파장의 부족으로 인한 다른 광경로들의 블록킹을 최소화하도록 공식화하였다.

• 폴리머
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• 제36권4호
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• pp.536-541
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• 2012

실리카 입자가 첨가된 광경화성 임프린트용 복합체를 제조하여 실리카 양에 따른 경화 특성과 전사된 수 백 나노미터 크기의 임프린트 패턴 형성에 관한 결함을 조사하였다. 상온에서 UV 경화한 임프린트 레진은 실리카 양이 증가할수록 탄성률이 커지고 수축률이 줄어드는 것을 알 수 있었다. 그러나 실리카 입자의 양이 7 wt% 이상인 경우 전사된 나노기둥끼리 서로 달라붙는 결함을 보이는데, 이는 실리카 입자가 광반응을 방해하여 임프린트 레진의 경화가 불완전하게 되면서 광경화된 레진의 점성이 증가했기 때문이다. 임프린트 레진에 실리카 입자를 충전제로 사용하면 경화 후 나노 패턴의 강도를 증가하여 형태를 유지하는데 도움이 되지만, 실리카 양이 7 wt% 이상이 되면 오히려 광반응 전환율이 떨어져 임프린트 공정에 의한 나노 패턴의 전사가 어려운 것을 알 수 있다.