In this paper, We studied polyethylene thin film to evaluate the effects of crystal structure on breakdown properties and the dielectric strength on the condition of impurity free. Bielectric strength of the finn obtained with self healing method that is able to test repeatedly on the same sample is about 3.58 MV/cm at 0.73 $\mu\textrm{m}$. The film shows outstanding crystal domain an\ulcorner crystal structure. The size of spherulites obtained reach 150-200 $\mu\textrm{m}$ in diameter.
As a simulation of solvent-assisted dyeing, the solvent effects on the structure of polyethylene terephthalate(PET) film treated by dimethylformamide(DMF) were investigated. The effects were evaluated by the atomic force microscopy(AFM) topographical changes and FT-IR spectrum analysis. PET films treated with DMF at $70^{\circ}C$ for several different treatment time(20, 40, and 60 min). AFM topography showed that, with increasing treatment time by DMF, PET surfaces became smooth due to the swelling phenomenon and the rigid structure changed into flexible state which was contributed to increase the surface area of PET films. FT-IR spectrum analysis showed that DMF and molecular chains of PET interacted each other via their polar carbonyl groups and that DMF also affected the out-of-plane bending vibration mode of phenyl ring of PET.
Metal-insulator type, nano-granular soft magnetic films have been reviewed from the viewpoint of high frequency magnetic materials. The formation of nano-granular structure is related to the magnitude of heat of formation of intergranule materials. Variation of the ratio of granule phase to intergranule phase in the film is found to produce various characteristics in the magnetic properties of the film. The HRTEM observation reveals that neighboring granules in the film with above 60 at.% Co, contact at considerable points and the films show soft magnetic properties which are explainable in terms of the random anisotropy model for nano-crystalline materials. Addition of Ni group elements in Co-O based films enhances their anisotropy field up to 400 Oe and they exhibit excellent frequency response of permeability. Also, large electromagnetic noise suppression effect is demonstrated as one of their potential applications.
In recent years, there has been large interest in the fabrication of the self organized nanoscale structures since not only their potential utilization in electronic, optoelectronic, and magnetic devices but also their fundamental interest such as uniformity and regularization. An attractive candidate of these materials is anodic porous alumina film(Al$_2$O$_3$) which is formed by the anodization of aluminum in an appropriate acid solution. In this study to fabricate the porous alumina film with very uniform and nearly parallel pores the anodization was carried out under constant voltage mode in 0.3M oxalic acid as an electrolyte. The hexagonally ordered arrays with a few $\mu\textrm{m}$ in size two-dimensional polycrystalline structure were obtained of which pore densities were 1.1${\times}$10$\^$10//$\textrm{cm}^2$.
Tungsten silicied (WSix) has been widely used for interconnection line to improve the speed and reliability of devices. It is known that WSix formed by silane reduction has poor step coverage and poor adhesion. In this research, WSix by dichlorosilane reduction showed excellent adhesion in cellophane adhesive tape test, and improved step coverage by two times. The crystal structure of the as-deposited WSix film by silane reduction was transformed from the hexagonal to the tetragonal structure during annealing treatment, while that by dichlorosilane reduction kept the stable tetragonal structure. The fluorine concentration in the WSix film by dichlorosilane was lower than that by silane.
In this work, the nanocrystalline ZnO/polycrystalline(poly) aluminum nitride(AlN)/ Si-layered structure was fabricated for humidity sensor applications based on surface acoustic wave(SAW). The ZnO film was used as a sensitive material layer. The ZnO and AlN(0002) were deposited by a sol-gel process and a pulse reactive magnetron sputtering, respectively. The ZnO sensitive films coated on AlN have a hexagonal wurtzite structure after the thin films annealed at $400^{\circ}C$, $500^{\circ}C$ and $600^{\circ}C$. The surface of the film exhibits sponginess and a nanometer particle size(below 50 nm). The largest shift in the frequency response was at approximately 200 kHz(the relative humidity: 10 %~90 %) for the structure annealed at $400^{\circ}C$. The effect of the change in the environmental temperature on the frequency response of the SAW humidity sensor was also investigated.
To investigate the possibility of the $ZrO_2$ buffer layer as the insulator for the Metal-Ferroelectric-Insulator-semiconductor (MFIS) structure, $ZrO_2$ and $SrBi_2Ta_2O_9$ (SBT) thin films were deposited on the P-type Si(111) wafer by the R.F. magnetron-sputtering method. According to the process with and without the post-annealing of the $ZrO_2$ buffer layer and SBT thin film, the diffusion amount of Sr, Bi, Ta elements show slight difference through the Glow Discharge Spectrometer (GDS) analysis. From X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) results, we could confirm that the post-annealing process affects the chemical binding condition of the interface between the $ZrO_2$ thin film and the Si substrate. Compared to the MFIS structure without the post-annealing of the $ZrO_2$ buffer layer, memory window value of MFlS structure with post-annealing of the $ZrO_2$ buffer layer were considerably improved. The window memory of the Pt/SBT (260 nm, $800^{\circ}C)/ZrO_2$ (20 nm) structure increases from 0.75 to 2.2 V under the applied voltage of 9 V after post-annealing.
본 논문에서는 고주파수 무선 신호 전송을 위한 AC 커플링(Coupling) 기반의 평면 나선형 인덕터를 제안하고, 이에 대한 다양한 구조의 인덕터를 설계, 모델링 및 특성을 분석하였다. 커패시턴스의 의한 영향을 줄이기 위해서는 두 박막 인덕터가 서로 평행하게 위치함으로서 인덕터 간의 커패시턴스를 줄여야 한다. 이를 위해 두 가지 구조를 제안하였다. 첫 번째 구조는 inter-diagonal 구조로 평행한 두 인덕터의 도선 부분이 겹치지 않게 만든 구조이다. 이 구조의 경우 비록 평행하게 겹치지는 않지만 도선의 두께와 폭이 좁으므로 서로 엇갈리는 위치에 도선이 위치하더라도 실제 커패시턴스의 변화가 작아서 전체적인 S-파라미터의 특성이 크게 변하지 않았다. 두 번째 구조는 On-chip형 구조로 두 박막 인덕터가 평행하게 존재하지만 마주보지 않게 사선형으로 배치한 구조이다. 이 구조의 경우 박막 인덕터 간의 수평거리가 길어짐에 따라 두 번에 걸쳐서 일어나는 공진이 한 번으로 줄어드는 것을 볼 수 있는데, 이는 두 인덕터 간의 거리가 멀어짐으로 인해 박막 인덕터 간의 커패시턴스 영향이 점점 줄어들기 때문이다.
In the preparation of the layered $BaTiO_3$ thin films with high performance, the new stacking method using the continuous cooling of the substrate was introduced. Amorphous/polycrystalline $BaTiO_3$ layered structure was confirmed by SEM and index of refraction. The layered $BaTiO_3$ thin films formed by the new stacking method showed such a high dielectric constant that the layered structure could not be explained by a stacking structure of the two defined layers but could only be explained by multi-layered structure, i.e. amorphous/micro crystalline/polycrystalline structure. The layered $BaTiO_3$ thin film with a thickness of 240 nm showed higher capacitance per unit area and breakdown strength than the double layered $BaTiO_3$ thin film prepared by the conventional stacking method. And well defined ferroelectric hysteresis leer was observed in the layered $BaTiO_3$ thin film with a thickness of 200 nm.
In order to investigate the characteristics of the gradient fluorinated polyacrylate and polyurethane latex blend films, the fluorinated polyacrylate emulsion and the polyurethane emulsion were synthesized, and then the both emulsions were blended at a series of ratios. The effects of content of the fluorinated polyacrylate on the gradient structure and surface property of the blended films were assessed by AFM, XPS, SEM-EDX and surface free energy measurements. It appeared that, while the content of the fluorinated polyacrylate latex was up to 30%, the fluorinated polyacrylate particles were selectively gathered on the film-air (F-A) and film-glass (F-G) interfaces at room temperature. When the content of the fluorinated polyacrylate was under 30%, the gradient structure of fluorinated component was not evident. The further increasing of fluorinated polyacrylate in the mixed system facilitated the formation and enlargement of gradient structure, but the adhesion of film decreased a little.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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