Sung, Shi-Joon;Park, Mi Sun;Kim, Dae-Hwan;Kang, Jin-Kyu
Bulletin of the Korean Chemical Society
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v.34
no.5
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pp.1473-1476
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2013
Solution-based deposition of $CuIn_xGa_{1-x}Se_2$ (CIGSe) thin films is well known non-vacuum process for the fabrication of CIGSe solar cells. However, due to the usage of organic chemicals in the preparation of CIG precursor solutions, the crystallization of the polycrystalline CIGSe and the performance of CIGSe thin film solar cells were significantly affected by the carbon residues from the organic chemicals. In this work, we have tried to eliminate the carbon residues in the CIG precursor thin films efficiently by using soft-annealing process. By adjusting soft-annealing temperature, it is possible to control the amount of carbon residues in CIG precursor thin films. The reduction of the carbon residues in CIG precursors by high temperature soft-annealing improves the grain size and morphology of polycrystalline CIGSe thin films, which are also closely related with the electrical properties of CIGSe thin film solar cells.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.22
no.1
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pp.53-60
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2009
$ZrTiO_4$ dielectric thin films were coated by metal-organic decomposition, and annealed by rapid thermal processing up to $900^{\circ}C$ for their crytallization. Crystallized single-phase $ZrTiO_4$ thin films were fabricated above the annealing temperature of $800^{\circ}C$, but their grains were randomly oriented without specific textured orientation. Best dielectric properties were presented by the sample annealed at $800^{\circ}C$ which had crystalline structure and flat surface. Dielectric constant of the film was maintained at 32 throughout full frequency range up to 6 GHz, and dielectric loss was varied between 0.01 and 0.04.
Park, S.H.;Lee, S.W.;Lim, E.C.;Kim, Y.H.;Kim, J.S.;Lee, D.C.
Proceedings of the KIEE Conference
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1997.07d
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pp.1549-1551
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1997
In this study, the $\beta$-Polyvinylidene fluoride($\beta$-PVDF) organic thin films were fabricated by physical vapor deposition method as one of the dry-processing methods and applying electric field during the vapor deposition. When the substrate temperature is $80^{\circ}C$, the PVDF organic thin films exhibit the characteristic absorption band of the $\beta$ forms $510cm^{-1}$, $602cm^{-1}$ and $1273cm^{-1}$, and the fraction of $\beta$ form crystals in the total crystalline content was 95%. The molecular structure of PVDF organic thin films were transformed from $\alpha$ to $\beta$ form with increasing of applied electric field and the control of substrate temperature.
Kim, Geon-Joo;Pyo, Kyung-Soo;Kim, Ho-Seob;Hwang, Seong-Bum;Song, Chung-Kun
Proceedings of the IEEK Conference
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2004.06b
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pp.493-496
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2004
Recently, organic thin films are widely used to the application of organic optoelectronic devices such as OLED, OTFT, organic solar cell, and organic laser, etc. The electrical transport of organic thin film is very important to determine the performance and thus should be analyzed for analysis of operation and design of devices. However, there have been rarely known about the electrical transport of organic thin films. As an example pentacene is known to be a good organic semiconductor to produce the best performance in OTFT at the present. But the performance is varied depending on the position of source/drain contacts and gate surface states and the thickness of thin film. Therefore, it is necessary to investigate the effects of the above-mentioned factors on the electrical properties of pentacene thin film.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.08a
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pp.394-394
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2012
We fabricated organic-inorganic superlattice films using molecular layer deposition (MLD) and atomic layer deposition (ALD). The MLD is a gas phase process in the vacuum like to atomic layer deposition (ALD) and also relies on a self-terminating surface reaction of organic precursor which results in the formation of a monolayer in each sequence. In the MLD process, 'Alucone' is very famous organic thin film fabricated using MLD. Alucone layers were grown by repeated sequential surface reactions of trimethylaluminum and ethylene glycol at substrate temperature of $80^{\circ}C$. In addition, we developed UV-assisted $Al_2O_3$ with gas diffusion barrier property better than typical $Al_2O_3$. The UV light was very effective to obtain defect-free, high quality $Al_2O_3$ thin film which is determined by water vapor transmission rate (WVTR). Ellipsometry analysis showed a self-limiting surface reaction process and linear growth of each organic, inorganic film. Composition of the organic films was confirmed by infrared (IR) spectroscopy. Ultra-violet (UV) spectroscopy was employed to measure transparency of the organic-inorganic superlattice films. WVTR is calculated by Ca test. Organic-inorganic superlattice films using UV-assisted $Al_2O_3$ and alucone have possible use in gas diffusion barrier for OLED.
Plasma polymerized methyl methacrylate (ppMMA) thin films were deposited by plasma polymerization technique with different plasma powers and subsequently thermally treated at temperatures of 60 to $150^{\circ}C$. To find a better ppMMA preparation technique for application to organic thin film transistor (OTFT) as dielectric layer, the chemical composition, surface morphology, and electrical properties of ppMMA were investigated. The effect of ppMMA thin-film preparation conditions on the resulting thin film properties were discussed, specifically O-H site content in the pMMA, dielectric constant, leakage current density, and hysteresis.
Transparent In-doped zinc oxide (IZO) thin films are deposited with variation of pulsed DC power at Ar atmosphere on coming 7059 glass substrate by pulsed DC magnetron sputtering. A c-axis oriented IZO thin films were grown in perpendicular to the substrate. The optical transmittance spectra showed high transmittance of over 80% in the UV-visible region and exhibited the absorption edge of about 350 nm. Also, the IZO films exhibited the resistivity of ${\sim}10^{-3}{\Omega}\;cm$ and the mobility of ${\sim}6cm/V\;s$. Organic Light-emitting diodes (OLEDs) with IZO/N,N'-diphenyl-N, N'-bis(3-methylphenl)-1, 1'-biphenyl-4,4'-diamine (TPD)/tris (8-hydroxyquinoline) aluminum ($Alq_3$)/LiF/Al configuration were fabricated. LiF layer inserted is used as an interfacial layer to increase the electron injection. Under a current density of $100\;mA/cm^2$, the OLEDs show an excellent efficiency (9.4 V turn-on voltage) and a good brightness ($12000\;cd/m^2$) of the emission light from the devices. These results indicate that IZO films hold promise for anode electrodes in the OLEDs application.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2001.05a
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pp.57-60
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2001
The characterization of organic Metal/Insulator/Metal(MIM) devices were investigated from LB films. The physicochemical properties of the LB films were by UV absorption spectrum and AFM. We give pressure stimulation into organic thin films and then manufacture a device under the accumulation condition that the state surface pressure is 2, 10, 30[mN/ml The stable images are probably due to a strong interaction between the monolayer film and glass substrate. We are unable to obtain molecule resolution in images of the films but did see a marked contrast between images of the bare substrate and those with the network structure film deposited onto it.
$(Ba_{1-x}Sr_xTiO_3$ (BST) thin films have been grown on Pt-coated MgO by metal -organic chemical vapor deposition. X-ray diffraction results showed that BST films were grown on a Pt/MgO substrate with (100) preferred orientation perpendicular to the surface. The lineawr relationship of P-E curve obtained form hysteresis loop measurement indicated that the BST films had a Curie transitions below room temperature . Films deposited at $900^{\circ}C$ exhibited a smooth and dense microstructure, a dielectric constant of 202, and a dissipation facotr of 0.02 at 100kHz. The leakage current density of the BST films is about $2\times10^{-10} \;A/\textrm{cm}^2$$ at an applied electric field of 0.2 MV/cm. The electrical behavior on the current-voltage characteristics is well explained by the bulk-limited Pool-Frenkel emission.
$SrZrO_3 $resistive oxide barriers on Ag sheathed Bi2223 tapes were prepared by the sol-gel and dip coating method to reduce AC coupling loss. The performance of the dip-coated $SrZrO_3 $ thin films was evaluated in terms of bond strength by varying the Sr/Zr mol ratio and the amount of organic vehicle (ethyl cellulose and a-terpineol) additives. The bond strength of the coatings increased as the Sr/Zr ratio decreased and the amount of organic vehicle rose, respectively. It was found that the effect of organic vehicle addition was more pronounced, suggesting that the adherence of the $SrZrO_3 $ films on Bi2223 tapes was governed primarily by the amount of organic vehicle additive.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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