• 제목/요약/키워드: ion plating

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TiN 피막처리된 Co-Cr계 교정용 선재의 마찰저항력 (The Frictional Resistance Of Tin Ion-Plated Co-Cr Orthodontic Wire)

  • 이호규;권오원;김교한
    • 대한치과교정학회지
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    • 제28권1호
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    • pp.123-133
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    • 1998
  • TiN ion-plating된 Co-Cr 선재(.016", .016"x.022")와 ion-plating되지 않은 선재(.016", .016"x.022")를 이용하고, 3 가지 종류의 브라켓(TiN ion-plating된 금속 브라켓, 세라믹 브라켓 및 플라스틱 브라켓)을 대상으로 마찰실험을 행하고, 거기에서 얻어진 마찰 특성곡선과 곡선으로부터 구한 최대 정지마찰력, 그리고 선재와 브라켓의 표면양상을 주사전자현미경으로 관찰하여 TiN ion-plating의 효과를 검토한 결과 다음과 같은 결론을 얻었다. $\cdot$3가지 종류의 브라켓에 TiN ion-plating된 선재를 사용한 경우의 마찰력은 TiN ion-plating되지 않은 선재를 사용한 경우의 마찰력보다 각각 통계학적으로 유의성있게 낮았다(p<0.05). $\cdot$3가지 종류의 브라켓에 원형 선재를 사용한 경우의 마찰력은 각형 선재를 사용한 경우의 마찰력보다 각각 통계학적으로 유의성있게 낮았다(p<0.05). $\cdot$원형 선재를 사용한 경우 TiN ion-plating되지 않은 선재를 사용한 경우가 TiN ion-plating된 선재를 사용한 경우보다 선재 및 브라켓 슬롯의 표면이 더욱 거친 양상을 나타내었다. $\cdot$각형 선재를 사용한 경우 전반적으로 원형 선재를 사용한 경우보다 선재 및 브라켓 슬롯의 표면이 더욱 거친 양상을 나타내었다. $\cdot$TiN ion-plating된 원형 선재를 사용한 경우 정지마찰력과 운동마찰력의 차는 별로 없었으나 TiN ion-plating된 각형 선재를 사용한 경우 정지마찰력은 운동마찰력보다 다소 높았다. $\cdot$TiN ion-plating되지 않은 선재를 사용한 경우가 TiN ion-plating된 선재를 사용한 경우에 비해 정지마찰력이 운동마찰력보다 휠씬 높았다.

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이온 플레이팅 응용 스퍼터링 장치에 관한 연구 (A Study on the Sputtering System Using Ion Plating Technique)

  • 정연호;최영욱
    • 전기학회논문지
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    • 제56권12호
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    • pp.2179-2183
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    • 2007
  • In this paper, to produce sheet plasma with high density for ion plating, we designed magnetic circuit of ion plating device consisting of solenoid coil and rectangular permanent magnet. And, we analyzed the effects of the magnetic field distribution using FEM (Finite Element Methode). Additionally, we made a sputtering system including ion plating technique on the basis of the design and verified the possibility of the sheet plasma application for advanced sputter system.

TiN Ion-Plating이 교정용 브라켓의 접착강도에 미치는 영향 (The Effect of Tin Ion-plating on the Bond Strength of Orthodontic Bracket)

  • 김석용;권오원;김교한
    • 대한치과교정학회지
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    • 제27권1호
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    • pp.157-171
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    • 1997
  • TiN ion-plating이 교정용 브라켓의 접착강도에 미치는 영향을 알아보기 위하여 세 종류의 서로 다른 기저면형태를 가지는 스테인레스 스틸제의 브라켓을 선택하고, TiN ion-plating 된 브라켓과 ion-plating 되지 않은 브라켓을 치아에 접착시켰을 때 초기 및 장기접착강도, 접착계면의 주사전자현미경 관찰, 파단면의 주사전자현미경 관찰을 비교 분석하여 다음과 같은 결론을 얻었다. ${\cdot}$ TiN ion-plating을 하지 않은 경우 24 시간 후의 접착강도는 Micro-Loc형이 $5.89{\pm}1.77MPa$, Foil Mesh형이 $4.27{\pm}1.12MPa$, Undercut형이 $2.64{\pm}0.58MPa$로 Micro-Loc형 이 가장 높았고, 그 다음이 Foil Mesh형 그리고 Undercut 형의 순으로 나타났다(P<0.05). ${\cdot}$ TiN ion-plating시 24시간 투의 접착강도는 Micro-Loc형이 $6.26{\pm}1.51MPa$, Foil Mesh형이 $7.45{\pm}2.01MPa$, Undercut형 이 $2.93{\pm}0.84 MPa$로 ion-plating 하지 않은 경우와 달리 Foil Mesh형이 Micro-Loc형보다 오히려 높게 나타났고, Undercut형이 역시 가장 낮은 접착강도를 나타내었다(P<0.05). Ion-plating 유무에 따른 24시간 후의 접착강도는 3가지형 모두에서 ion-plating시 증가하였으나 Foil Mesh형에서만 유의한 증가가 있었다(P<0.001). ${\cdot}$ 장기침적시 ion-plaling의 유무에 관계없이 전반적으로 초기(1일)접착강도보다 증가하였으며 접착력의 안정성을 나타내었다. ${\cdot}$ 접착계면의 주사전자현미경 관찰 결과 브라켓 기저면의 형태나 ion-plating 유무에 관계 없이 레진이 브라켓 기저면으로 잘 퍼져들어가 브라켓과 치아와의 사이에 견고한 접착면을 나타내었고, 장기침적의 경우도 같은 양상을 나타내었다. ${\cdot}$ 파단면의 주사전자현미경 관찰에서는 다양한 파괴 양상이 나타났다.

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Ion-plating법에 의하여 TiN 피막처리된 교정용 장치물의 변색성 및 내식성 (DISCOLORATION AND CORROSION RESISTANCE OF TiN-COATED ORTHODONTIC APPLIANCES PRODUCED BY ION-PLATING METHOD)

  • 김진희;권오원;최영윤
    • 대한치과교정학회지
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    • 제23권3호
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    • pp.327-340
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    • 1993
  • The purpose of this study was to estimate the possibility of practical application of TiN ion-plating method on orthodontic appliances. TiN was coated on the surface of orthodontic stainless steel roll band by means of ion-plating method, and colorimetric properties of its obtained TiN film were investigated by using color analyzer. Also its corrosion and discoloration properties were compared with those of non ion-plated stainless steel roll band by using immersion test, which was done in 1N HCl solution for 10 days. Both weight changes and surface corrosion appearances of specimens for each day were respectively investigated by using electronic weighing machine and SEM(Scanning Electron Microscope). The discoloration degress of TiN-coated specimens immersed in 1N HCl solution were investigated by using color analyzer and then judged by N.B.S.(National Bureau of Standard) Unit. The results of this study were summarized as follows. o TiN ion-plated films showed the hue of 5Y, the value of 7, and the chroma of 3 by Munsell notations. o The weight losses and surface changes of TiN ion-plated specimens immersed in 1N HCl solution were less than those of non ion-plated specimens. It was shown, therefore, that the corrosion resistance was significantly improved by TiN ion-plating. o The discoloration degrees of non ion-plated specimens were too significant to be examined by color analyzer, while those of TiN ion-plated specimens were slight when judged by N.B.S. Unit. It was also apparent, therefore, that the anti-discoloration property was significantly improved by TiN ion-plating.

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전기투석에 의한 니켈도금 폐수처리 공정에서 한계전류밀도와 불균질 이온교환막의 재생 (The Limiting Current Density and the Regeneration of a Heterogeneous Ion Exchange Membrane in a Nickel Plating Rinse Waters Treatment Process by Electrodialysis)

  • 윤용수
    • 환경위생공학
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    • 제16권2호
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    • pp.38-46
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    • 2001
  • In this work, the heterogeneous ion exchange membrane was used in a electrodialysis apparatus to treat a Ni planting rinse water because the heterogeneous ion exchange membrane was excellent efficiency as compared with low manufacturing cost, was easy to make, and had a good mechanical properties. For a regeneration of membrane and to obtain the optimal condition for a scale-up of apparatus after treating Ni plating rinse water, we would find about the limiting current density and the concentration polarization. When the Ni plating rinse water 150mg/L was treated with the electrodialysis apparatus using the heterogeneous ion exchange membrane, the limiting current density was about $1.49{\;}mA/\textrm{cm}^2$. And the limiting current density increased with the flow rate and concentration of Ni plating rinse water. We recognized that the used membrane could be reused by periodic backwashing because efficiency was constant when the membrane was backwashed after treating wastewater.

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교정용 장치물에 대한 TiN Ion Plating의 응용 (APPLICATION OF TIN ION-PLATING TO THE ORTHODONTIC APPLIANCE)

  • 권오원;김교한
    • 대한치과교정학회지
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    • 제21권1호
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    • pp.7-16
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    • 1991
  • To estimate the possibility of the application of TiN ion-plating to the orthodontic appliance, colorimetric properties, and characteristics of ion-plated film as well as adhesive strength of TiN film to the substrate and mechanical properties of ion-plated orthodontic appliance were investigated. The obtained results were as follows: 1) TiN ion-plated film had the colorimetric properties which were the hue of about 2.5 Y, the brightness of about 6, and the chroma of about 4 by the standard color chip of JIS. 2) TiN ion-plated film was $2{\mu}m$ in thickness and its deposition pattern was rather irregular. 3) TiN phase was confirmed on the X-ray diffraction pattern. 4) Critical load for delamination of ion-plated film from stainless steel band was 10N. 5) Tensile and yield strength of ion-plated specimen was increased about 10Kg $f/mm^2$, while elongation was decreased $1\%$ compairing to the values of the non ion-plated specimen.

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MgO 박막장치의 자기회로 설계에 관한 연구 (A Study on the Design of Magnetic Circuit for MgO ion plating Device)

  • 정연호;최영욱;강도현;장석명
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2001년도 하계학술대회 논문집 B
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    • pp.723-725
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    • 2001
  • Ion plating method using plasma is faster as several times than electron beam plating method in plating process. Recently, a variety of techniques for this method are being researched. In this paper to produce sheet plasma with high density for ion plating we designed magnetic circuit of MgO plating device consisting of solenoid coil, rectangular permanent magnet. And, we researched on the effect of those by analyzing magnetic field distribution using FEM.

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증착방법에 따른 Al 피막의 증착율 및 증기분포에 관한 연구 (Study on the deposition rate and vapor distribution of Al films prepared by vacuum evaporation and arc-induced ion plating)

  • 정재인;정우철;손영호;이득진;박성렬
    • 한국진공학회지
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    • 제9권3호
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    • pp.207-215
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    • 2000
  • 진공증착 및 이온플레이팅 방법을 이용하여 냉간 압연된 강판상에 알루미늄피막을 형성시킨 후, 증발율 및 증기분포 변화를 측정하고 각 증착방법에서의 증발율에 따른 증기분포 변화를 비교 및 검토하였다. 본 실험에서의 이온플레이팅은 증발원 근처에 이온화 전극을 설치하는 방법으로 고전류 아크방전을 유도하여 $10^{-4}$ Torr 이하에서도 기존의 이온플레이팅에 비해 높은 이온화율을 얻을 수 있는 아크방전 유도형 이온플레이팅(Arc-induced ion Plating; AIIP) 방법을 이용하였다. 전자빔을 이용하면서 알루미나 크루시블을 사용하여 알루미늄을 증발시킬 경우 분당 2.0 $\mu\textrm{m}$이상의 높은 증발율을 얻을 수 있었으며, 이온플레이팅의 경우 이온화된 증기의 상호작용에 따른 산란 효과로 증발율이 다소 낮아짐을 알 수 있었다. $cos^{n/\phi}$로 이루어지는 증기분포의 결정인자(n)의 값이 진공증착의 경우는 1에 근접하는 것으로 나타났고 AIIP의 경우는 2 또는 그보다 더 큰 값으로 이루어지는 것을 확인하였다. 이로부터 이온플레이팅의 경우 이온화율 또는 기판 바이어스 전압의 효과가 다른 조건에 비해 증기분포에 더 크게 영향을 미치는 것을 확인할 수 있었다.

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Ion Plating법에 의해 제작된 MgO 박막의 특성 및 AC PDP에의 응용 (The characteristics of MgO films prepared by Ion Plating and its applications to AC PDP)

  • 정동철;정희섭;신범재;황기웅
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1993년도 정기총회 및 추계학술대회 논문집 학회본부
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    • pp.255-257
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    • 1993
  • MgO(Magnesium Oxide) film was deposited by the Ion Plating method and the characteristics of the MgO films were analyzed by XRD and SEM. The MgO films prepared by Ion Plating were used in AC Plasma Display Panel and breakdown voltage, minimum sustain voltage and memory margin of fabricated panel were investigated.

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