With the development of surface roughness textured steel for automotive body-in-white assemble, one of key issues is to understand the role of the surface roughness in textured steel sheets. To investigate effect of surface roughness on weldability in prepared steels, electrode force was varied. Steel sheets (T-H) with high surface roughness ($Ra\;=\;1.94\;{\mu}m$) reduced electrode life. It was attributed to the higher contact resistance at the electrode-sheet interface in the presence of the high surface roughness. The increased electrode diameter decreased current density, therefore reducing weld electrode life due to small weld button size. When an increased electrode force was used, a significant increase in the electrode life was observed in welding of high surface roughness steel sheet. This study suggested that contact resistance at the electrode-sheet interface was the dominant factor, as compared to the sheet-sheet interface for determining electrode life in welding of surface roughness textured steel.
With the high proportion of zinc coated steels in body-in-white assembly, newly developed surface roughness textured galvannealed steel sheets have been introduced. In this study, zinc coated and surface roughness textured steel sheets were welded by resistance spot welding to investigate its weldability including electrode wear test. Based on the results of tensile-shear test, nugget diameter changes, and electrode tip growth test, it was clear that both surface roughness textured steels (GA-T and GA-E) showed good weldability. Also, there was no large difference in weldability and electrode wear behavior between GA-T and GA-E steels which have different surface roughness morphology. An analysis of electrode degradation showed Fe and Zn penetration through the electrode tip surface at 2400 welds reached $55{\sim}60{\mu}m$ and $75{\sim}80{\mu}m$, respectively. Therefore, there is no significant effect of surface roughness morphology on spot weldability of surface roughness textured galvannealed steel sheets. However, slight difference in thickness of alloying layers existing on electrode tip was found between GA-T and GA-E steels.
The resistance spot weldability of surface textured cold-rolled steel sheet was evaluated. One steel sheet(T4.5) showed reduced electrode life with less than 2000 welds, and all other steel sheets(E2.2, E4.5, T2.2) made more than 2500 welds. The carbon imprint test revealed that there is sudden electrode diameter increase around 1700 welds. It is believed that the increased electrode diameter decreased current density, and resulted in decreasing weld electrode life due to small weld button size. It is considered that surface roughness difference may attribute to heating during weld cycle and reduced the weld electrode life.
Transparent conductive oxides (TCO) are necessary as front electrode for most thin film solar cell. In our paper, transparent conducting aluminum-doped Zinc oxide films (ZnO:Al) were prepared by rf magnetron sputtering on glass (Corning 1737) substrate as a variation of the deposition condition. After deposition, the smooth ZnO:Al films were etched in diluted HCl (0.5%) to examine the electrical and surface morphology Properties as a variation of the time. The most important deposition condition of surface-textured ZnO films by chemical etching is the processing pressure and the substrate temperature. In low pressures (0.9 mTorr) and high substrate temperatures ($\leq$30$0^{\circ}C$), the surface morphology of films exhibits a more dense and compact film structure with effective light-trapping to apply the silicon thin film solar cells.
Changes in the surface morphology and light scattering of textured Al doped ZnO thin films on glass substrates prepared by rf magnetron sputtering were investigated. As-deposited ZnO:Al films show a high transmittance of above 80% in the visible range and a low electrical resistivity of $4.5{\times}10^{-4}{\Omega}{\cdot}cm$. The surface morphology of textured ZnO:Al films are closely dependent on the deposition parameters of heater temperature, working pressure, and etching time in the etching process. The optimized surface morphology with a crater shape is obtained at a heater temperature of $350^{\circ}C$, working pressure of 0.5 mtorr, and etching time of 45 seconds. The optical properties of light transmittance, haze, and angular distribution function (ADF) are significantly affected by the resulting surface morphologies of textured films. The film surfaces, having uniformly size-distributed craters, represent good light scattering properties of high haze and ADF values. Compared with commercial Asahi U ($SnO_2$:F) substrates, the suitability of textured ZnO:Al films as front electrode material for amorphous silicon thin film solar cells is also estimated with respect to electrical and optical properties.
Journal of information and communication convergence engineering
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제9권4호
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pp.461-465
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2011
An aluminum doped zinc oxide (AZO) film for front contacts of thin film solar cells, in this work, were deposited by r.f. magnetron sputtering, and then etched in diluted hydrochloric acid solution for different times. Effects of surface texturing on the electro-optical properties of AZO films were investigated. Also, to clarify the light trapping of textured AZO film, amorphous silicon thin film solar cells were fabricated on the textured AZO/glass substrate and the performance of solar cells were studied. After texturing, the spectral haze at the visible range of 400 ~750 nm increased substantially with the etching time, without a change in the resistivity. The conversion efficiency of amorphous Si solar cells with textured AZO film as a front electrode was improved by the increase of short-circuit current density ($J_{sc}$), compared to cell with flat AZO films.
We studied surface texture-etching of glass substrate by using reactive ion etching process with various working pressure (0.7~9.0 mT). With the increase in the pressure, a haze parameter, which means diffusive transmittance/total transmittance, was increased in overall wavelength regions, as measured by spectrophotometer. Also, atomic force microscopy (AFM) study also showed that the surface topography transformed from V-shaped, keen surface to U-shaped, flattened surface, which is beneficial for nanocrystalline silicon semiconductor growth with suppressing defective crack formation. The texture-etched ZnO:Al combined with textured glass exhibited pronounced haze properties that showed 60~90 % in overall spectral wavelength regions. This promising optical properties of double textured, transparent conducting substrate can be widely applied in silicon thin film photovoltaics and other optoelectronic devices.
Transparent conductive oxides (TCO) are necessary as front electrode for most thin film solar cell. In our paper, transparent conducting aluminum-doped Zinc oxide films (ZnO:Al) were prepared by rf magnetron sputtering on glass (Corning 1737) substrate as a variation of the deposition condition. After deposition, the smooth ZnO:Al films were etched in diluted HCI (0.5%) to examine the electrical and surface morphology properties as a variation of the time. The most important deposition condition of surface-textured ZnO films by chemical etching is the processing pressure md the substrate temperature. In low pressures (0.9mTorr) and high substrate temperatures ($\leq$$300^{\circ}C$), the surface morphology of films exhibits a more dense and compact film structure with effective light-trapping to apply the silicon thin film solar cells.
Transparent conductive oxides (TCO) are necessary as front electrode for most thin film solar cell. In our paper, transparent conducting aluminum-doped Zinc oxide films (ZnO:Al) were prepared by rf magnetron sputtering on glass (Corning 1737) substrate as a variation of the deposition condition. After deposition, the smooth ZnO:Al films were etched in diluted HCI (0.5%) to examine the electrical and surface morphology properties as a variation of the time. The most important deposition condition of surface-textured ZnO films by chemical etching is the processing pressure and the substrate temperature. In low pressures (0.9mTorr) and high substrate temperatures $({\leq}300^{\circ}C)$, the surface morphology of films exhibits a more dense and compact film structure with effective light-trapping to apply the silicon thin film solar cells.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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