직접 광여기 Photo-CVD에 의한 이산화실리콘 박막의 증착 특성
(Photo-Induced Chemical Vapor Deposition of $SiO_2$ Thin Film by Direct Excitation Process)
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- 대한전자공학회논문지
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- 제26권7호
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- pp.73-82
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- 1989