• 제목/요약/키워드: solvent-resistance

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의상 피혁 가공용 수용성 폴리우레탄-에폭시 하이브리드 수지의 합성 및 물성에 관한 연구 (Study on Properties of Waterborne Polyurethane-Epoxy Hybrid Resin for Leather Garment Coationgs)

  • 이주엽;김기준
    • 한국응용과학기술학회지
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    • 제27권3호
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    • pp.325-336
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    • 2010
  • In this study, we experimented that how to synthesis waterborne urethane-epoxy hybrid resin for leather garment coatings. First of all, We had analyzed datas by FT-IR, SEM and TGA for the machanical properties. By instruments analysis measurement we confirmed that synthesis of urethane and epoxy. In this experiment we knew that polyurethane and urethane-epoxy hybrid resin have 4~5 grades of solvent resistance. Tensile strength measured in the urethane-epoxy resin(epoxy 12%, 2.033$kg_f/mm^2$) had the most strong strength than polyurethane(1.833 $kg_f/mm^2$) emulsion samples. Also urethane-epoxy hybrid resin had better result than polyurethane in acid resistance and abrasion test. As hight proportion of epoxy in hybid resin, we obtained low elongation and low flexibility. In this result, the mechanical properties of waterborne polyurethane-epoxy hybrid resin showed that how effect in leather coating by ratio of epoxy emulsion.

폴리인산 암모늄과 HMDI 기반으로 제조된 수분산 폴리우레탄 수지의 물리적 특성 연구 (Physical Properties of Water Dispersion Polyurethane Resin Based on Ammonium Poly Phosphate and HMDI)

  • 이주엽
    • 한국응용과학기술학회지
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    • 제37권6호
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    • pp.1619-1626
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    • 2020
  • 본 연구에서는 폴리인산암모늄 인산염과 HMDI로 합성된 수분산 폴리우레탄수지의 물리적 특성을 필름 시료와 피혁(Full-Grain) 표면에 코팅을 하여 물리적 특성 변화를 연구하였다. 내용제성은 모든 시료에서 변확 없음을 확인 할수 있었으며, 인장강도의 경우 폴리인산암모늄이 가장 많이 함유된 DPU-AP3(1.887 kgf/㎟)가 가장 낮은 물성을 보였다. 연실율은 폴리인산암모늄 많이 함유된 시료가 548%로 측정되었다. 내마모성은 폴리인산암모늄이 많이 함유된 시료가 548 mg.loss로 측정되어 폴리인산 암모늄과 수분산 폴리우레탄의 블랜딩된 수지의 물성변화가 확인되었다.

불소 수지(V-Flon)를 이용한 금속유물의 코팅 형성에 대한 안전성 평가 연구 (An Assessment Study on Stability of Various Coating Treatment of Metallic Artifacts Using V-Flon)

  • 이정민;위광철
    • 보존과학회지
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    • 제26권2호
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    • pp.149-156
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    • 2010
  • 금속 유물 코팅제로 사용되는 V-Flon은 함께 사용되는 용제인 YK-D80의 늦은 휘발성으로 작업에는 용이하나, 후처리로 유물을 접합하거나 복원처리 시, 코팅제가 완전 경화되지 않고 흘러나오는 문제점이 발생한다. 따라서 함침처리 후에 코팅제의 경화 속도를 가속시키기 위해 열풍 건조기에서 경화시키는 경우가 대부분이다. 이러한 V-Flon의 용제 휘발 속도의 문제점을 보완하고자 적용시키는 열풍 건조에 대한 문제점을 알아보고, 용제와 농도에 따른 변화 정도를 살펴보아 가장 효과적인 용제와 그 조성을 찾고자 하였다. 6 종류의 용제를 선정하였고 농도는 10%, 20%, 30%의 세 가지 농도로 함침 처리하여 시편을 제작하였다. 그리고 시편의 상태를 알아보기 위해서 금속 표면의 색상 및 광택 변화, 코팅막 두께 측정, 코팅 후의 부식 실험, 접촉각을 통한 내수성 측정을 실시하여 코팅제의 안정성을 평가하였다. 자연 건조와 열풍 건조의 비교 실험 결과, 열풍 건조는 외부의 강제 건조로 데이터 값이 불안정하여 균일하고 안정한 코팅막 형성에는 문제가 있음을 확인할 수 있었으며, 용제의 농도에 따른 실험 결과 V-Flon을 Xylene 용제를 이용하여 10% 용액으로 제조하여 사용할 경우, 얇은 코팅막에도 불구하고 높은 수분 차단성을 가지고 있었으며, 낮은 광택과 색변화를 나타내는 안정된 코팅막을 형성할 수 있었다.

Myxococcus stipitatus JW117이 생산하는 Polyene계 세포독성 물질의 분리 및 특성 (Isolation and Properties of Cytotoxic Polyene Antibiotics Produced by Myxococcus stipitatus JW117.)

  • 안종웅;최상운;권호정
    • 한국미생물·생명공학회지
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    • 제30권2호
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    • pp.157-161
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    • 2002
  • 암세포가 특정 항암제에 의해 내성을 획득하면 구조가 상이한 타 항암제에도 교차내성을 나타내는 이른바 암세포의 다약제 내성(MDR)이 암 화학요법에 있어서 가장 심각한 문제가 되고 있다. 본 연구에서는 다약제 내성 암세포주인 CL02 세포를 이용하여 점액세균의 대사산물을 대상으로 다약재 내성 암세포에 유효한 항암물질을 탐색하는 과정에서, Myxococcus stipitatus로 동정된 JW117 균주의 대사산물에서 우수한 활성을 발견하고 그 활성본체로서 polyene계 화합물인 phenalamides $A_1$, $A_2$, $A_3$를 분리하였다. Phenalamides $A_1$, $A_2$, $A_3$는 인체기원의 암세포에 대해 모두 강한 세포독성($IC_{50}$/ : 0.23~0.57 $\mu\textrm{g}$/ml)을 나타낼 뿐 아니라 다약제내성 세포주인 CL02와 cisplatin내성 세포주인 CP70에 대해서도 감수성 세포주와 동일한 활성을 나타내어 다약제 내성을 극복하는 우수한 활성 물질임을 확인하였다.

CNT-폴리프로필렌 복합재료의 기계적 물성평가 및 전기 미세평가법을 이용한 손상감지 (Evaluation of Mechanical Properties and Damage Sensing of CNT-Polypropylene Composites by Electro-Micromechanical Techniques)

  • 왕작가;권동준;구가영;김학수;김대식;이춘수;박종만
    • Composites Research
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    • 제26권1호
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    • pp.1-6
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    • 2013
  • 용액 분산법을 이용하여 CNT를 균질하게 분산시켰고, CNT-폴리프로필렌 복합재료 제조를 위해 압출기와 사출기를 사용하였다. CNT 고유의 전도성을 기반으로 CNT-PP 복합재료의 내부 손상을 감지하기 위해 전기저항 측정법을 이용하였다. CNT-PP의 기계적 및 계면 물성을 확인하고 일반 PP와 비교하였다. CNT의 강화 효과로 인하여 CNT를 함유함으로서, PP 기지의 기계적 물성은 더 증가되는 경향을 확인하였다. CNT-PP 복합재료의 내부 손상을 평가하기 위해 파괴 및 굴곡실험을 진행하며, 동시에 발생되는 전기저항 변화도를 감지하여 미세손상을 평가하였다. CNT 강화제의 첨가는 좋은감지능을 보여주었다. 낮은 CNT 함유율임에도 CNT-PP 복합재료의 감지가 가능했으며, 반복 하중 실험 중 최대 임계 응력을 확인하여, 내부에 발생된 미세 파괴를 찾아 낼 수 있었다.

Preparation of Polymer Thin Films of Pentafluorostyrene via Plasma Polymerization

  • Ahn, C.J.;Yoon, T.H.
    • 접착 및 계면
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    • 제7권1호
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    • pp.23-29
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    • 2006
  • Polymer thin films of pentafluorostyrene (PFS) were prepared by RF plasma (13.56 MHz) polymerization in continuous wave (CW) mode, as a function of plasma power and monomer pressure. Conditions for film preparation were optimized by measuring the solvent resistance of plasma polymer thin films in DMAc, NMP, THF, acetone and chloroform, as well as by evaluating the optical clarity via UV-VIS measurements. Pulsed mode plasma polymerization was also utilized to enhance the optical properties of the films by varying the period of on-time and duty cycle. Finally, the films were subjected to refractive index measurements and analyzed by ${\alpha}$-step, TGA and FT-IR.

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Synthesis and Characterization of Schiff Base Metal Complexes and Reactivity Studies with Malemide Epoxy Resin

  • Lakshmi, B.;Shivananda, K.N.;Prakash, Gouda Avaji;Isloor, Arun M.;Mahendra, K.N.
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제33권2호
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    • pp.473-482
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    • 2012
  • A novel malemide epoxy containing Co(II), Ni(II) and Cu(II) ions have been synthesized by curing malemide epoxy resin (MIEB-13) and Co(II), Ni(II) and Cu(II) complexes of macrocyclic bis-hydrazone Schiff base. The Schiff base was synthesized by reacting 1,4-dicarbnyl phenyl dihydrazide with 2,6-diformyl-4-methyl phenol. The Schiff base and its Co(II), Ni(II) and Cu(II) complexes have been characterized by elemental analyses, spectral (IR, $^1H$ NMR, UV-vis., FAB mass, ESR), thermal and magnetic data. The curing reaction of maleimide epoxy compound with metal complexes was studied as curing agents. The stability of cured samples was studied by thermo-gravimetric analyses and which have excellent chemical (acid/alkali/solvent) and water absorption resistance. Further, the scanning electron microscopy (SEM) and definitional scanning colorimetric (DSC) techniques were confirmed the phase homogeneity of the cured systems.

Advanced Methodologies for Manipulating Nanoscale Features in Focused Ion Beam

  • Kim, Yang-Hee;Seo, Jong-Hyun;Lee, Ji Yeong;Ahn, Jae-Pyoung
    • Applied Microscopy
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    • 제45권4호
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    • pp.208-213
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    • 2015
  • Nanomanipulators installed in focused ion beam (FIB), which is used in the lift-out of lamella when preparing transmission electron microscopy specimens, have recently been employed for electrical resistance measurements, tensile and compression tests, and in situ reactions. During the pick-up process of a single nanowire (NW), there are crucial problems such as Pt, C and Ga contaminations, damage by ion beam, and adhesion force by electrostatic attraction and residual solvent. On the other hand, many empirical techniques should be considered for successful pick-up process, because NWs have the diverse size, shape, and angle on the growth substrate. The most important one in the in-situ precedence, therefore, is to select the optimum pick-up process of a single NW. Here we provide the advanced methodologies when manipulating NWs for in-situ mechanical and electrical measurements in FIB.

포토 마스크가 필요없는 스크린 제판 기술 개발 (A Development on the Non-Photomask Plate Making Technology for Screen Printing)

  • 구용환;안석출;김성빈;남수용
    • 한국인쇄학회지
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    • 제28권1호
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    • pp.65-75
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    • 2010
  • Environmentally friendly, stencil and screen printing for cost-effective for maskless. In this study, UV -LED light source for the dispersion characteristics and high competence photoresist coating was prepared. Wavelength of 365nm UV-LED exposure device using the maskless lithography, 1.7kgf/$cm^2$ $2600mmH_2O$ the injection pressure and the suction pressure by using a dry photoconductor symptoms were dry emulsion on the market as a result, curing properties and adhesion, hardness, solvent resistance and excellent reproduction of fine patterns and ecological stencil technology was available and could be confirmed as a possibility.

Maskless용 스크린 제판 기술 연구(I) (A Study on the Maskless Plate Making Technology for Screen Printing(I))

  • 이미영;박경진;남수용
    • 한국인쇄학회지
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    • 제26권1호
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    • pp.73-85
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    • 2008
  • We have manufactured a photoresist which has excellent dispersity and good applying property due to 330cps of viscosity for environment-friendly and economical maskless screen plate making. And the photoresist applied on the screen stretched was exposed without mask by beam projector with CRT light source. Then it was developed by air spray with $1.7kgf/cm^2$ of injection pressure. The pencil hardness and solvent resistance of curing photoresist film were worse than those of conventional photoresist film and the maximum resolution of line image formed by maskless screen plate making was 0.5 mm since the exposure system for maskless plate making has weak light intensity and the diffusion of light. But we could obtain maskless screen plate which has sharp edges of line image and confirm a possibility of dry development process by air spray method.

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