• Title/Summary/Keyword: 고밀도 에너지 물질

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새로운 에너지물질 분자의 설계기술 동향(2)

  • Lee, Jun-Ung
    • Defense and Technology
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    • no.5 s.291
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    • pp.30-41
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    • 2003
  • 최근 컴퓨터기술의 발전과 더불어 등장한 컴퓨터모델링기법을 이용하여 현재는 존재하지 않으나 합성에 의해 만들어낼수 있는 새로운 분자들을 예측할 수 있게되었다. 이러한 기술을 에너지물질의 설계에 적용하려는 시도가 1890년대부터 시작되어, 새로운 고밀도 고에너지물질 분자들이 이론적으로 존재 가능하다는 연구결과가 속속 보고되고 있다. 에너지물질 분자들의 주요 구성원소는 C, H, N, O 등인데, 이들 원자들로부터 에너지효율을 극대화하기 위하여 선진국을 위시한 세계 여러 나라의 이론화학자들이 양자역학 이론에 바탕을 둔 ab initio 계산이 주가 되는 분자모델링 기법을 이용하여 새로운 분자들의 존재가능성을 예측하려는 연구가 활발하게 이루어지고 있다. 이러한 새로운 고에너지 물질을 찾으려는 노력의 일환으로 순수한 질소 원자들로만 이루어진 분자들, 일명 질소클러스터(Nitrogen Clusters)에 대한 연구가 진행되고 있는데, N4에서 N60까지 다양한 개수의 질소원자로 이루어진 질소크러스터의 존재가능성이 이론적으로 확인되고 있고, $N5^+$가 최근 합성되는 등 이들 새로운 초 고에너지의 분자들의 출현이 기대된다.

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프라즈마 이용기술 (1)

  • 황기웅
    • 전기의세계
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    • v.34 no.8
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    • pp.470-475
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    • 1985
  • 우주물질의 대부분이 플라즈마 상태에 있지마는 지구상에서는 천둥이 칠 때 생기는 방전이나 극지방에서 볼 수 있는 오로라와 같이 극히 일부분이 자연상태의 프라즈마로 존재한다. 지금까지 플라즈마의 이용은 그것이 내는 밝은 빛을 이용한 조명이나, 높은 열을 이용한 용접이나 절단이 고작이었으나, 최근에 들어 초고온, 고밀도 플라즈마를 이용한 핵융합 에너지 연구나 Free Electron Laser나 Gyrotron과 같이 새로운 Radiation Source로써 종래의 Source가 만들지 못하던 주파수 영역이나 Glow Discharge에서 생기는 저온 Plasma를 이용한 Plasma Etching PECVD(Plasma Enhanced CHemical Vapor Deposition), Plasma Ashing, Sputtering등은 VLSI의 제조에 필요불가결한 공정의 일부분이 되고 있다. 앞으로 수회에 걸쳐 본 기술해설란을 통하여 이들 Plasma의 이용 기술을 소개하고자 하며 본회에서는 그중에서 Plasma Etching에 대해서 그 원리와 기술상의 특징을 살펴보고자 한다.

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Caracteristic of Ru thin films using ECR Plasma (ECR 플라즈마를 이용한 Ru 박막의 식각특성)

  • 함동은;이순우;안진호
    • Proceedings of the International Microelectronics And Packaging Society Conference
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    • 2002.11a
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    • pp.123-127
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    • 2002
  • DRAM용 capacitor의 차세대 전극물질 후보 중의 하나인 Ru 박막을 고밀도의 ECR 플라즈마를 이용하여 식각 특성 및 식각 메커니즘을 알아보고자 하였다. 식각시 Ru은 oxygen들과 결합을 하여 RuO2 화합물들을 생성하고 RuO2 화합물들은 다시 oxygen들과 결합을 함으로써 휘발성이 강한 RuOx 화합물들을 생성하였다. 하지만 이러한 식각이 이루어지기 위해서는 oxygen이온들에 의한 충돌이 필요하며, Cl과 F 가스들을 첨가가 의해 충돌 이온의 에너지가 증가되어 RuO2와 O radical들의 반응성을 향상시켰다. 이에 휘발성이 좋은 RuO4들의 형성속도를 증가시킴으로써 식각 속도를 향상시킬 수 있었다.

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Study on Properties of High Energetic and High Dense Cyclic Hydrocarbons by the Structure (고에너지 고밀도 고리탄화수소 화합물의 구조에 따른 물성 연구)

  • Cho, Joon-Hyun;Kwon, Tae-Soo;Jeong, Deok-Jin;Oh, Chang-Ho;Park, Dae-In;Han, Jeong-Sik
    • Proceedings of the Korean Society of Propulsion Engineers Conference
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    • 2008.11a
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    • pp.463-466
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    • 2008
  • The weapon systems with a liquid propulsion engine have been used for various purposes and demands of the liquid fuel with variety of properties for its operational purposes and environment. The cyclic hydrocarbons including norbornane or dicyclopentane structures have many applications to the guided weapon systems due to the high density and high energy characteristics, also efforts have been given in many fields. In this study, the cyclic hydrocarbons that we designed and fabricated were investigated to obtain tendency on the structures.

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Optical and Electrical Characteristics of Fluorocarbon Films Deposited in a High-Density C4F8 Plasma (고밀도 C4F8 플라즈마에서 증착된 불화탄소막의 광학적 및 전기적 특성)

  • Kwon, Hyeokkyu;You, Sanghyun;Kim, Jun-Hyun;Kim, Chang-Koo
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • v.59 no.2
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    • pp.254-259
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    • 2021
  • Optical and electrical characteristics of the fluorocarbon films deposited in a high-density C4F8 plasma under various source powers and pressures were investigated. The F/C ratio of the fluorocarbon film deposited in a high-density C4F8 plasma increased with increasing source power and decreasing pressure due to two-step deposition mechanism. The change in the F/C ratio of the film directly affected the optical and electrical characteristics of the fluorocarbon films deposited in a high-density C4F8 plasma. The refractive index of the fluorocarbon film increased with decreasing source power and increasing pressure contrary to the dependence of the film's F/C ratio on the source power and pressure. This was because the increase in the F/C ratio suppressed electronic polarization and weakened the network structures of the film. The resistivity of the fluorocarbon film showed the same behavior as its F/C ratio. In other words, the resistivity increased with increasing source power and decreasing pressure, resulting from stronger repellence of electrons at higher F/C ratios. This work offers the feasibility of the use of the fluorocarbon films deposited in a high-density C4F8 plasma as an alternative to low dielectric constant materials because the optical and electrical properties of the fluorocarbon film can be directly controlled by its F/C ratio.

Development of Phase Change Thermal Energy Storage System (상변화 물질을 이용한 고효율 축열시스템 개발)

  • 장진택;유영선;윤진하;김영중;장유섭;강금춘
    • Proceedings of the Korean Society for Bio-Environment Control Conference
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    • 1998.05a
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    • pp.77-82
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    • 1998
  • 현재 온실 난방에 주로 이용되고 있는 난방기는 대부분이 화석에너지를 연료로 사용하고 있다. 따라서 생산비의 가중이 불가피하며, 또한 연소 과정에서 발생하는 배기 가스로 인하여 환경 오염이 문제시되고 있다. 따라서 태양에너지를 보다 더 적극적으로 활용할 수 있는 기술의 개발이 요구된다. 태양에너지를 시설 농업에 적극적으로 이용하기 위해서는 주간에 밀도가 낮은 태양에너지를 고밀도로 축열하여 기온이 급강하하는 야간의 보온에 활용하여야 한다. 주간의 온실내 잉여 태양에너지를 축열할수 있는 상변화 온도 3$0^{\circ}C$ 수준의 잠열축열재를 개발하기 위하여 수행한 본 연구의 결과를 요약하면 다음과 같다. 1. SCD에 Borax를 0.0~5.0wt% 첨가하여 과냉도를 25.$0^{\circ}C$에서 $1.5^{\circ}C$ 이하로 조절하였으며, Borax의 적정 함량은 3.0wt%였다. 2. SCD에 Carbopol을 0.0~3.0wt% 첨가하여 상분리량을 70.0%에서 0.0%로 조절하였으며, Carbopol의 적정 함량은 1.5wt%였다.3. 축열재 내구성 검증을 위하여 0~1,500회의 상변화 사이클을 수행하였다. 이때 상변화 온도의 변화량이 $\pm$1.$0^{\circ}C$ 이하, 잠열량 변화가 $\pm$2.0 kacl/kg 이하로서 안정된 값을 보였다. 이상의 결과로 볼 때 축열재의 수명을 10년까지는 보장할 수 있는 것으로 판단되었다.

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A Study of Usefulness for Megavoltage Computed Tomography on the Radiation Treatment Planning (메가볼트 에너지 전산화 단층 촬영을 이용한 치료계획의 유용성 연구)

  • Cho, Jeong-Hee;Kim, Joo-Ho;Khang, Hyun-Soo;Lee, Jong-Seok;Yoo, Beong-Gyu
    • Journal of radiological science and technology
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    • v.33 no.4
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    • pp.369-378
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    • 2010
  • The purpose of this study was to investigate image differences between KVCT vs MVCT depending on a high densities metal included in the phantom and to analyze the r values for the purpose of the dose differences between each methods. We verified the possibilities for clinical indications that using MVCT is available for the radiation therapy treatment planning. Cheese phantom was used to get a density table for each CT and CT sinogram data was transferred to radiation planning computer through DICOM_RT. Using this data, the treatment dose plan has been calculated in RTP system. We compared the differences of r values between calculated and measured values, and then applied this data to the real patient's treatment planning. The contrast of MVCT image was superior to KVCT. In KVCT, each pixel which has more than 3.0 of density was difficult to be differentiated, but in MVCT, more than 5.0 density of pixels were distinguished clearly. With the normal phantom, the percentage of the case which has less than 1($r\leq1$, acceptable criteria) of gamma value, was 94.92% for KVCT and 93.87% for MVCT. But with the cheese phantom, which has high density plug, the percentage was 88.25% for KVCT and 93.77% for MVCT respectively. MVCT has many advantages than KVCT. Especially, when the patient has high density metal, such as total hip arthroplasty, MVCT is more efficient to define the anatomical structure around the high density implants without any artifacts. MVCT helps to calculate the treatment dose more accurately.

Inspection of electronic components using dual X-ray energy (이중 엑스선 에너지를 이용한 전자부품 검사)

  • Chon, Kwon Su;Seo, Seung Jun;Lim, Jae Hong
    • Journal of the Korean Society of Radiology
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    • v.9 no.5
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    • pp.301-306
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    • 2015
  • X-ray can be applied to obtain a projection image of an object. It is not easy to obtain an high quality image for the object composed of low and high density materials. For the object with large difference in density, it is possible to realize high contrast image using images of low and high tube voltages and image processing. The plastic and metalic parts of the electronic components can be imaged by the dual energy technique which use low and high tube voltages and by processing pixel-by-pixel using visual C++. The contrast-enhanced image can be used to detect and observe defects within the electronic components.

A New Method for Synthesizing Tetrazoles from Secondary Amines using Trichloroacetonitrile (이차 아민으로부터 트리클로로아세토니트릴을 사용한 테트라졸 유도체의 새로운 합성법)

  • Oh, Su-Jin
    • Journal of the Korea Institute of Military Science and Technology
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    • v.20 no.6
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    • pp.781-787
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    • 2017
  • A new method for synthesizing the tetrazole derivatives from secondary amines through cyanation/tetrazolation has been developed. Trichloroacetonitrile is used as the cyano source to synthesize N-nitrile instead of highly toxic and expensive cyanogen bromide. In this protocol, the reaction of secondary amines with various substituents proceed smoothly, and the desired tetrazole derivatives are obtained directly in fair to high yields without isolation of intermediate cyanamides.