• 제목/요약/키워드: photosensitive

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Plasma Display Panel용 감광성 격벽 재료 및 Photolithography 공정 성질 (Photosensitive Barrier Rib Paste for PDP and Photolithographic Process)

  • 박이순;정승원;오현식;김순학;송상무
    • 공업화학
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    • 제10권8호
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    • pp.1114-1118
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    • 1999
  • 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 격벽(barrier rib)은 일정한 선폭과 높이를 가져 균일한 방전 공간을 제공하고, 인접한 셀 간의 전기적, 광학적 혼선(crosstalk)을 방지하기 위해 PDP의 하부 유리 기판 패널에 들어가는 구조물이다. 본 연구에서는 사진식각(photolithography)법으로 격벽을 형성하는데 필요한 감광성 격벽 페이스트가 제조되었다. 페이스트는 바인더 고분자인 에틸셀룰로오즈를 BC/BCA = 30/70 wt %인 혼합 용매에 15 wt %로 용해한 다음 관능성 단량체로서TPGDA/PETA = 50/50 wt % 혼합물, 광개시제로서 Irgacur 651 및 격벽 분말을 도입한 다음 전체를 균일하게 분산시켜 제조하였다. 감광성 격벽 페이스트의 각 성분, 조성 및 공정을 최적화하여 소성 후 높이 약 $100{\mu}m$ 에 이르는 PDP용 격벽을 고해상도로 사진식각법으로 얻을 수 있었다.

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KAIST의 MAV용 MEMS 엔진 개발 현황 (Prgress in MEMS Engine Development for MAV Applications)

  • 이대훈;박대은;윤의식;권세진
    • 한국항공우주학회지
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    • 제30권6호
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    • pp.1-6
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    • 2002
  • 마이크로 연소실을 장착한 MAV 추진 장치용 단기통 MEMS 엔진을 제작하였다. 본연구에서는 MEMS 크기의 왕복운동 내연기관의 타당성을 검증하고 실용화를 위한 설계 및 가공데이터를 축적하고자 하였다. 엔진 블록은 가공의 정밀도와 내열성등을 고려하여 감광유리 웨이퍼를 사용하였으며, 점화 전극은 베이스 플레이트 위에 니켈 도금으로 제작하였다. 감광유리판은 등방성 에칭의 특성이 탁월하여 마이크로 엔진의 실린더와 피스톤과 같이 비교적 깊은 식각이 가능함을 확인하였다. 전체 엔진은 세 개의 별도 가공된 레이어를 접착하여 조립한다. 본연구의 엔진 연소실은 깊이는 1mn, 폭 2mn이며, 피스턴은 수소-공기 예 혼합 가스의 연소압력에 의하여 구동된다. 가공된 엔진의 연소실험을 통하여, 점화, 화염전파 및 피스턴 구동을 확인하였으며, 실용화를 위한 연구가 요구되고 있다.

감광성 CNT paste에 대한 저에너지 Ball Milling 처리 효과 (Effect of Ball Milling on Photosensitive Carbon Nanotube Pastes and Their Field Emission Properties)

  • 장은수;이한성;이내성
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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    • pp.154-154
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    • 2008
  • Although the screen printing technology using photosensitive carbon nanotube (CNT) paste has many advantages such as low cost, simple process, uniform emission, and capability of mass production, the CNT paste needs to be improved further in CNT dispersion, printability, adhesion, electrical conductivity, population of CNT emitters, etc. Ball milling has been frequently employed to prepare the CNT paste as ball milling can mix its ingredients very well and easily cut the long, entangled CNTs. This study carried out a parametric approach to fabricating the CNT paste in terms of low-energy ball milling and a paste composition. Field emission properties of the CNT paste was characterized with CNT dispersion and electrical conductivity which were measured by a UV-Vis spectrophotometer and a 4-point probe method, respectively. Main variables in formulating the CNT paste include a length of milling time, and amounts of CNTs and conductive inorganic fillers. In particular, we varied not only the contents of conductive fillers but also used two different sizes of filler particles of ${\mu}m$ and nm ranges. Among many variations of conductive fillers, the best field emission characteristics occurred at the 5 wt% fillers with the mixing ratio of 3:1 for ${\mu}m$-and nm-sizes. The amount and size of fillers has a great effect on the morphology, processing stability, and field emission characteristics of CNT emitter dots. The addition a small amount of nm-size fillers considerably improved the field emission characteristics of the photosensitive CNT paste.

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에폭시 아크릴레이트를 이용한 감광성 폴리머 저항 페이스트 조성 (Compositions for Photosensitive Polymer Resistor Paste Using Epoxy Acrylates)

  • 김동국;박성대;이규복;경진범
    • 공업화학
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    • 제23권2호
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    • pp.157-163
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    • 2012
  • 6종의 에폭시 아크릴레이트와 전도성 카본블랙을 이용하여 감광성 저항 페이스트를 제작하고, 그들의 알칼리 수용액에 대한 현상성과 열경화 후 저항값을 평가하였다. 자외선에 의한 광경화성 및 알칼리 용액에 대한 현상성을 부여하기 위해서 카르복시기를 가진 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 아크릴레이트 모노머, 광개시제 등이 사용되었다. 또한 열경화성 조성물을 얻기 위하여 유기 과산화물을 페이스트에 첨가하였다. 실험 결과, 올리고머의 종류에 따라서 일부 페이스트들은 현상이 되지 않았으며, 현상된 페이스트 중, 측정된 저항값은 동일한 카본블랙 함량에서도 페이스트 조성에 따라 다른 값들을 나타내었다. 최종적으로 최적의 올리고머를 선정하고, 카본블랙의 함량과 모노머의 종류, 경화 온도를 조절함으로써 약 0.5 $k{\Omega}/sq.$의 면저항을 나타내는 감광성 저항 페이스트 조성물을 얻을 수 있었다.

Photoinitiator-free Photosensitive Polyimide Gate Insulator for Organic Thin Film Transistor

  • Pyo, Seung-Moon;Lee, Moo-Yeol;Jeon, Ji-Hyun;Son, Hyun-Sam;Yi, Mi-Hye
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2004년도 Asia Display / IMID 04
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    • pp.885-888
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    • 2004
  • We have prepared and investigated the properties of photoinitiator-free photosensitive polyimide gate insulatos for organic thin-film transistors (OTFTs). The precursor was prepared from a dianhydride, 3,3',4,4'-Benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) and novel aromatic diamine, 7-(3,5-diaminobenzoyloxy) coumarine (DA-CM). Photo-patternability of the polyimide precursor film and surface morphology of the films before and after photo-patterning process were investigated and negative pattern with a resolution of 50 ${\mu}m$ was obtained nicely. In addition, we have fabricated OTFTs with pentacene and photosensitive polyimide as a semiconductor and a gate insulator; respectively. According to the device geometry, the ${\mu}$, current modulation ratio and subthreshold swing of the devices were around 0.2${\sim}$0.4 $cm^2$/Vs, more than $10^5$ and around 3${\sim}$5 V/dec, respectively.

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Synthesis and characterization of negative-type photosensitive polyimides for TFT-LCD array

  • Kim, Hyo-Jin;Kim, Hyun-Suk;Kim, Soon-Hak;Park, Lee-Soon;Hur, Young-Hune;Lee, Yoon-Soo;Song, Gab-Deuk;Kwon, Young-Hwan
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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    • pp.1625-1628
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    • 2006
  • Two different negative-type photosensitive polyimides were synthesized and characterized for an application as an interdielectric layer in TFTLCD array. In the case of photocurable polyimides, the photosensitive moiety, 2-HHSP, was synthesized through 3 step reaction, and then was incorporated into side chains of polyimide precursor by post reaction. Optimum compositions of negative-type photocurable polyimde were also formulated. For photopolymerizable polyimides, two novel UV monomers containing imide linkages were prepared. An aqueous alkaline developable polymer matrix was synthesized by free radical copolymerization. A negative photoresist formulation was developed utilizing synthesized UV monomers containing imide linkage, photoinitiator, UV oligomer, and alkali developable polymer matrix. It was found that viaholes with good resolution, high transmittance and thermal resistance could be obtained by photolithographic process utilizing the negative-type photoresist formulations.

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Photosensitive Barrier Rib Paste and Materials and Process

  • Park, Lee-Soon;Kim, Soon-Hak;Jang, Dong-Gyu;Kim, Duck-Gon;Hur, Young-June;Tawfik, Ayman
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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    • pp.823-827
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    • 2005
  • Barrier ribs in the plasma display panel (PDP) function to maintain the discharge space between the glass plates as well as to prevent optical crosstalk. Patterning of barrier ribs is one of unique processes for making PDP. Barrier ribs could be formed by screen-printing, sand blasting, etching, and photolithographic process. In this work photosensitive barrier rib pastes were prepared by incorporating binder polymer, solvent, functional monomers photoinitiator, and barrier rib powder of which surface was treated with fumed silica particles. Studies on the function of materials for the barrier rib paste were undertaken. After optimization of paste formulation and photolithographic process, it was applied to the photosensitive barrier rib green sheet and was found that photolithographic patterning of barrier ribs could be formed with good resolution up to $110{\mu}m$ height and $60{\mu}m$ width after sintering.

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나프토 퀴논 디아지드 유도체의 합성 및 그 감광 특성 (Synthesis and Characterization of Photosensitive Naphthoquinonediazide-sulfonyl Derivatives)

  • 주소영;홍성일
    • 공업화학
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    • 제1권2호
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    • pp.116-123
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    • 1990
  • 감광성 orthonaphthoquinonediazide-sulfonyl 유도체를 합성하고, 그 감광특성에 대해 검토한 결과, UV에 의해 광변환 되어, 알칼리 가용성의 분해화합물이 생성됨을 확인하였다. 이 유도체를 PAC로, m-cresol novolac을 matrix resin으로 photoresist를 제조하고 감광 특성을 고찰하여, 미세 패턴용 photoresist로의 타당성을 확인하였다. 3, 4, 5-Trihydroxybenzophenone 의 벌키한 공명 구조는 노광부의 감도와 가용성을 향상시켰으며, PAC 와 matrix resin의 혼합 무게비가 3:8 일 때 가장 적절한 dissolution rate를 나타냈으므로, 이 photoresist가 정해진 조건 하에서 감도, 해상력이 가장 우수하였다.

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Synthesis of direct-patternable ZnO film incorporating Pt Nanoparticles

  • Choi, Yong-June;Park, Hyeong-Ho;Reddy, A.Sivasankar;Park, Hyung-Ho
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2007년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.369-369
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    • 2007
  • ZnO film has been investigated during several decades because it has excellent optical property like a transmittance among the range of visible light for using transparent conducting oxide (TCO) films. But ZnO film has not enough conductivity for applying to TCO devices. Therefore we synthesized platinum nanoparticles and they incorporated into ZnO due to improve the electrical property of ZnO film by sol-gel synthesis method. Also, we fabricated photosensitive ZnO thin film containing Pt nanoparticles by sol-gel process and spin-coating for using photochemical solution deposition. Photosensitive ZnO film could carry out the direct-pattern which allow the etching process to be convenient. The optical and electrical properties of ZnO film with or without various atomic percent of Pt nanoparticles annealed at various temperatures were investigated by using UV-Vis spectroscopy and 4-point probe method, respectively. We characterized the ZnO thin film containing Pt nanoparticles using X-ray diffraction, scanning electron microscopy, and X-ray photoelectron spectroscopy.

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주쇄에 광분해성 방향족 술포닐옥시이미드기를 함유한 감광성 폴리이미드 (Photosensitive Polyimides Having Aromatic Sulfonyloxyimide Groups in the Main Chain)

  • 오세용;이지영;조성열;정찬문
    • 폴리머
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    • 제24권3호
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    • pp.407-417
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    • 2000
  • 고분자 주쇄에 cyclobutane 또는 페닐과 방향족 술포닐옥시이미드 구조를 갖는 감광성 폴리이미드를 합성하여 광분해 특성에 있어서 고분자의 구조가 미치는 영향을 조사하였다. 폴리이미드는 N-히드록시와 염화 술포닐의 축중합에 의해 제조하였다. 합성된 폴리이미드는 25$0^{\circ}C$까지 열분해가 일어나지 않고 안정하였다. 254nm의 광조사에 따른 폴리이미드의 광분해는 분광학적 측정에 의해 N-O 결합의 절단 또는 이미드 moiety의 계열에 기인되는 것을 알 수 있었다. 본 연구의 폴리이미드는 포지티브형의 광분해성 고분자로의 활용이 가능한 것이 확인되었으며, 특히 pyromellitic diimide moiety를 함유하는 폴리이미드의 포지티브 화상은 높은 감도와 해상도를 나타내었다.

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