본 논문에서는 hybrid 기법을 이용하여 INMARSAT 위성의 상향 주파수인 L-HAND(1.6265∼1.6465 GHz)에서 동작하는 위성단말기용 25 Watt C급 고출력증폭기를 설계 ·제작하였다. 제작의 간편성을 위해서 전력증폭기를 크게 구동증폭단과 전력증폭단으로 나누어 구현하였으며, 전력증폭단을 구동하기 위한 구동단은 Motorola사의 MRF-640을 사용하여 2단으로 구성하였고, 전력증폭단은 MRF-16006과 MRF-16730을 사용하였다. 또 각 부에 직류 전원을 공급하기 위해 바이어스 회로부를 같은 하우징 내에 장착하여 무게 및 부피를 최소화하였다. 제작된 고출력증폭기는 20 MHz 대역폭 내에서 이득이 30 dB 이상, 입 ·출력 정재파비는 1.7 이하의 특성을 가졌다. 1.635 GHz 주파수에 대해 1 dB 압축점의 출력전력은 44 dBm 으로서 설계시 목표로 했던 출력전력 25 Watt를 상회하였다. 본 논문에서 제시한 SSPA(Solid State Power Amplifier) 제작 기법은 각종 Radar 및 SCPC(Signal Channel Per Carrier)용 전력증폭기 설계 및 제작에도 적용할 수 있다.
There is an increasing need to improve the air quality over South Korea to protect public health from local and remote anthropogenic pollutant emissions that are in an increasing trend. Here, we evaluate the performance of the WRF-Chem (Weather Research and Forecasting-Chemistry) model in simulating near-surface air quality of major Korean cities, and investigate the impacts of time-varying chemical initial and lateral boundary conditions (IC/BCs) on the air quality simulation using a chemical downscaling technique. The model domain was configured over the East Asian region and anthropogenic MICS-Asia 2010 emissions and biogenic MEGAN-2 emissions were applied with RACM gaseous chemistry and MADE/SORGAM aerosol mechanism. Two simulations were conducted for a 30-days period on April 2010 with chemical IC/BCs from the WRF-Chem default chemical species profiles ('WRF experiment') and the MOZART-4 (Model for OZone And Related chemical Tracers version 4) ('WRF_MOZART experiment'), respectively. The WRF_MOZART experiment has showed a better performance to predict near-surface CO, $NO_2$, $SO_2$, and $O_3$ mixing ratios at 7 major Korean cities than the WRF experiment, showing lower mean bias error (MBE) and higher index of agreement (IOA). The quantitative impacts of the chemical IC/BCs have depended on atmospheric residence time of the pollutants as well as the relative difference of chemical mixing ratios between the WRF and WRF_MOZART experiments at the lateral boundaries. Specifically, the WRF_MOZART experiment has reduced MBE in CO and O3 mixing ratios by 60~80 ppb and 5~10 ppb over South Korea than those in the WRF-Chem default simulation, while it has a marginal impact on $NO_2$ and $SO_2$ mixing ratios. Without using MOZART-4 chemical IC, the WRF simulation has required approximately 6-days chemical spin-up time for the East Asian model domain. Overall, the results indicate that realistic chemical IC/BCs are prerequisite in the WRF-Chem simulation to improve a forecast skill of local air quality over South Korea, even in case the model domain is sufficiently large to represent anthropogenic emissions from China, Japan, and South Korea.
The width of depletion region in a varactor diode can be modulated by varying a reverse bias voltage. Thus, the preferred characteristics of depletion capacitance can obtained by the change in the width of depletion region so that it can select only the desirable frequencies. In this paper, the TV tuner varactor diode fabricated by hyper-abrupt profile control technique is presented. This diode can be operated within 3.3 V of driving voltage with capability of UHF band tuning. To form the hyperabrupt profile, firstly, p+ high concentration shallow junction with $0.2{\mu}m$ of junction depth and $1E+20ions/cm^3$ of surface concentration was formed using $BF_2$ implantation source. Simulation results optimized important factors such as epitaxial thickness and dose quality, diffusion time of n+ layer. To form steep hyper-abrupt profile, Formed n+ profile implanted the $PH_3$ source at Si(100) n-type epitaxial layer that has resistivity of $1.4{\Omega}cm$ and thickness of $2.4{\mu}m$ using p+ high concentration Shallow junction. Aluminum containing to 1% of Si was used as a electrode metal. Area of electrode was $30,200{\mu}m^2$. The C-V and Q-V electric characteristics were investigated by using impedance Analyzer (HP4291B). By controlling of concentration profile by n+ dosage at p+ high concentration shallow junction, the device with maximum $L_F$ at -1.5 V and 21.5~3.47 pF at 0.3~3.3 V was fabricated. We got the appropriate device in driving voltage 3.3 V having hyper-abrupt junction that profile order (m factor) is about -3/2. The deviation of capacitance by hyper-abrupt junction with C0.3 V of initial capacitance is due to the deviation of thermal process, ion implantation and diffusion. The deviation of initial capacitance at 0.3 V can be reduced by control of thermal process tolerance using RTP on wafer.
사회조사 자료를 활용한 통계분석에 있어서 불완전 자료의 문제는 거의 모든 연구자들이 경험하는 하나의 보편적인 문제이다. 불완전 자료의 문제는 특히 패널조사와 같은 종단적 자료를 활용한 연구에 있어서 중요한 이슈가 된다. 본 연구의 목적은 최근까지 이루어진 불완전 자료에 대한 보정방범을 소개하는 것이다. 특히, 본 연구는 패널자괴에서 발생한 불완전 자료의 처리에 대한 관심이 부족한 점을 고려하여 최근까지 이루어진 보정방법들을 반복측정 패널자료 분석에 적용하는데 초점을 맞춘다. 첫째, 본 연구는 불완전 자료에 대한 적절하지 못한 사후처리는 분석결과에 있어서 유의미한 차이로 이어 수 있음을 시사한다. 특히, 분석결과는 반복측정 자료를 사용하는 연구의 경우 불완전 자료의 발생은 궤적의 초기값보다는 시간의 경과에 따른 궤적의 변화를 적절히 추정하는데 문제를 가질 수 있음을 시사하고 있다. 둘째, 분석결과는 완전제거법이나 평균대체법이 EM, FIML, MICE 방법들에 비해 불완전 자료의 처리효과가 상대적으로 떨어짐을 보여준다. 특히, 완전제거법이나 평균대체법과 같은 방법에 비해 최대우도법이나 다중대체법이 갖는 상대적 우위는 MCAR 가정에 비해 보다 현실적인 가정이라고 할 수 있는 MAR 조건하에서 크게 나타난다. 본 연구의 분석결과는 또한 비록 결측치의 발생기제가 MNAR 상황이라고 하더라도 연구자가 결측치의 발생과 관련된 변수들을 보정과정에서 적절하게 활용하면 편의의 상당부분을 감소시킬 수 있음을 시사한다.
We report on the capacitively coupled O2 plasma etching of PMMA and polycarbonate (PC) with a diffusion pump. Plasma process variables were process pressure and CCP power at 5 sccm $O_2$ gas flow rate. Characterization was done in order to analyze etch rate, etch selectivity, surface roughness, and morphology using stylus surface profilometry and scanning electron microscopy. Self bias decreased with increase of process pressure in the range of 25$\sim$180 mTorr. We found an important result for optimum pressure for the highest etch rate of PMMA and PC, which was 60 mTorr. PMMA and PC had etch rates of 0.46 and 0.28 ${\mu}m$/min under pressure conditions, respectively. More specifically, etch rates of the materials increased when the pressure changed from 25 mTorr to 60 mTorr. However, they reduced when the pressure increased further after 60 mTorr. RMS roughnesses of the etched surfaces were in the range of 2.2$\sim$2.9 nm. Etch selectivity of PMMA to a photoresist was $\sim$1.5:1 and that of PC was $\sim$0.9:1. Etch rate constant was about 0.04 ${\mu}m$/minW and 0.02 ${\mu}m$/minW for PMMA and PC, respectively, with the CCP power change at 5 sccm $O_2$ and 40 mTorr process pressure. PC had more erosion on the etched sidewall than PMMA did. The OES data showed that the intensity of the oxygen atomic peak (777.196 nm) proportionally increased with the CCP power.
Objectives : Trauma patients have attentional bias which enforces traumatic memories and causes cognitive errors. Understanding of such selective attention may explain many aspects of the posttraumatic stress disorder(PTSD) symptoms. Methods : We used the rapid serial visual presentation(RSVP) method to verify attentional blink in burn patients with PTSD. International affective picture system(IAPS) was used as stimuli and distracters. In the 'neutral test', patients have been presented series of pictures with human face picture as target stimuli. Each picture had 100ms interval. However the distance between target facial pictures was randomized and recognition of second facial picture accuracy was measured. In the 'stress test', the first target was stress picture which arouses patient emotions instead of the facial picture. Neutral and Stress tests were done with seven PTSD patients and 20 controls. In '85ms test' the interval was reduced to 85ms. The accuracy of recognition of second target facial picture was rated in all three tests. Eighty-five ms study was done with eighteen PTSD patients. Results : Attentional blinks were observed in 100-400ms of RSVP. PTSD patients showed increased recognition rate in the 'stress test' compared with the 'neutral test'. When presentation interval was decreased to 85 ms, PTSD patient showed decrease of attentional blink effect when target facial picture interval was 170ms. Conclusion : We found attentional blink effect could be affected by stress stimulus in burn patients. And attentional blink may be affected by stimulus interval and the character of stimulus. There may be some other specific mechanism related with selective attention in attentional blink especially with facial picture processing.
본 연구에서는 NOAA AVHRR 밝기온도 자료로부터 해수면 온도(SST) 산출에 황사 에어로솔은 미치는 영향을 복사전달 모델을 사용하여 분석하고, SST 복원 알고리즘을 개선하였다. 봄철의 황사에 의한 AVHRR 밝기온도 변화를 모의하기 위한 복사전달 모델의 입력 자료로서 지상 태양광 관측 자료로부터 분석한 황사 에어로솔 광학적 특성 (에어로솔 광학적 두께 및 크기분포)과 라디오 존데 연직분포 자료(기압, 기온, 및 습도)를 이용하였다. 황사 에어로솔은 적외선 복사대에서 흡수에 비해 산란이 매우 큼을 보였으며, 이러한 특징은 지표면에서 방출되는 상향복사량을 산란시켜 대기상부에서 관측되는 밝기 온도를 감소시키는 경향과 관련이 있다. 광학적 두께가 1인 황사의 경우 직하점에서 약 2 K, 위성 천정각이 $50^{\circ}$인 경우에는 약 4 K의 감쇄를 유발하였다. 황사 존재시 AVHRR 적의채널 11, $12{\mu}m$의 밝기온도 차 역시 감소하는 경향을 보이고 있지만 그 값은 미미하였다. 기존 SST 복원 알고리즘은 황사발생시 SST를 실제 값보다도 낮게 산출함을 보였으며, 이를 보정하기 위해 에어로솔 광학적 두께, $11{\mu}m$에서의 밝기온도, 그리고 위성 천정각을 추가하여 알고리즘을 개선하였다. 개선된 SST 복원 알고리즘은 황사의 두께가 1인 경우 2.7 K정도의 오차를 개선하였다.
극궤도 위성(Aura)에 탑재되어 운용 중인 Ozone Monitoring Instrument (OMI)를 이용하여 동아시아 지역에 대한 등가 람버시안 반사도(Lambertian Equivalent Reflectance; LER)를 유도하였다. 본 연구의 LER 기후값(2004년 10월-2007년 9월)은 기존 OMI 및 MODIS 결과와 다음 대기환경 변수의 관점에서 비교분석되었다. 파장(자외선, 가시광선), 지표 특성(육지, 해양), 그리고 구름 제거. 자외선 및 가시광선 파장역(328-500 nm)에서 산출된 LER은 최소 반사도뿐만 아니라 세 종류 하위 평균(1, 5, 10% 이내)으로 산출되었다. 이들 중에 10% 평균값이 OMI 결과와 가장 잘 일치하였다. 여기서 상관계수는 0.88, 평균 제곱근 오차는 1.0%. 그리고 평균 편차는 -0.3%이었다. 10% 평균값과 기존 OMI LER값은 해양에서 가시광선에 비하여 자외선 영역에서 큰(~2%) 반면에 육지에서는 작게(~1%) 나타났다. 또한 파장 및 지표 특성에 따른 LER 변동폭은 육지 및 가시광선 조건에서, 특히 만년설 및 사막 지역에서 크게 나타났다(~3%). 최소 반사도값은 해양 및 육지의 표본 지역에서 MODIS에 비하여 약 1.4% 과대 산출되었다. 이러한 원인은 고해상도 MODIS 자료에서의 효과적인 구름 제거에 있다고 분석되었다. MODIS에 대한 10% 평균값의 상대 오차는 기존 OMI 산출물에 비하여 해양에서 작았으나(-0.6%) 육지에서는 컸다(1.5%). OMI 산출물 경우에 육지에서의 작은 상대 오차는 Landsat 자료 이용한 효과적인 구름 제거에 있다고 추정되었다. 본 연구는 정지궤도 환경위성(예, GEMS) 관측을 이용한 지면반사도 산출에 기여할 것으로 기대된다.
최근 정치엘리트에 관한 구술연구가 급속히 증대되고 있다. 문제는 엘리트 구술연구에서 수집된 자료들의 가치가 의심받고 있다는 점이다. 의도적이든 비의도적이든 간에 정치엘리트의 구술자료는 그 자료가 설명하고자 하는 사실과 거리(간극)가 크다는 이유 때문이다. 이 논문의 목적은 이러한 간극을 분석하고, 그에 대한 해결책을 제시하는 것이다. 사실 엘리트 구술자료에서 나타나는 간극은 하나가 아니다. 그것은 구술자료가 생산되는 과정에서 발생하며, 질적으로 상이한 여러 가지 유형으로 구분할 수 있다. 제1유형의 간극은 기억이 형성되는 과정에서 발생하는 간극이다. 구술자들이 외부의 객관적인 사실을 선별적으로 인식하고 기억하기 때문에 발생한다. 선별인식, 선별기억, 개별적 경험 등이 이 경우에 해당한다. 이러한 간극은 단순한 오류와 구별된다. 이 유형의 간극은 그 자체로 하나의 사실이며, 분석대상이 되어야한다. 제2유형은 기억을 유지하는 과정에서 발생하는 간극이다. 한번 형성된 기억은 시간이 지나면서 마모되거나 변형되기 때문에 발생하는 간극이다. 망각이나 기억변형이 이 경우에 해당한다. 구술자에게서 이러한 간극이 왜 발생하였는가를 이해할 수 있다면, 그 간극을 해석하고 좁히는데 도움이 된다. 제3유형은 구술하는 과정에서 발생하는 간극이다. 구술자가 자신의 기억과 다른 내용을 진술함에 따라 나타나는 간극이다. 의도적인 허위진술이나 반복적인 허위진술이 여기에 해당한다. 구술사 연구에서 피하거나 제거해야할 간극이다. 본 논문의 결론은 다음과 같다. 첫째, 모든 간극을 부정적으로 볼 필요는 없다는 것이다. 제1유형과 제2유형 간극은 구술자료가 지니고 있는 단점이라기보다는 장점이라 할 수 있다. 이 간극들을 해석함으로써 사실을 보다 풍부하게 이해 할 수 있기 때문이다. 둘째, 부정적인 간극인 제3유형의 간극은 구술을 준비하는 과정, 구술을 진행하는 과정, 구술자료를 해석하는 과정에서 좁힐 수 있다는 것이다.
창업은 경제발전의 원동력이자 국가경쟁력 향상에 중요한 역할임에 나라의 창업지원정책은 매년 늘어나고 있지만 이에 도전하지 않고 향후 창업을 고려하지 않는다는 지표는 고용축소를 예측할 수 있고 실업이 더욱더 증가할 수 있다고 볼 수 있다. 아무것도 하지 않는 청년층의 증가는 경제적 고통과 미래의 소중한 인력의 방치로 국가적으로 보다 현실적인 창업정책이 요구되는 상황이다. 이에 본 연구에서는 우리나라 잠재적 창업자의 창업의지에 영향을 미치는 요인을 밝히고자, 편견과 환경적 요인에 대하여 규명하고자 하였다. 이를 위해 창업에 관심이 있는 잠재적 창업가인 일반인을 대상으로 227부의 응답을 표본으로 SPSS.25를 이용하여 기술통계분석을 실행하였다. 그 결과 편견은 창업의지를 감소시키고, 실패두려움을 증가시켰다. 반면에 창업자의 환경요인은 실패두려움을 감소시키고, 창업의지는 증가시켰다. 마지막으로 실패두려움은 두 독립변수와 창업의지 간에 부분 매개역할을 하는 것으로 나타났다. 본 연구 결과를 볼 때 편견은 창업의지에 부정적인 요소이고 환경은 긍정적요인으로 나타났다. 이러한 연구 결과는 창업 활성화를 위하여 창업에 대한 창업가의 올바른 인식과 지지받을 수 있는 긍정적인 환경요인이 필요함을 시사하고 있다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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