Infinitely high etch selectivity of indium tin oxide (ITO) layer to photoresist during $CH_4/H_2/Ar$ inductively coupled plasma (ICP) etching
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- 한국진공학회:학술대회논문집
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- 한국진공학회 2006년도 제31회 학술논문발표회 초록집
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- pp.123-123
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- 2006