플라즈마 화학 증착법에 의한 $Al_2$ $O_3$ 단층피막과 $Al_2$ $O_3$ /( $Ti_{0.5}$ $Al_{0.5}$ )N 이중피막의 제조 및 특성에 관한 연구
(A Study on the Properties of $Al_2$ $O_3$ and $Al_2$ $O_3$ /( $Ti_{0.5}$ $Al_{0.5}$ )N Coatings Produced by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
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- 한국표면공학회지
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- 제34권2호
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- pp.105-114
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- 2001