The tilt angle generation of nematic liquid crystal(NLC) on the homeotropic polyimide(PI) surface by the new Ion beam alignment method is studied. The tilt angle of NLC on the homeotropic PI surface for all incident angle is about 38and this has a stabilization trend. And the good LC alignment of the NLC on the PI surface by ion beam exposure of 45Incident angle was observed. Also the tilt angle of NLC on the homeotropic PI surface by ion beam exposure of 45Incident angle had a tendency to decrease as ion beam energy density increase. So we had known that pretilit angle could be controlled from verticality to horizontality.
Kyu Thein;Meng Scott;Duran Hatice;Nanjundiah Kumar;Yandek Gregory R.
Macromolecular Research
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제14권2호
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pp.155-165
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2006
The present article describes the experimental and theoretical observations on the formation of holographic, polymer-dispersed, liquid crystals and electrically switchable, photonic crystals. A phase diagram of the starting mixture of nematic liquid crystal and photo-reactive triacrylate monomer was established by means of differential scanning calorimetry (DSC) and cloud point measurement. Photolithographic patterns were imprinted on the starting mixture of LC/triacrylate via multi-beam interference. A similar study was extended to a dendrimer/photocurative mixture as well as to a single component system (tetra-acrylate). Theoretical modeling and numerical simulation were carried out based on the combination of Flory-Huggins free energy of mixing and Maier-Saupe free energy of nematic ordering. The combined free energy densities were incorporated into the time-dependent Ginzburg-Landau (Model C) equations coupled with the photopolymerization rate equation to elucidate the spatio-temporal structure growth. The 2-D photonic structures thus simulated were consistent with the experimental observations. Furthermore, 3-D simulation was performed to guide the fabrication of assorted photonic crystals under various beam-geometries. Electro-optical performance such as diffraction efficiency was evaluated during the pattern photopolymerization process and also as a function of driving voltage.
We investigated the EO performances of the UV aligned twisted nematic liquid crystal display (TN-LCD) with the UV exposure on a-C:H thin film surface. LC alignment using UV exposure on the a-C:H thin film surface was achieved. Monodomain alignment of the UV aligned TN-LCD can be observed. An good EO characteristics of the UV aligned TN-LCD was observed with oblique ion beam exposure on the a-C:H thin film surface. Therefore, the EO property of the UV-aligned TN-LCD with UV exposure on the a-C:H thin film surface is almost the same as that of the rubbing-aligned TN-LCD on a polyimide (PI) surface.
In this paper, we obtained that the monodomain alignment of nematic liquid crystal (NLC) increases with increasing irradiation time with linearly polarized ultraviolet (LPUV) light irradiation on polyimide (PI) surfaces. It was found that the monodomain alignment of NLC is obtained in a cell with normally LPUV light irradiated on PI surface at 30 min. and then oblique LPUV is secondly irradiated on PI surfaces rotated by $90^{\circ}$. The pretilt angle of NLC is generated about $2.5^{\circ}$ with oblique angle of $60^{\circ}$ and then decreased with increasing the oblique angle of IN light irradiation. It is considered that the pretilt angle of NLC is attributed to the photo-depolymerization of polymer with the oblique angle of UV light. The voltage-transmittance and response time characteristics of photo-aligned twisted nematic (TN)-LCD with UV light irradiation time of 60 min. were almost same in comparison with rubbing treated TN-LCD.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제4권1호
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pp.21-23
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2003
The washing effects on pretilt angle generation in a nematic liquid crystal (NLC), 4-n-pentyl-4'-cyanobiphenyl (5CB) on a rubbed polyimide (PI) surface with trifluoromethyl moiety have been successfully studied. The pretilt angle of 5CB is increased by the washing process on the rubbed PI surface. The surface tension on the rubbed PI surface increases with the rubbing strength RS and then saturated above RS: 150 mm. The pretilt angle of 5CB for all washing processes on the rubbed PI surface decreases with the surface tension. We have found that the pretilt angle of 5CB on the rubbed PI surface may be attributed van der walls (VDW) dispersion interaction between the LC molecules and the polymer surfaces having trifluoromethyl moieties.
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.I
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pp.460-463
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2005
We studied the nematic liquid crystal (NLC) alignment capability by the Ultraviolet (UV) alignment method on a a-C:H thin -film , and investigated electro-optical performances of the UV aligned twisted nematic (TN)- liquid crystal display (LCD) with the UV exposure on a-C:H thin film surface. A good LC alignment by UV irradiation on a a-C:H thin -film surface was achieved. Monodomain alignment of the UV aligned TN-LCD can be observed. The good electro-optical (EO)characteristics of the UV aligned TN-LCD was observed with oblique UV exposure on the a-C:H thin film surface for 1min.
Moon, Hyun-Chan;Kang, Hyung-Ku;Park, Chang-Joon;Hwang, Jeoung-Yeon;Seo, Dae-Shik;Lim, Sung-Hoon;Jang, Jin
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.I
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pp.468-470
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2005
We studied the nematic liquid crystal (NLC) aligning capabilities using the new alignment material of the SiC (Silicon Carbide) thin film. The SiC thin film exhibits good chemical and thermal stability. The good thermal and chemical stability makes SiC an attractive candidate for electronic applications. A vertical alignment of nematic liquid crystal by ion beam exposure on the SiC thin film surface was achieved. The about $87^{\circ}$ of stable pretilt angle was achieved at the range from $30^{\circ}$ to $45^{\circ}$ of incident angle. The good LC alignment is main-tained by the ion beam alignment method on the SiC thin film surface at high annealing temperatures up to 300.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제6권3호
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pp.106-109
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2005
We have investigated the generation of pretilt angle for a nematic liquid crystal (NLC) alignment with in-situ photoalignment method on polyimide (PI) surfaces using polymer films. Especially, we studied in-situ photoalignment changing heating temperature from $50^{\circ}C\;to\;120^{\circ}C$ on the polymer film. The LC aligning capabilities and pretilt angle on the polymer substrates were better than those on the glass substrate using in-situ photoalignment method. It is considered that this increase in pretilt angle may be attributed to the roughness of the micro-groove substrate induced by the in-situ photoalignment. As temperature of heated subtrate and UV exposure time increase, pretilt angle of the cell used polymer film increased. It is considered that the heating temperature of substrate is attributed to generate pretilt angle. Also, electro-optical performances of the in-situ photoaligned TN cell using the polymer substrate are almost the same as that of the TN cell using the glass substrate.
쌍안정 TN LCD를 매트릭스 어드레싱 구동을 할 때 패널 파라미터와 구동 파형을 최적화하는 방법을 제시하였다. 쌍안정 TN 액정 셀에서 데이터 전압이 광 수위칭 특성에 미치는 영향을 측정하였고 이를 이론적으로 모델링 하였다. 스위칭에 데이터 전압이 미치는 영향을 고려하기 위해 시간의 함수로써 weighting 함수를 도입하였다. Weighting 함수를 알아내면 최소의 데이터 펄스폭을 계산함으로써 멀티플렉싱 구동을 위한 최대의 구동 라인 수를 계산할 수 있다. 또한 패널 파라미터(예, d/p)를 변화 시키면서 테스트 셀을 구동하면 고속 동작을 위한 파라미터를 최적화할 수 있다. 이로부터 이론적 예측과 실험 결과가 잘 일치하는 것을 확인하였다.
We studied the nematic liquid crystal (NLC) aligning capabilities using the new alignment material of the SiC (Silicon Carbide) thin film. The SiC thin film exhibits good chemical and thermal stability. The good thermal and chemical stability makes SiC an attractive candidate for electronic applications. A vertical alignment of nematic liquid crystal by ion beam exposure on the SiC thin film surface was achieved. The about $87^{\circ}$ of stable pretilt angle was achieved at the range from $30^{\circ}$ to $45^{\circ}$ of incident angle. The good LC alignment is main-tained by the ion beam alignment method on the SiC thin film surface at high annealing temperatures up to 300.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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