$BCl_3/Cl_2$ /Ar 플라즈마를 이용한 BST 박막의 식각 특성
(Etching characteristics of BST thin films using $BCl_3/Cl_2$ /Ar plasma)
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 2003년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
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- pp.322-325
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- 2003