• 공업화학
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• 제16권2호
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• pp.187-193
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• 2005

광촉매 $TiO_2$박막은 titanium (IV) isopropoxide, 에탄올, HCl을 일정한 비율로 졸-겔방법에 의해 제작하였다. SEM에 의한 표면관찰에서는 $500^{\circ}C$에서 5회 반복해서 코팅하여 제작한 것이 우수했다. EDX에 의한 성분비는 spin코팅이 O : Ti의 atom%가 61 : 39로 dip코팅보다 우수했다. 그리고 박막제작의 온도에 따라서 anatase상에서 rutile상으로 결정구조가 변화되어 가는 것을 XRD측정으로 알았다. 제작한 $TiO_2$박막에 UV빔을 조사해서 얻은 TOC의 광분해효율이 1 h 이내에 20~65%를 나타내었고, 그 이후에는 서서히 감소하는 것을 확인했다.

• 한국세라믹학회지
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• 제41권8호
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• pp.593-598
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• 2004

1 $\mu$m이하의 전고상 리튬 박막전지의 구현을 위해 펄스 레이저 증착법을 이용하여 Pt/TiO$_2$/SiO$_2$/Si 기판위에 LiCoO$_2$정극을 증착온도와 Li/Co 간의 몰 비율을 변화시켜가며 성장시켰다. 특히, Li/Co=1.2의 조성을 갖는 LiCoO$_2$를 50$0^{\circ}C$의 증착온도에서 성장시킬 경우 53 $\mu$Ah/$cm^2$-$\mu$m의 높은 초기 용량값을 가지며 100 싸이클 후에도 67.6%의 용량값을 유지하였다. LiCoO$_2$/Pt/TiO$_2$/SiO$_2$/Si위에 고체 전해질인 (Li, La)TiO$_3$를 비정질상으로 하여 PLD방법으로 낮은 온도대역에서 증착온도를 다양하게 하여 증착하였다. 10$0^{\circ}C$의 증착온도에서 LiCoO$_2$Pt/TiO$_2$/SiO$_2$/Si위에 성장시킨 (Li, La)TiO를 가지고 LiClO$_4$ in PC 안에서 Li anode와 충$.$방전 측정 결과 약 51$\mu$Ah/$cm^2$-$\mu$m의 초기 용량값을 나타내었으며 100싸이클 후에도 90%의 훌륭한 방전용량의 보존력을 나타내었다. 비정질상의 (Li, La)TiO$_3$ 고체 전해질은 전고상 박막전지로의 구현이 가능하다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2001년도 추계학술대회 논문집 Vol.14 No.1
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• pp.517-520
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• 2001

The optical properties of $TiO_2$ thin films dispersed in epoxy film, which were prepared with bis-(4, 4'-P-toluenesulfonylacidic isoproplyidene) cycolhexadiol(BTSPC) and UVI 6990 in dry sol-gel process, were investigated. In the case of irradiating UV light on $TiO_2$ thin films, how many nanopartlcles of $TiO_2$ are dispersed in epoxy film was investigated by AFM. The absorption peak of the films was showed at 360nm. Squarylium dye was dispersed in $TiO_2$-epoxy film. Photodegration concerned with amount of dye and time of UV light irradiation was investigated. UV light irradiation on the film occurred dramatical photodegration.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2001년도 추계학술대회 논문집
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• pp.517-520
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• 2001

The optical properties of TiO$_2$ thin films dispersed in epoxy film, which were prepared with bits-(4,4'-P-toluenesulfonylacidic isoproplyidene) cycolhexadiol(BTSPC) and UVI 6990 in dry sol-gel process, were investigated. In the case of irradiating UV light on TiO$_2$ thin films, how many nanoparticles of TiO$_2$ are dispersed in epoxy film was investigated by AFM. The absorption peak of the films was showed at 360nm. Squarylium dye was dispersed in TiO$_2$-epoxy film. Photodegration concerned with amount of dye and time of UV light irradiation was investigated. UV light irradiation on the film occurred dramatical photodegration.

• 한국결정성장학회지
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• 제10권6호
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• pp.378-380
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• 2000

The epitaxial $BaTiO_{3}$ thin film was prepared on the MgO substrate by the coating-pyrolysis process using a mixed solution of Ba-naphthenate and Ti-naphthenate. The crystal structure of the epitaxial $BaTiO_{3}$ thin film was characterized by XRD ${\theta}/2{\theta}$ scan and asymmetric {303} rocking curve scan. The epitaxial $BaTiO_{3}$ thin film had the cubic phase with the lattice parameter of a = c = 0.4018 nm.

• 한국광학회지
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• 제17권1호
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• pp.104-109
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• 2006

동시 스퍼터링법으로 $TiO_2$ 박막과 구리를 도핑한 Cu/$TiO_2$ 박막을 제작하고, 금속의 도핑과 열처리 온도에 따른 구조적, 광학적, 광분해 특성을 조사하였다. XRD 측정 결과 구리 도핑의 경우에 입자의 결정 크기가 증가하였으며, SEM 결과 입자들의 크기가 균일하고 입자들의 뭉침이 더 작은 것을 확인 할 수 있었다. $900^{\circ}C$에서 열처리한 박막의 흡수단은 아나타제에서 루타일로의 상전이에 의해 밴드갭의 변화로 장파장 영역으로 이동하였고, 또한 입자 크기 증가에 따라 투과율이 급격히 감소하였다. Cu/$TiO_2$ 박막들은 순수$TiO_2$ 박막보다 광분해 특성이 더 우수하였다.

• Journal of Magnetics
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• 제13권2호
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• pp.57-60
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• 2008

This study examined the effect of various types of epitaxial strain on the magnetic properties of $SrRuO_3$ thin films. Epitaxial $SrTiO_3$ (001), $SrTiO_3$ (110), and $SrTiO_3$ (111) substrates were used to apply different crystal symmetries to the grown films. The films were grown using pulsed laser deposition. The X-ray diffraction patterns of the films grown under optimum conditions showed very clear peaks for the $SrRuO_3$ film and $SrTiO_3$ substrates. The saturated magnetic moment at 5 K after 7 Tesla field cooling was $1.2-1.4\;{\mu}_B$/Ru. The magnetic easy axis for all three types of films was along the surface normal. The magnetic transition temperature for the $SrRuO_3$ film with lower symmetry was slightly larger than the $SrRuO_3$ film with higher symmetry.

• 한국결정성장학회지
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• 제20권5호
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• pp.227-231
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• 2010

광촉매 특성을 지닌 초친수 $TiO_2$ 박막을 액상증착법에 의해 유리 기판 위에 성공적으로 제조하였다. 제조된 $TiO_2$ 박막은 $70^{\circ}C$에서 박막표면에 $TiO_2$ 나노 입자들을 형성하였다. $TiF_4$ 용액의 침적시간이 증가됨에 따라 박막의 두께도 일정하게 증가되었다. $TiO_2$ 박막은 약 $5^{\circ}$ 이하의 접촉각과 가시영역에서 약 75~90 %의 투과율을 보여주었다. 또한 제조된 $TiO_2$ 박막은 자외선 조사에 의해 메칠오렌지 용액을 분해하는 광촉매 특성을 보여주었다. 침적시간 조건에 따라 제조된 박막의 표면 구조, 광학적 특성, 접촉각을 FE-SEM, AFM, UV-Vis, contact angle meter를 이용하여 측정하였다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2000년도 추계학술대회 논문집
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• pp.575-578
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• 2000

In this work, all solid-state thin film supercapacitor(TFSC) was fabricated using tungsten trioxide (WO$_3$) with a structure WO$_3$/LiPON/WO$_3$/Pt/TiO$_2$/Si (substrate). After TiO$_2$ was deposited on Si(100) wafer by d.c. reactive sputtering, the Pt current collector films were grown on TiO$_2$glue layer without breaking vacuum by d.c. sputtering. Fabrication conditions of WO$_3$ thin film were such that substrate temperature, working pressure, gas ratio of $O_2$/Ar and r.f. power were room temperature, 5 mTorr, 20% (O$_2$(8sccm)/Ar(32sccm)) and 200W, respectively. LiPON electrolyte film were grown on the WO$_3$ film using r.f. magnetron sputtering at room temperature. The XRD pattern of the as-deposited WO$_3$ thin film were shown no crystalline peak (amorphous). The SEM image of as-deposited WO$_3$ thin film showed that the surface is smooth and uniform. The capacitiy of as-fabricated TFSC was 0$\times$10$^{-2}$ F/$\textrm{cm}^2$-${\mu}{\textrm}{m}$.

• 한국재료학회지
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• 제12권8호
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• pp.676-681
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• 2002

Microstructure, mechanical properties, and oxidation resistance of TiAIN thin films deposited on quenched and tempered STD61 tool steel by arc ion plating were studied using XRD, XPS and micro-balance. The TiAIN film was grown with the (200) orientation. The grain size of TiAIN thin film decreased with increasing Al contents, while chemical binding energy increased with Al contents. When hard coating films were oxidized at $850^{\circ}C$ in air, oxidation resistance of both TiN and TiCN films became relatively lower since the surface of films formed non-protective film such as $TiO_2$. However, oxidation resistance of TiAIN film was excellent because its surface formed protective layer such as $_A12$$O_3$ and $_Al2$$Ti_{7}$$O_{15}$, which suppressed oxygen intrusion.