Byun, Hye Ryung;Kim, Hyo In;Byun, Su Jeong;Park, Dae Young;Jeong, Mun Seok;Byeon, Clare Chisu
Journal of the Korean Physical Society
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제73권11호
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pp.1729-1734
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2018
Organic-inorganic halide perovskite single crystals undergo phase transition of being cubic, tetragonal, or orthorhombic depending on the temperature. We investigated the $CH_3NH_3PbBr_{3-x}I_x$ single crystals grown by the inverse temperature crystallization method with temperature-dependent UV-Vis absorption and photoluminescence. From the temperature-dependent absorption measurement, the optical band gap is extracted by derivation of absorption spectrum fitting and Tauc plot. In our results, $CH_3NH_3PbBr_{3-x}I_x$ single crystals show that an abrupt change in optical band gap, PL peak position and intensity appears around 120 K - 170 K regions, indicating the phase transition temperature.
To investigate dependence of the sensitivity of THz metamaterials on the position of target dielectric materials, we functionalized the metamaterial gap with an adhesive polymer. A shift in resonance frequency occurs when polystyrene microbeads are deposited in the gap of the metamaterial's metal resonator pattern, while little change is observed when they are deposited on other areas of the metasurface. A two-dimensional mapping of the sensitivity, with a grid size of 1 ㎛, is obtained from a finite-difference time-domain simulation: The frequency shift is displayed as a function of the position of a target dielectric cube. The resulting sensitivity distribution clearly reveals the crucial role of the gap in sensing with metamaterials, which is consistent with the electric field distribution near the gap.
Transparent thin films of pure and nickel-doped ZrO2 are grown successfully by sol-gel dip-coating technique. The structural and optical properties according to the different annealing temperatures (300 ℃, 400 ℃ and 500 ℃) are investigated. Analysis of crystallographic properties through X-ray diffraction pattern reveals an increase in crystallite size due to increase in crystallinity with temperature. All fabricated thin films are highly-oriented along (101) planes, which enhances the increase in nickel doping. Scanning electron microscopy and energy dispersive spectroscopy are employed to confirm the homogeneity in surface morphology as well as the doping configuration of films. The extinction coefficient is found to be on the order of 10-2, showing the surface smoothness of deposited thin films. UV-visible spectroscopy reveals a decrease in the optical band gap with the increase in annealing temperature due to the increase in crystallite size. The variation in Urbach energy and defect density with doping and the change in annealing temperature are also studied.
We prepared the $Ag[100\AA])/Sb_2S_3[3000\AA]$ films using the thermal evaporator. The films were exposed by the blue-pass filtered mercury lamp and the polarized He-Ne laser. We have investigated the dependence of the induced optical energy with Ag-doping and have observed the transmittance variation near the optical absorption edge with the light source. It was shown that the energy gap of this thin film was largely changed by exposing He-Ne laser, the light source of the near energy gap of this thin film. It is because of the structural change from Ag-doping. It is investigated that the dissolution, the diffusion, and the field effect of the Ag thin film generate the Ag spatial distribution.
In this study, we investigated the thickness dependence of thermal bleaching(TB) effect as well as photo-induced scalar phenomena, such as photodrakening(PD) effect and photorefraction(PR) change, in chalcogenide A $s_{40}$ G $e_{10}$S $e_{15}$$S_{35}$ thin films. We found that when these films were exposed for 15 minutes using blue-pass filtered Hg lamp(~4300$\AA$) after annealing for 30 minutes around the glass transition temperature Tg(20$0^{\circ}C$), the refractive index change ($\Delta$n) was varied up to 0.02~0.46 according to each thickness condition and the optical energy gap ($\Delta$$E_{op}$ ) was shifted to a longer wavelength of approximately 0.67eV, especially for 1000$\AA$-thickness. Also, the TB PD effects have been understood by the results related to optical absorption characteristics. The TB effect could be estimated as increasing the stabilization of amorphous chalcogenide films since absorption slope of extended regions(U) was not changed by annealing. On the other hand, the PD effect could be understood as due to the enhancement of disorder since U and the slope of Urbachs tail(1/F) around an absorption edge were decreased by exposing.ing.n edge were decreased by exposing.
In this report, the structural and optical properties of sol-gel derived $Mg_xZn_{1-x}O$ thin films upon changes in the composition and annealing temperature were investigated. The $Mg^{2+}$ content and the annealing temperature were varied in the range of $0{\leq}x{\leq}0.35$ and $400^{\circ}C{\leq}T{\leq}600^{\circ}C$, respectively. The films exhibited a hexagonal wurtzite structure of a polycrystalline nature. The optical transmittance exceeded 85% and the optical band gap of the film was tuned as high as 3.84 eV at a value of x = 0.35 (annealed at $400^{\circ}C$), which was evidently the maximum $Mg^{2+}$ content for the single-phase polycrystalline $Mg_xZn_{1-x}O$ thin films prepared in this experiment. The optical band gap and photoluminescence emission were tailored to the higher energy side while maintaining crystallinity without a significant change of the lattice constant.
The optical and electronic properties of Indium Tin Oxide (ITO) thin films deposited on a RF-plasma treated glass substrate were investigated by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS), Ultra-violet Photoelectron Spectroscopy (UPS), Reflected Electron Energy Loss Spectroscopy (REELS). The modification of glass substrates was carried out by varying the time of the plasma surface treatment in an oxygen atmosphere. The focus of this research was to examine how the optical and electronic properties of ITO thin films change with the plasma treatment time. The surface energy increased since the carbon bonds were removed from the surface after the glass substrate received the surface treatment. The ITO thin films produced on the glass substrate with surface treatment showed that the high optical transmittance was approximately 85%. The measured band gap energy was as high as 3.23 eV when the plasma treatment time was 60 s and the work function after the treatment was increased by 0.5 eV in comparison to that before the treatment of 60 s. The ITO thin film exhibited an excellent sheet resistance of $2.79{\Omega}/{\Box}$. We found that the optical and electronic properties of ITO thin films can be improved by RF-plasma surface treatment.
In this paper we have obtained property by considering the change of optical energy gap as a function of photo-does for exposing photo on Ag/a-Se$\sub$75/Ge$\sub$25/ thin films. This U-type property was obsered for all photo-exposing except for blu-pass filtered Hg lamep. Expecially, very large band shift(~0.3[eV]) is obtained by exposing He-Ne laser (6328[${\AA}$]). It is impossible to explain this property for exposing He-Ne and semiconductor laser through DWP model, which was explained for photo-exposing above the energy gap. Therefore we suggest a new modified model of DWP model for Ag/a-Se$\sub$75/Ge$\sub$25/ bilayer thin films.
In this study, we have investigated the effect of the substrate temperature and oxygen flow rate on the characteristics of IZO thin films for the OLED (organic light emitting diodes) devices. For this purpose, IZO thin films were deposited by RF magnetron sputtering at room temperature and $300^{\circ}C$ with various $O_2$ flow rate. In order to investigate the influences of the oxygen, the flow rate of oxygen in argon mixing gas has been changed from 0.1sccm to 0.5sccm. IZO thin films deposited at room temperature show amorphous structure, whereas IZO thin films deposited at $300^{\circ}C$ show crystalline structure having an (222) preferential orientation regardless of $O_2$ flow rate. The electrical resistivity of IZO film increased with increasing flow rate of $O_2$ under Ar+$O_2$. The change of electrical resistivity with increasing flow rate of $O_2$ was mainly interpreted in terms of the charge carrier concentration rather than the charge carrier mobility. The electrical resistivity of the amorphous-IZO films deposited at R.T. was lower than that of the crystalline-IZO thin films deposited at $300^{\circ}C$. The change of electrical resistivity with increasing substrate temperature was mainly interpreted in terms of the charge carrier mobility rather than the charge carrier concentration. All the films showed the average transmittance over 85% in the visible range. The current density and the luminance of OLED devices with IZO thin films deposited at room temperature in 0.1sccm $O_2$ ambient gas are the highest amongst all other films. The optical band gap energy of IZO thin films plays a major role in OLED device performance, especially the current density and luminance.
스컬(skull)용융법에 의해 성장시킨 코발트($Co^{2+}$)가 도핑(doping)된 $25{\sim}50wt%$의 서로 다른 $Y_2O_3$ 함량을 가진 이트리아 안정화 큐빅지르코니아(YSZ) 단결정을 $N_2$ 분위기 $1000^{\circ}C$에서 5시간 동안 열처리하였다. 적갈색의 단결정들은 각각 보라색 또는 청색으로 변화되었으며, Co가 첨가(doping) 된 처리 전 후의 YSZ들은 직경 6.5, 두께 2 mm의 웨이퍼 또는 직경 10 mm의 라운드브릴리언트 컷(round brilliant cut)으로 연하 하였으며, 광학적 또는 구조적 특성은 UV-VIS 분광광도계와 XRD(X-ray diffraction)로 측정하였으며, $Co^{2+}\;(^4A_2(^4F)\to{^4P})$ 및 $Co^{3+}$에 의한 흡수, 에너지 간격(energy gap) 및 격자 매개 변수(lattice parameter)변화가 분석되었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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