• 한국표면공학회지
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• 제29권6호
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• pp.766-772
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• 1996

Undoped $SnO_x$ thin films were deposited on Si(100) substrate by using reactive ioassisted deposition technique (R-IAD). In order to investigate the effect of initial oxygen content and heat treatment on the oxidation state and crystalline structure of tin oxide films, $SnO_x$ thin films were post-annealed at 400~$600^{\circ}C$ for 1 hr. in a vacuum ~$5 \times 10^{-3}$ -3/ Torr or were directly deposited on the substrate of $400^{\circ}C$ and the relative arrival ration ($Gamma$) of oxygen ion to Sn metal varied from 0.025 to 0.1, i.e., average impinging energy ($E_a$) form 25 to 100 eV/atom. As $E_a$ increased, the composition ratio of $N_ON{sn}$ changed from 1.25 to 1.93 in post-annealing, treatment and 1.21 to 1.87 in in-situ substrate heating. In case of post-annealing, the oxidation from SnO to $SnO_2$ was closely related to initial oxygen contents and post-annealing temperature, and the perfect oxidation of $SnO_2$ in the film was obtained at higher than $E_a$=75 eV/atom and $600^{\circ}C$. The temperature for perfect oxidation of $SnO_2$ was reduced as low as $400^{\circ}C$ through in-situ substrate heating. The variation of the chemical state of $SnO_x$ thin films with changing $E_a$'s and heating method were also observed by Auger electron spectroscopy.

• 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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• 한국신재생에너지학회 2010년도 춘계학술대회 초록집
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• pp.86.1-86.1
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• 2010

Cu2ZnSnSe4는 CIS 태양전지의 In 대체 물질계로 주목을 받고 있는 저가형 태양전지 재료로 장차 차세대 태양전지 재료로 응용이 기대되고 있다. 그러나 에너지 밴드갭이 0.9~1.1eV로 다소 낮아 태양전지 광흡수층 재료로 사용하기 위해서는 wide band gab화 처리가 필요하다. 본 연구에서는 CZTSe에 S를 첨가하여 에너지 밴드갭을 확장하고자 하며, S의 첨가가 CZTSe 박막의 특성에 미치는 영향에 대하여 조사하였다. 실험의 편의성을 도모하고자 펄스레이저 법을 사용하여 증착하였다. 박막 조성 제어에는 Cu, Zn, Sn, Se, S 분말을 볼밀로 분쇄, 혼합하여 균질 혼합상 프리커서를 제조하고 이를 Cold Isostatic Press(CIP) 성형하여 Source target을 사용하였다. Pulsed YAG-Laser를 사용하여 soda lime glass상에 증착하고 조성, 구조, 조직을 관찰하고 에너지 밴드갭, 광흡수계수, 면저항, 전하밀도 등 특성을 조사하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.258-258
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• 2016

최근 디스플레이 산업의 발전에 따라 고성능 디스플레이가 요구되며, 디스플레이의 백플레인 (backplane) TFT (thin film transistor) 구동속도를 증가시키기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. 트랜지스터의 구동속도를 증가시키기 위해 높은 이동도는 중요한 요소 중 하나이다. 그러나, 기존 백플레인 TFT에 주로 사용된 amorphous silicon (a-Si)은 대면적화가 용이하며 가격이 저렴하지만, 이동도가 낮다는 (< $1cm2/V{\cdot}s$) 단점이 있다. 따라서 전기적 특성이 우수한 산화물 반도체가 기존의 a-Si의 대체 물질로써 각광받고 있다. 산화물 반도체는 비정질 상태임에도 불구하고 a-Si에 비해 이동도 (> $10cm2/V{\cdot}s$)가 높고, 가시광 영역에서 투명하며 저온에서 공정이 가능하다는 장점이 있다. 하지만, 차세대 디스플레이 백플레인에서는 더 높은 이동도 (> $30cm2/V{\cdot}s$)를 가지는 TFT가 요구된다. 따라서, 본 연구에서는 차세대 디스플레이에서 요구되는 높은 이동도를 갖는 TFT를 제작하기 위하여, amorphous In-Ga-Zn-O (a-IGZO) 채널하부에 화학적으로 안정하고 전도성이 뛰어난 SnO2 채널을 얇게 형성하여 TFT를 제작하였다. 표준 RCA 세정을 통하여 p-type Si 기판을 세정한 후, 열산화 공정을 거쳐서 두께 100 nm의 SiO2 게이트 절연막을 형성하였다. 본 연구에서 제안된 적층된 채널을 형성하기 위하여 5 nm 두계의 SnO2 층을 RF 스퍼터를 이용하여 증착하였으며, 순차적으로 a-IGZO 층을 65 nm의 두께로 증착하였다. 그 후, 소스/드레인 영역은 e-beam evaporator를 이용하여 Ti와 Al을 각각 5 nm와 120 nm의 두께로 증착하였다. 후속 열처리는 퍼니스로 N2 분위기에서 $600^{\circ}C$의 온도로 30 분 동안 실시하였다. 제작된 소자에 대하여 TFT의 전달 및 출력 특성을 비교한 결과, SnO2 층을 형성한 TFT에서 더 뛰어난 전달 및 출력 특성을 나타내었으며 이동도는 $8.7cm2/V{\cdot}s$에서 $70cm2/V{\cdot}s$로 크게 향상되는 것을 확인하였다. 결과적으로, 채널층 하부에 SnO2 층을 형성하는 방법은 추후 높은 이동도를 요구하는 디스플레이 백플레인 TFT 제작에 적용이 가능할 것으로 기대된다.

• 센서학회지
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• 제22권4호
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• pp.302-307
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• 2013

The Sb-doped $SnO_2$ nanowire network sensors were prepared by thermal evaporation of the mixtures between tin and antimony powders. Pure $SnO_2$ nanowire networks showed high sensor resistance in air ($99M{\Omega}$), similar gas responses to 4 diffferent gases (5 ppm $C_2H_5OH$, CO, $H_2$, and trimethylamine), and very sluggish recovery speed (90% recovery time > 800 s). In contrast, 2 wt% Sb-doped $SnO_2$ showed the selective detection toward $C_2H_5OH$ and trimethylamine, relatively low resistance ($176k{\Omega}$) for facile measurement, and ultrafast recovery speed (90% recovery times: 6 - 18 s). The change of gas sensing charactersitics by Sb doping was discussed in relation to gas sensing mechanism.

• 소성∙가공
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• 제21권5호
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• pp.324-329
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• 2012

Mg-(9-x)Sn-xAl-1Zn (x=1, 2, 3 and 4 wt.%) alloys were subjected to indirect extrusion, and the microstructure and mechanical properties of the as-extruded Mg-Sn-Al-Zn (TAZ) alloys were investigated. The TAZ 811 alloy exhibited a finer grain structure than the TAZ 541 alloy due to a larger number of Mg2Sn particles, which pinned the grain boundaries and prevented growth of recrystallized grains. The TAZ alloys showed an unusual yield asymmetry behavior. The tension-compression yield asymmetry increased with decreasing average grain size. The TAZ 811 alloy with a small grain size exhibited a larger yield asymmetry than that of the TAZ 541 alloy having a relatively large grain size, which is mainly attributed to the low Al content and large number of second phase particles in the TAZ 811 alloy.

• 한국표면공학회지
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• 제29권5호
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• pp.519-524
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• 1996

We synthesized semiconducting Sn-doped diamondlike carbon films by rf plasma-enhanced chemical vapor deposition using an organotin compound as a dopung gas source. XPS quan-titative analysis for the deposited films after 60 s argon ion etching revealed that Sn concen-tration increased with the partial pressure of the organotin compound in the reactant gas. In C 1s spectra, there was a component due to C-Su bond which had a negative chemical shift. C 1s spectra also indicated that the deposited films were relatively $sp^2$ rich. The chemical shift of the Sn-C bond in Sn $3d_{5/2}$ spectra was about +1.7 eV. The electrical resistivity and the optical transmittance were also investigated.

• Current Photovoltaic Research
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• 제10권2호
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• pp.33-38
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• 2022

Planner configuration thin film solar cells (TFSCs) with SnS/CdS heterojunction performed a lower short-circuit current (J_SC). In this study, we have demonstrated a path to overcome deficiency in J_SC by the incorporation of Se in the SnS absorber. We carried out the incorporation of Se in VTD grown SnS absorber by rapid thermal annealing (RTA). The diffusion of Se is mostly governed by RTA temperature (T_RTA), also it is observed that film structure changes from cube-like to plate-like structure with T_RTA. The maximum J_SC of 23.1 mA cm^-2 was observed for 400℃ with an open-circuit voltage (V_OC) of 0.140 V for the same temperature. The highest performance of 2.21% with J_SC of 18.6 mA cm^-2, V_OC of 0.290 V, and fill factor (FF) of 40.9% is observed for a T_RTA of 300℃. In the end, we compare the device performance of Se- incorporated SnS absorber with pristine SnS absorber material, increment in J_SC is approximately 80% while a loss in V_OC of about 20% has been observed.

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2003년도 춘계학술발표강연 및 논문개요집
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• pp.190-190
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• 2003

여러원소 (Sb, F 등)를 도핑한 SnO$_2$ 투명전도막은 여러 가지 훌륭한 특성으로 Solar cell, heat mirrors, gas sensors, liquid crystal displays, thick film resistor 등과 같이 넓은 범위에서 응용되고 있다. 본 연구에서는 Sb 도핑된 Tin Oxide films이 Sol-gel dip coating법에 의해 준비되었다. SnO$_2$:Sb 용액은 SnC1$_2$ 와 SbC1$_3$ Power를 알코올에 용해하여 Ethylene glycol 와 Citric acid를 첨가하여 합성하였다. 막의 상형성은 XRD와 SEM(Scanning electron microscope)에 의해서 분석되었으며, 특성분석은 투과율(UV/VIS Spectrophotometer)과 표면전기저항(four point probe)으로 분석되었다. SiO$_2$ barrier이 SnO$_2$:Sb 막의 특성에 미치는 영향을 확인하기 위하여 XPS(X-ray photoelectron spectroscopy) 분석이 적용되었다.

• 경영과학
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• 제5권2호
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• pp.42-47
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• 1988

본 논문은 범용 시스템으로서의 MRP에 대한 대안으로서 SNS를 소개하고, 두 시스템에 대한 비교 분석을 목적으로 한다. 이를 위해서 2장에서 MRP시스템의 문제점을 분석하고 3장에서 SNS의 기본원리를 소개한 후 4장에서 두 시스템을 비교 분석하였다.

• ETRI Journal
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• 제37권6호
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• pp.1135-1142
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• 2015

Multilayered ZnO-$SnO_2$ heterostructure thin films consisting of ZnO and $SnO_2$ layers are produced by alternating the pulsed laser ablation of ZnO and $SnO_2$ targets, and their structural and field-effect electronic transport properties are investigated as a function of the thickness of the ZnO and $SnO_2$ layers. The performance parameters of amorphous multilayered ZnO-$SnO_2$ heterostructure thin-film transistors (TFTs) are highly dependent on the thickness of the ZnO and $SnO_2$ layers. A highest electron mobility of $43cm^2/V{\cdot}s$, a low subthreshold swing of a 0.22 V/dec, a threshold voltage of 1 V, and a high drain current on-to-off ratio of $10^{10}$ are obtained for the amorphous multilayered ZnO(1.5nm)-$SnO_2$(1.5 nm) heterostructure TFTs, which is adequate for the operation of next-generation microelectronic devices. These results are presumed to be due to the unique electronic structure of amorphous multilayered ZnO-$SnO_2$ heterostructure film consisting of ZnO, $SnO_2$, and ZnO-$SnO_2$ interface layers.