Etch characteristics of ITO(Indium Tin Oxide ) using inductively coupled Ar/$CH_4$ plasmas
(유도결합형 Ar/$CH_4$ 플라즈마를 이용한 ITO의 식각특성에 관한 연구)
-
- Journal of the Korean Vacuum Society
- /
- v.8 no.4B
- /
- pp.565-571
- /
- 1999