Kim, Hyun Woo;Sun, Min-Chul;Lee, Jung Han;Park, Byung-Gook
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제13권1호
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pp.22-27
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2013
Detailed study on how the plasma process during the sidewall spacer formation suppresses the formation of silicide is done. In non-patterned wafer test, it is found that both fluorocarbon reactive ion etch (RIE) and TEOS plasma-enhanced deposition processes modify the Si surface so that the silicide reaction is chemically inhibited or suppressed. In order to investigate the cause of the chemical modification, we analyze the elements on the silicon surface through Auger Electron Spectroscopy (AES). From the AES result, it is found that the carbon induces chemical modification which blocks the reaction between silicon and nickel. Thus, protecting the surface from the carbon-containing plasma process prior to nickel deposition appears critical in successful silicide formation.
Density-gradient 방법을 이용하여 게이트의 양자효과가 double-gate MOSFET의 단채널 효과에 미치는 영향을 2차원으로 분석하였다. 게이트와 sidewall 산화막 경계면에서 발생하는 2차원 양자공핍 현상에 의하여 게이트 코너에 큰 전하 다이폴이 형성되며 subthreshold 영역에서 다이폴의 크기가 증가하고 classical 결과에 비하여 전자 농도와 전압 분포가 매우 다름을 알 수 있었다. Evanescent-nude분석을 통하여 게이트의 양자효과가 소자의 단채널 효과를 증가시키며 이는 기판에서의 양자효과에 의한 영향보다 크다는 것을 확인하였다. 양자효과에 의하여 게이트 코너에 형성되는 전하 다이폴이 단채널 효과를 증가시키는 원인임을 밝혔다.
To analyze vertical fire spreadability of aluminum composite panel, real scale test of aluminum composite panel and fire retardant aluminum composite panel was conducted as well as analysis of domestic code, test and domestic reaserch resulted in following conclusion. Fire spread risk assessment of aluminum Composite Panel is impossible with the current regulations (Cone Calorimeter Test). It need to changes of regulatory and combustion expanded risk assessment and regulatory changes in the test methods need to be judged. Also, there is quite a big different between the general aluminum Composite Panel and semi-non combustible of aluminum Composite Panel. However it is also deemed to be danger when present in the sidewall to the top consisting of fire spread. From now on, it is needed the study about interpretation of fire spread and sidewall of vertical fire spread analysis not only experiments for aluminum Composite Panel.
캐스케이드 실험장치에 한 개의 익형을 설치하여 캐스케이드 실험이 가능한 장치벽면의 설계를 수행하였다. 장치의 폭은 피치의 160% 넓이이다. 이 경우에 실험장치 내에 다수개의 블레이드를 설치하는 경우에 비하여 소형의 장치라도 실험의 정확성이 향상되는 장점이 있지만, 피치방향으로 주기조건을 맞추기가 어렵다. 본 연구에서는 주기조건이 얻어지도록 벽면의 형상설계를 내부유동장의 결과를 바탕으로 기울기기반과 유전자알고리즘의 방식을 사용하여 벽면을 설계하였다. 이를 위하여 목적함수는 캐스케이드 익형의 표면에서 얻어진 마하수를 적용하였으며, 실험장치의 형상 조정이 가능한 14개의 설계변수를 적용하였다. 유전자알고리즘에 의한 최적화 설계방식이 향상된 결과를 보여주었다.
The etching behaviors of the ferroelectric $YMnO_3$ thin films were studied by an inductively coupled plasma (ICP). The maximum etch rate of $YMnO_3$ thin film is 300 ${\AA}/min$ at Ar/$Cl_2$of 2/8, RF power of 800W, dc bias voltage of 200V, chamber pressure of 15mTorr and substrate temperature of $30^{\circ}C$. Addition of $CF_4$ gas decrease the etch rate of $YMnO_3$ thin film. From the results of XPS analysis, nonvolatile $YF_x$ compounds were found on the surface of $YMnO_3$ thin film which is etched in Ar/$Cl_2$/CF$_4$plasma. The etch profile of YMnO$_3$film is improved by addition of $CF_4$ gas into the Ar/$Cl_2$ plasma. These results suggest that YF$_{x}$ compound acts as a sidewall passivants which reduce the sticking coefficient of chlorine on $YMnO_3$.
Characteristics of inductively coupled Cl2/O2 and Cl2/N2 plasmas and their effects on the formation of submicron deep trench etching of single crystal silicon have been investigated using Langmuir probe, quadrupole mass spectrometer (QMS), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), and scanning electron microscopy (SEM), Also, when silicon is etched with oxygen added chlorine plasmas, etch products recombined with oxygen such as SiClxOy emerged and Si-O bondings were found on the etched silicon surface. However, when nitrogen is added to chlorine, no etch products recombined with nitrogen nor Si-N bondings were found on the etched silicon surface. When deep silicon trenches were teached, the characteristics of Cl2/O2 and Cl2/N2 plasmas changed the thickness of the sidewall residue (passivation layer) and the etch profile. Vertical deep submicron trench profiles having the aspect ratio higher than 5 could be obtained by controlling the thickness of the residue formed on the trench sidewall using Cl2(O2/N2) plasmas.
Increasing needs for light weight and high safety in modern automobiles induced the wide application of high strength steels in automotive body structures- The main difficulty in the forming of sheet metal parts with high strength steel is the large amount of springback including sidewall curl and twist in channel shaped member parts- Among these shape defects, twist occurs frequently and requires numerous reworks on the dies to compensate the shape deviation- But until now, it seems to be no effective method to reduce the twist in the forming processes- In this study, a new forming process to reduce the twist deformation during the forming of automotive structural member was suggested- This method consists of forming and restriking of embosses on the sidewall around the stretch flanging area of the part- and was applied in the forming process design of an automotive front side inner member with high strength steel- To evaluate the effectiveness of the method, springback analysis using $Pamstampa^{tm}$ was done- Through the analysis results, the suggested method was proven to be effective in twist reduction of channel shaped parts with stretch flanging area.
This paper shows the types of deteriorated hiking trails and degrading factors at three Great Walks such as Tongariro Alpine Crossing, Routeburn Track and Kepler Track in New Zealand. The deteriorated trails could be classified into gullying, widening, narrowing, branching and sidewall erosion. Department of Conservation carefully manages overland flows on trails for preventing surface erosion, thus the Great Walks show only a minor problem of gully on trails which is usually active in a mountainous area. Widening and branching of trails caused by tread erosion are not also developed due to the restriction of visitors as well as the management of rainwash. However, despite the detailed maintenance and prevention of an overuse of trails, some trails traversing steep slopes in a alpine zone under a periglacial environment are severely degraded along their sidewalls. It suggests that a unvegetated sidewall of trails has to be strictly managed in an early stage of occurrence and a slope-traversing section should be selected with more consideration when establishing a route of hiking trails.
도시 내에서 기반시설을 확충하기 위해 지하공간의 활용이 급증하고 있으며, 이에 따라 얕은터널의 수요가 늘고 있다. 도시 내 얕은터널은 자체 안정성 뿐만 아니라 상부 건축물과 터널 주변 지중매설물의 안전성도 확보해야 하는 특성이 있다. 지금까지 얕은터널에 대한 연구는 천단부나 측벽부 등 국부적 변형에 따른 주변지반 거동에 집중되었고 터널 전체의 변형에 따른 주변지반의 거동을 연구한 예가 거의 없다. 따라서, 본 연구에서는 터널 전체의 변형에 의해 발생되는 주변지반 거동의 모형시험을 수행하여 분석하고 그 안정성을 검토하였으며, 이를 위해 터널 상부지표의 경사와 토피별로 구분하여 모형시험을 수행하였다. 모형터널(폭 300 mm, 높이 200 mm)은 도로 2차선 터널 단면을 기준으로 수직 수평방향으로 동시에 내공변위가 일어나도록 제작하였으며, 모형지반은 3가지 규격(직경 4 mm, 6 mm, 8 mm)의 탄소봉으로 조성하였고, 터널 전체를 변형시키면서 터널 토피와 상부지표의 경사에 따른 지표침하, 천단하중, 측벽하중, 하중전이를 측정하였다. 그 결과 얕은터널의 지표침하는 터널상부에서 가장 크게 발생하였고, 터널에서 멀어질수록 감소하여 일정영역을 벗어나면 발생하지 않았으며, 경사지에서는 토피가 높은 곳의 지표침하가 넓게 나타났다. 천단하중과 측벽하중은 지표경사의 영향이 뚜렷하였으나 토피가 일정깊이 이상이면 지표경사의 영향을 받지 않았다. 터널의 하중전이는 수평지표에서는 토피가 높을수록, 경사진 지표에서 지표가 높을수록 하중전이 폭이 넓고 크기가 작게 나타났으며, 경사진 지표 하부 얕은 터널에서는 토피가 낮은 쪽의 터널 측벽부 주변 하중전이가 뚜렷하게 나타났다.
국소진행된 자궁경부암에 있어서의 예후인자를 알아보기 위하여 1979년 3월부터 1986년 12월까지 서울대학교병원에서 근치적방사선치료를 시행받은 154명의 환자를 대상으로 후향적 분석을 시행하였다. FIGO 병기 IIIA, IIIB, IVA의 환자 수는 각각 8, 134, 12명 이었고 병기에 따른 5년 국소치료율은 각각 $58\%$, $51\%$, $27\%$이었으며 5년 무병생존율은 각각 $57\%$, $40\%$, $25\%$, 5년 생존율은 각각 $67\%$, $51\%$, $33\%$이었다. 단변수분석에 의하면 임신 횟수, 혈색소치, 전산화단층촬영상 골반측벽 침범소견이 국소치료율에 영향을 미치는 인자 이었고 임신 횟수, 혈색소치, 전산화단층촬영상의 골반측벽 침범소견과 함께 요로조영술상의 요로패쇄증, 전산화단층촬영상의 골반임파절 비대가 무병생존율에 영향을 미치는 인자 이었으며 생존율에 영향을 미치는 인자는 전산화단층촬영상의 골반측벽 침범소견 및 방광침범소견 이었다. 다변량분석에 의하면 국소치료율에 영향을 미치는 인자는 없었고 무병생존율에 영향을 미치는 인자는 전산화단층촬영상의 골반임파절 비대이었으며 생존율에 영향을 미치는 인자는 원발병소의 크기였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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